硫酸鹽光亮鍍銅清潔生產(chǎn)技術(shù)

硫酸鹽光亮鍍銅清潔生產(chǎn)推薦技術(shù)技術(shù)說明（=1\*romani）工藝規(guī)范成分及工藝參數(shù)配方1配方2配方3硫酸銅（g/L）150~220180~240160~240硫酸（g/L）50~7045~6040~80四氫噻唑硫銅（g/L）0.0005~0.001十二烷基硫酸鈉（g/L）0.05~0.2苯基聚二硫丙烷磺酸鈉（g/L）0.01~0.02聚乙二醇（g/L）0.03~0.05氯離子（ml/L）20~8020~8030~120210=1\*GB3①開缸劑（ml/L）2~5210A=2\*GB3②（ml/L）0.3~1.5210B=3\*GB3③（ml/L）0.3~1.5VMACIA=4\*GB3④開缸劑（ml/L）0.5~1VBACIA=5\*GB3⑤補充劑（ml/L）1.5~2.5溫度（℃）10~2520~4018~40電流密度（A/dm2）2~32.5~30.5~3陰極移動需要需要需要陽極材料磷銅板磷銅板磷銅板（=2\*romanii）溶液成分作用和影響硫酸銅：硫酸銅含量控制在150~220g/L范圍內(nèi)。如銅含量過低，允許工作電流密度小，含量過高，受溶解度限制，將會有結(jié)晶析出。硫酸：硫酸含量控制在50~70g/L之間，硫酸含量過低時，鍍液的分散能力下降，鍍層粗糙，陽極容易鈍化，含量過高鍍層脆性增大。四氫噻唑硫銅光亮劑：當含量過低時，鍍層不但不光亮，還會使鍍層出現(xiàn)條紋，含量低時鍍層光澤性差。四氫噻唑硫銅的添加量應(yīng)按通電量補加，其消耗量約1000A·h補充0.05g。在生產(chǎn)過程中按累計通電量定期補充，一般在下班前加入，應(yīng)少加勤加，不能一次加入過多。苯基聚二硫丙烷磺酸鈉：在鍍液中起光亮作用，含量若過多，鍍層不但不光亮還會使鍍層發(fā)霧，當含量太少時，高電流密度區(qū)鍍層粗糙。生產(chǎn)中累計通電量每通電1000A·h補充0.3g。氯離子：鍍液中必須有少量氯離子才能得到全光亮鍍層，含量一般控制在0.02~0.08g/L范圍。含量過低，整平性能和鍍層光亮度均下降，并易產(chǎn)生光來能夠樹枝狀條紋，嚴重時鍍層粗糙甚至燒焦，過高時，鍍層光亮度也下降，光亮區(qū)變窄，這與因為光亮劑不足造成的結(jié)果完全一樣，因此要經(jīng)常檢查鍍液中氯離子含量，以鹽酸或氯化銅形式加入。有機添加劑：聚乙二醇是一種非離子型表面活性劑，在鍍液中能提高陰極極化，使鍍層的晶粒更為均勻、細致和緊密，還能消除銅鍍層產(chǎn)生針孔和麻點。鍍液中若不加入表面活性劑則不能得到全光亮和高度整平的鍍層。但是由于其吸附作用較強，會附在零件表面上產(chǎn)生一層憎水膜，以致影響銅鍍層作為底層或中間層與其他鍍層的結(jié)合力，故鍍后需在堿性溶液中用陽極電解或化學(xué)法進行除膜。（=3\*romaniii）操作條件的影響溫度：光亮鍍銅操作溫度是隨使用的光亮劑不同而異。升高溫度，可以使用較高的電流密度，增加溶液電導(dǎo)，鍍層光亮性和整平性提高，且韌性好。溫度過高，鍍層的低電流密度區(qū)會產(chǎn)生白霧或發(fā)暗，甚至得不到光亮鍍層，光亮劑也會加速分解。溫度過低，易在槽底及槽壁和陽極表面析出硫酸銅。攪拌：攪拌鍍液不僅能增加鍍層光亮度，還能提高工作電流密度，加快沉積速度，采用陰極移動方式較好。電源的影響：需要使用橋式整流器或三相全波整流器才能鍍?nèi)」饬铃冦~層。陽極：電解銅板在光亮硫酸鹽鍍銅溶液中容易產(chǎn)生銅粉，會使鍍層產(chǎn)生毛刺并粗糙，而且光亮劑消耗快。應(yīng)采用含磷質(zhì)量分數(shù)為0.1%~0.3%的磷銅合金陽極，但若采用含磷量過高的銅陽極，會使陽極溶解性能變差，使溶液中銅含量降低。要使用聚丙烯陽極套，防止陽極泥渣進入溶液，造成鍍層粗糙。（=4\*romaniv）雜質(zhì)的影響和去除一價銅：溶液中允許少量的一價銅存在，當含量高時，低電流密度區(qū)鍍層不光亮，有毛刺并粗糙。用稀釋2~3倍的雙氧水（加入量0.1~0.2ml/L）在攪拌下加入鍍槽將一價銅氧化成二價銅。油脂：當油脂含量高時，鍍層發(fā)花，呈霧狀并有針孔?？捎檬榛蛩徕c乳化后加入1~2g/L活性炭吸附后過濾。有機物：當有機物含量高時，鍍層發(fā)花，光亮度下降。除去方法：往鍍液中加2~3g/L活性炭，連續(xù)攪拌1h，靜置一夜過濾。氯離子：鍍液中允許氯離子含量為0.02~0.08g/L，當氯離子含量過高時，鍍層粗糙，高電流密度區(qū)易燒焦，低電流密度區(qū)鍍層發(fā)霧不光亮。除去方法：用1~3g/L鋅粉調(diào)成糊狀，在攪拌下加入鍍槽，再加入2g/L活性炭，連續(xù)攪拌1h，靜置一夜過濾。鍍液凈化處理：當鍍液使用到用調(diào)整光亮劑含量仍達不到應(yīng)有的質(zhì)量時，就應(yīng)對其進行凈化處理。凈化處理的方法：將鍍液加溫度至55℃左右，在攪拌下加入30%雙氧水1~2ml/L，繼續(xù)攪拌0.5~1h。加入3~5g/L活性炭再攪拌0.5~1h，靜置一夜后過濾。經(jīng)過雙氧水氧化、活性炭吸附后，鍍液中的各種有機光亮劑基本上全部除去，然后按原配方含量重新加入各種光亮劑。適用范圍（替代的落后技術(shù)）硫酸鹽光亮鍍銅溶液是在普通鍍液的成分中加入了適當?shù)奶砑觿纳屏隋円旱姆稚⒛芰?，并能直接鍍?nèi)∪饬恋腻儗樱∪チ朔敝氐臋C械拋光工序。主要環(huán)境、經(jīng)濟指標酸性硫酸鹽鍍銅是