ICP-Interference參考資料說明

OpticalSpectroscopyInstrumentsICP-AES

Interference

&

BackgroundCorrection

干擾及背景校正ICP-OES為相對量測方法

(Relative

Method)●

定量分析時待測樣品濃度,為相對於根據(jù)校正標準品之儀器訊號所製作之檢量線(校正曲線)對應而得●

假設:相同濃度之校正標準品與待測樣品會產(chǎn)生相同之儀器訊號反應●

實際狀況:由於干擾之存在,上述假設常有出入常見干擾(1)●

基質(zhì)(Matrix)或物理(physical)干擾

由於不同之表面張力surfacetension,固態(tài)溶解 量dissolvedsolidscontent,粘度viscosity,以及溶 液密度density將導致霧化器吸取速率及效率 之改變.

常見干擾(2)化學(Chemical)干擾

ICP-OES由於電漿之高溫,因此為相對化學干 擾較不嚴重之檢測方法常見干擾(3)●

離子化(Ionization)干擾

因為電漿中存在大量更容易游離物種而 改變電漿 中電子/離子組成,因而影響分 析物離子或原子於電漿中之濃度常見干擾(4)光譜(Spectral)及/或背景(Background)干擾

其他同時存在元素之發(fā)射光譜太接近分析物光譜或背景發(fā)射強度變化而影響定 量分析克服物理干擾●

基質(zhì)匹配(Matrixmatching)

●樣品溶液中存在之試劑,亦須添加相同濃 度於校 正標準溶液中●

稀釋

(Dilution)●

內(nèi)標準法(Internalstandardization)●

標準添加法(Standardadditions)內(nèi)標準法(1)

InternalStandardMethod●內(nèi)標準品為用來補償待測物元素之離子或原子數(shù)量之改變,而造成之可能訊號強度增強或減弱.●內(nèi)標準品法是由測量待測元素與另一等量加入所有標準品/樣品中之元素(內(nèi)標準品,InternalStandard,IS)的信號強度比值(ratiooftheintensity)來進行定量分析.選擇內(nèi)標準品條件(1)●內(nèi)標準品之濃度必須於各溶液中均保持一樣.

--高純度●內(nèi)標準品加入溶液的體積應愈少愈好.

●內(nèi)標準品之添加濃度,應產(chǎn)生足夠訊號強度,以提供良好之訊噪比(goodsignaltonoiseratio)選擇內(nèi)標準品條件(2)●內(nèi)標準品及待測元素在電漿中應具有類似之激發(fā)能量(excitationpotentials)

●

較能配合電子轉(zhuǎn)移能階形式及波長選擇內(nèi)標準品條件(3)●

Scandium(Sc),yttrium(Y)andindium(In)為常用之內(nèi)標準品

●

這些均不常見於樣品基質(zhì)之中.●

須確定各波長均無光譜干擾.

●分析元素不會對內(nèi)標準品波長產(chǎn)生干擾

●內(nèi)標準品不會對分析元素波長產(chǎn)生干擾●

為求最佳精確性,最好選擇多重波長校正結(jié)果說明(1)結(jié)果說明(2)●內(nèi)標準品於樣品中測試時,Internalstandardratio比值應接近1.●

當比值不為1,則分析元素之訊號強度將採取適當之修正

●Ratios>1,分析物濃度結(jié)果將調(diào)低

●Ratios<1,分析物濃度結(jié)果將調(diào)高

Ratio=IIS(sample)/IIS(std1)

Corr.ConcValue

analyte=Canalyte/Ratio內(nèi)標準品添加方法1.事先於所有樣品及標準品中加入---技術(shù)?。?！2.於第三泵通道中直接吸入標準添加法

StandardAdditionMethod標準添加法(1)●

當校正標準品無法有效匹配樣品複雜基質(zhì)時使用.例如:廢液槽,lubricatingoil…●

將樣品分成完全相同之三(或四)等份,並由此三(或四)等份進行校正曲線之製作.

●addition0=sample+NOSpike

●addition1=sample+StandardSpike

●addition2=sample+StandardSpike標準添加法(2)●

由於樣品存在於各標準添加瓶中為等量,因此基質(zhì)影響抵銷.●樣品濃度是由檢量線外插至X軸截距取負值而得.●

若所有樣品均為同一基質(zhì),則接續(xù)之樣品可繼續(xù)沿用此檢量線.●若樣品基質(zhì)改變,則添加曲線必須依不同之基質(zhì)而重新製作!!!標準添加法檢量線圖標準添加法規(guī)劃範例克服離子化干擾●

影響:

原子光譜線信號增強,離子光譜線減弱●

調(diào)整最佳化觀測高度(垂直式電漿)

●

Avoidareasintheplasmawhereeasilyionizableelements (Ca,Mg,Na,K)caninterfere●

加入游離抑制劑,e.g.,LiorCs(通常用於水平式電漿)●

基質(zhì)匹配

●

Consistencyinstandardandsamplesolutionmatriceswill makealterationsinionandatompopulationnegligible

●

Concentrationofelementsinstandardsshouldbe equaltothesample光譜干擾-影響常見光譜干擾源Concomitantbands Argon 300-600nm OH 281.0-294.5nm&306.0-324.5nm NH 302.2-380.4nm(336.0mostintense) NO 195.6-345.9nm(200to280mostintense)克服光譜干擾●

更換分析使用波長●

選用另一級(order)光譜

●Avoidoverlapfromnearbypeakswhenpossible●

尋找最佳化循跡視窗.Optimizepeaktrackingwindow●

稀釋樣品

●

僅適用於分析物濃度遠高於干擾物濃度時.克服背景干擾●

背景校正

Backgroundcorrection

●OffPeak

●PolynomialPlotted●觀測高度選擇Viewingheightselection

●AvoidOHandNOstructurebyoptimizing viewingheight●更換分析使用波長●選用另一級(order)光譜單點校正

Off-PeakBCtruebgdmeasured兩點(Linear)

Off-PeakBCPolynomialPlottedBackgroundCorrection(PPB)於波峰左右兩邊各取六點,擬合成曲線.FitsarangeofcurvestothebackgrounddataAllowsacontingencyforsignalnoiseinthemodelIntelligentlyselectspointsandcurveorderuntilerrorisminimized於波峰掃描過程中完成背景校正資訊收集noadditionalscantimeneededreducesmeasurementtimeby30-50%PolynomialPlottedBackgroundCorrectionpointsselectedingroupsofsixuntilcurvefitsuitsbothsidesofpeakrejectedcurvesnotsuitableforbothsides空白值Blank所有非來自於樣品本身而在分析時能被偵測到的元素或化合物都是空白值來源分析環(huán)境試劑實驗用器皿分析者疏忽或不良之分析技術(shù)克服干擾方式:●Selectanalternatewavelength●Changegratingordertoeliminateoverlappi