磁共振成像質(zhì)量控制教材

磁共振成像質(zhì)量控制磁共振成像質(zhì)量控制教材第1頁(yè)MR圖像質(zhì)量磁共振圖像質(zhì)量評(píng)價(jià)指標(biāo)1.信噪比2.分辨率3.對(duì)比度

磁共振成像質(zhì)量控制教材第2頁(yè)MR圖像質(zhì)量信噪比（SNR）：圖像中有用信號(hào)與背景噪聲強(qiáng)度之比信噪比=信號(hào)值/噪聲值信噪比越大越好，圖像會(huì)更清楚，沒(méi)有顆粒噪聲提升信號(hào)值、降低噪聲值可提升SNR噪聲起源于磁體內(nèi)被檢組織和系統(tǒng)背景噪聲，噪聲來(lái)自整個(gè)成像對(duì)象；信號(hào)來(lái)自所選層面磁共振成像質(zhì)量控制教材第3頁(yè)MR圖像質(zhì)量

信噪比==k×質(zhì)子密度×體素體積×磁化量×(激發(fā)次數(shù))1/2BandNNNFOVNFOVThkKNSpexpyfx×=/K為常數(shù)，取決于組織特征主磁場(chǎng)強(qiáng)度、線圈、TR、TE等Thk為層厚；FOVx和FOVy為X和Y方向上視野大?。籒f為頻率編碼數(shù)；Np為相位編碼數(shù)；Nex為采集次數(shù)；Band為采集信號(hào)帶寬磁共振成像質(zhì)量控制教材第4頁(yè)MR圖像質(zhì)量影響SNR原因：－被檢組織特征（質(zhì)子密度高、短T1、長(zhǎng)T2）－主磁場(chǎng)場(chǎng)強(qiáng)－TR－TE－翻轉(zhuǎn)角－采集次數(shù)(NEX)－FOV－矩陣－層厚－接收帶寬－線圈類型磁共振成像質(zhì)量控制教材第5頁(yè)MR圖像質(zhì)量磁共振成像質(zhì)量控制教材第6頁(yè)MR圖像質(zhì)量對(duì)比度(contrast)：－對(duì)比度是指組織之間信號(hào)強(qiáng)度相對(duì)差異C=(S1–S2)/(S1+S2)－對(duì)比度越大，圖像層次感越好，病變?cè)斤@著對(duì)比噪聲比(CNR)：CNR=(S1–S2)/噪聲值＝SNR(A)－SNR(B)磁共振成像質(zhì)量控制教材第7頁(yè)MR圖像質(zhì)量影響對(duì)比度原因：－選取序列－TR－TE－TI－翻轉(zhuǎn)角－對(duì)比劑使用磁共振成像質(zhì)量控制教材第8頁(yè)MR圖像質(zhì)量對(duì)比度磁共振成像質(zhì)量控制教材第9頁(yè)MR圖像質(zhì)量空間分辨率：能夠分辨鄰接物體空間最小距離－空間分辨率為體素大小Z方向上分辨率=層厚X方向上分辨率FOVx/Nf(頻率編碼數(shù))；Y方向上分辨率FOVy/Np(相位編碼數(shù))－分辨力越高，物體細(xì)節(jié)越清楚磁共振成像質(zhì)量控制教材第10頁(yè)MR圖像質(zhì)量影響空間分辨率原因：－FOV－矩陣－層厚磁共振成像質(zhì)量控制教材第11頁(yè)成像參數(shù)選擇理想成像：高SNR、高CNR、高空間分辨率、短掃描時(shí)間（SNR是最主要原因）一個(gè)序列參數(shù)改進(jìn)會(huì)伴有其它參數(shù)損失：空間分辨力與圖像信噪比是相互矛盾（比如NEX對(duì)于SNR和掃描時(shí)間，層厚對(duì)于SNR和空間分辨率）有些參數(shù)受設(shè)備性能限制（比如最小TE、最小層厚）磁共振成像質(zhì)量控制教材第12頁(yè)成像參數(shù)選擇序列可控制參數(shù)

－TR－TE－翻轉(zhuǎn)角－采集次數(shù)(NEX)－FOV－相位編碼數(shù)－頻率編碼數(shù)－矩陣－層方向－層數(shù)－層厚－層位置－層間隔－接收帶寬－回波數(shù)－線圈類型磁共振成像質(zhì)量控制教材第13頁(yè)成像參數(shù)選擇TR延長(zhǎng)造成：(1)信噪比增加

(2)T1加權(quán)成份降低（對(duì)于T1WI是缺點(diǎn)，對(duì)于PDWI和T2WI是優(yōu)點(diǎn)）(3)可掃描層數(shù)增加(4)掃描時(shí)間延長(zhǎng)(5)特異吸收率（SAR）降低TR縮短造成：(1)信噪比降低(2)T1成份增加

(3)可掃描層數(shù)降低

(4)掃描時(shí)間縮短(5)SAR增加1.

TR影響（從SNR、對(duì)比、分辨率、時(shí)間等考慮）磁共振成像質(zhì)量控制教材第14頁(yè)成像參數(shù)選擇TE延長(zhǎng)造成：(1)信噪比降低

(2)最小接收頻帶縮小(3)T2成份增加(4)最小層厚降低

(5)最小視野降低(6)掃描層數(shù)降低2.

TE影響TE縮短造成：(1)信噪比增高(2)最小接收頻帶加大

(3)T2成份降低(4)最小層厚加大

(5)最小視野加大

(6)掃描層數(shù)增加磁共振成像質(zhì)量控制教材第15頁(yè)成像參數(shù)選擇3.

翻轉(zhuǎn)角影響

加大翻轉(zhuǎn)角造成：(1)信噪比增加

(2)在GRE序列中，主要成T1加權(quán)效應(yīng)(3)特異吸收率增加

降低翻轉(zhuǎn)角造成：(1)信噪比降低

(2)在GRE序列中，主要成T2*加權(quán)效應(yīng)(3)特異吸收率降低磁共振成像質(zhì)量控制教材第16頁(yè)成像參數(shù)選擇增加視野造成：(1)信噪比增加(2)最小接收頻帶縮小(3)最小TE縮短(4)空間分辨率下降(5)所觀察區(qū)域增大(6)產(chǎn)生卷折偽影機(jī)會(huì)降低4.

視野影響降低視野造成：(1)信噪比下降(2)最小接收頻帶加寬

(3)最小TE延長(zhǎng)

(4)空間分辨率增加(5)所觀察區(qū)域減小

(6)產(chǎn)生卷折偽影機(jī)會(huì)增加磁共振成像質(zhì)量控制教材第17頁(yè)成像參數(shù)選擇增加矩陣造成：(1)信噪比下降(2)在固定視野下，空間分辨率增加(3)相位方向矩陣增加，掃描時(shí)間延長(zhǎng)降低矩陣造成：(1)信噪比增加(2)在固定視野下，空間分辨率降低(3)相位方向矩陣增加，掃描時(shí)間縮短5.

矩陣影響磁共振成像質(zhì)量控制教材第18頁(yè)成像參數(shù)選擇增加層厚造成：(1)信噪比增加

(2)空間分辨率減小

(3)相同掃描層面時(shí)掃描范圍加大(4)部分容積效應(yīng)增加

(5)相同掃描層面數(shù)時(shí)特異吸收率加大6.

層厚影響降低層厚造成：(1)信噪比減小

(2)空間分辨率增加(3)相同掃描層面時(shí)掃描范圍加大減小

(4)部分容積效應(yīng)增加(5)相同掃描層面數(shù)時(shí)特異吸收率減小磁共振成像質(zhì)量控制教材第19頁(yè)成像參數(shù)選擇體素大小決定于視野矩陣層厚磁共振成像質(zhì)量控制教材第20頁(yè)成像參數(shù)選擇7.

采集次數(shù)影響

增加采集次數(shù)造成：(1)信噪比增加

(2)掃描時(shí)間延長(zhǎng)

降低采集次數(shù)造成：(1)信噪比下降

(2)掃描時(shí)間縮短磁共振成像質(zhì)量控制教材第21頁(yè)接收頻帶加寬造成：(1)信噪比降低(2)最小TE縮短(3)最小視野變小(4)最薄層厚變小(5)化學(xué)位移偽影減輕成像參數(shù)選擇8.接收頻帶（bandwidth）影響

接收頻帶縮窄造成：(1)信噪比增加

(2)最小TE延長(zhǎng)

(3)最小視野加大

(4)最薄層厚變厚

(5)化學(xué)位移偽影加重磁共振成像質(zhì)量控制教材第22頁(yè)成像參數(shù)選擇9.層間距影響磁共振成像質(zhì)量控制教材第23頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)磁共振成像質(zhì)量控制教材第24頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)1.運(yùn)動(dòng)偽影（1）圖像表現(xiàn)：相位編碼方向上鬼影、條狀影或含糊影磁共振成像質(zhì)量控制教材第25頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)1.運(yùn)動(dòng)偽影（2）產(chǎn)生原因：生理運(yùn)動(dòng)自主運(yùn)動(dòng)相位錯(cuò)位：相位編碼與數(shù)據(jù)讀出之間有一段延遲時(shí)間磁共振成像質(zhì)量控制教材第26頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)1.運(yùn)動(dòng)偽影（3）賠償技術(shù)：心電賠償和心電門控呼吸賠償和呼吸門控預(yù)飽和技術(shù)抑制產(chǎn)生運(yùn)動(dòng)組織信號(hào)提升采集次數(shù)對(duì)自主運(yùn)動(dòng)可用帶子或墊子等固定改變相位編碼方向：只能改變偽影方向磁共振成像質(zhì)量控制教材第27頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)磁共振成像質(zhì)量控制教材第28頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)磁共振成像質(zhì)量控制教材第29頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)2.包裹偽影（wrap-aroundartifact)（1）圖像表現(xiàn)：FOV以外物體影像翻轉(zhuǎn)后重合于FOV內(nèi)另一端見(jiàn)于相位編碼方向（2）產(chǎn)生原因：FOV小于解剖磁共振成像質(zhì)量控制教材第30頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)磁共振成像質(zhì)量控制教材第31頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)2.包裹偽影（3）賠償技術(shù)：擴(kuò)大FOV在相位編碼方向過(guò)采樣（oversample)解剖部位最小直徑方向置于相位編碼方向使用飽和帶抑制不主要區(qū)域磁共振成像質(zhì)量控制教材第32頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)3.化學(xué)位移偽影（1）產(chǎn)生原因：因?yàn)樗|(zhì)子共振頻率高于脂肪質(zhì)子共振頻率3.5ppm(1.5T相當(dāng)于220Hz)，同一體素內(nèi)脂肪與水信號(hào)位置彼此分離磁共振成像質(zhì)量控制教材第33頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)（2）圖像表現(xiàn)：表現(xiàn)為脂肪與水界面上出現(xiàn)黑色或白色帶狀影發(fā)生在頻率編碼方向磁共振成像質(zhì)量控制教材第34頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)（3）賠償技術(shù)：增加接收帶寬縮小FOV預(yù)飽和技術(shù)：使脂肪或水信號(hào)被預(yù)飽和，不再產(chǎn)生信號(hào)改變頻率編碼方向磁共振成像質(zhì)量控制教材第35頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)4.磁敏感偽影（1）產(chǎn)生原因：因?yàn)椴灰粯咏M織磁化率差異，造成其進(jìn)動(dòng)頻率及相位差異（2）圖像表現(xiàn)：因失相位效應(yīng)而出現(xiàn)信號(hào)缺失或高、低信號(hào)環(huán)影磁共振成像質(zhì)量控制教材第36頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)磁共振成像質(zhì)量控制教材第37頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)（3）賠償技術(shù)：防止病人攜帶金屬物進(jìn)入掃描間用SE序列代替GRE序列使用較短TE增加接收帶寬磁共振成像質(zhì)量控制教材第38頁(yè)MR偽影及賠償技術(shù)5.截?cái)鄠斡埃?）產(chǎn)生原