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文檔簡介
1、SEI膜的成膜機理及影響因素分析作者:日期:I膜的成膜檄理及影警因素分析作者:范原:鯉BI春黠整數(shù):459更新畤: 2007-05-20攀收刖頃摘要:本文著重闡述了鯉雕子霜池中:a趣表面的固醴重解介面膜”(SEI膜)的成膜檄理,36通謾參考文獻分析了 SEI膜形成謾程中可能的影轡因素。概述:在液憩鯉雕子霜池首次充放甯謾程中,霜才亟材料輿雷解液在固液相介面上樊生反n,形成一/a覆蓋於重趣材料表面的金電化唇。道槿金屯化/a是一槿介面/a,具有固醴重解的特徵,是重子女磔彖醴郤是+的篌良醇醴u+可以金屯化JB自由地嵌入和脫出,因此道/a葩化膜被穗懸 固n重解介面膜” (solidelectrolyte
2、 interface),曾耦SEI膜”:。正趣也有唇膜形成,只是現(xiàn)F皆段其封霜池的影轡要速逮 小於負 趣表面的SEI膜,因此本文著重言寸言俞表面的SEI膜(以下所出現(xiàn)SEI膜未加明刖均指在負趣形成的)。負趣材料石墨輿雷解液介面上通謾介面反FS能生成SEI膜】,多槿分析方法也瞪明SEI膜硅寅存在曠7 1厚度名勺懸100-120nm,其余且成主要有各槿簸檄成分如Li2c。3、LiF、叫0、LiOH等和各槿有橫成分如 ROCO 2Li、ROLi、(ROCOzLi) 2 等。SEI膜的形成螫寸甯趣材料的性能羥生至信身重要的影警。一方面,SEI膜的形成消耗了部分鯉蹄子,使得首次充放重不可逆容量增加,降低
3、了雷趣材料的充放重效率;另一方面,SEI膜具有有檄溶剜不溶性,在有械重 解 溶液中能穗定存在,且溶剜分子不能通謾金電化膜,優(yōu)而能有效防止溶剜分子的共嵌入,避免了因溶剜分子共 嵌入封霜趣材料造成的破壤,因而大大提高了霜趣的返圈性能和使用毒命。因此,深入研究SEI膜的形成檄理成結橫、穗定性及其影警因素,36暹一步尊找改善SEI膜性能的有效途彳地, 一直都是世界重化阜界研究的熟黠。1.SEI膜的成膜械理早在上世幺己70年代,人fH在研究鯉金匾二次霜池日寺,就贊現(xiàn)在金腐鯉負趣上覆蓋著一JB金電化膜,膜在重池 充放重退圈中起著非常重要的作用t2 隨著封道槿現(xiàn)象研究的深入,研究者?提出了造葩化膜大致的形成
4、檄理,36依靠造些械理,相畿提出了黑槿金電化膜的模型。在造些模型富中,SEI膜模型得到人優(yōu)普遍的n 用,因此人優(yōu)曾1於把道槿葩化膜稠懸SEI膜。1.1. 金里金IS雷池早期,人憑封鯉金is甯池研究較多。射於鯉金is重池負趣上的奎電化膜,一般熬懸是趣其活凝的金匾u輿雷解液中的隙蹄子反鷹,反H崖物(大多不溶)在金IS鯉表面沉稹下來,形成一JB足多句厚的、能別阻止霜子通謾的金屯化 膜。典型的反IS式有:PC + 2 e - + 2Li+ - CH 3cH(OCO 2U) CH 2 (OCO 2Li)J + CH 3cH=CH 2 f2EC + 2e- + 2Li+ (CH2OCO2Li) 2J +
5、CH2=CH2f雎然金電化膜也不足以阻止鯉枝晶在充放雷謾程中的聚集,然而其研究結果封鯉蹄子霜池的檄理研究有趣其重要的指醇意羲。1.2. 鯉蹄子霜池鯉蹄子霜池一般用碳材料(主要是石墨)作負趣,在SEI膜形成的謾程中,負趣表面所贊生的反鷹輿金)8鯉負趣相類直 似。Aurbach等熬懸可能的反鷹是由EC、DMC、痕量水分及HF等輿Li+反)1形成(CH2OCO2Li)2、LiCH2cH20co2Li、CH3OCO2L、LiOH、Li2co3、LiF等覆蓋在負趣表面橫成SEI膜,同畤崖生乙烯、一氧化碳 等氟H。主要的化反11如下(霜解液以EC/DMC + 1 mol/L LiPF6例):2EC + 2
6、 e - + 2Li + (CH2OCO2U) 2 J + CH 2=CH2 fEC + 2 e - + 2Li + LiCH 2cH20co2Li JDMC + e-+Li+ CH3+ CH30C0 2U J +And/or CH sOLi J + CH 3OCOtraceH 2O + e _ +Li + LiOH J + 1/2H 2LiOH + e-+Li + U2O J + 1/2H 2H2O + (CH2OCO2LD2 Li2co3 J + CO2CO2 + 2e + 2Li + Li2c。3 J + COLiPF6 + H20 - LiF + 2HF + PF 3OPF6- + n
7、e - + nLi + LiF J + LixPFy JPFaO + ne - + nLi + LiF J +LixPOFy JHF + (CH 20co2l_i)2 J _L iCO 3 J LiF J + (CH2COCO 2H)2 ,H2CO3 (sol.)SEI膜持生是,直到有足多句的厚度和密性,能多句阻止溶州I分子的共插入,保瞪霜上亟退圈的穗定性。同日寺, 的崖生械理也推勤了口化成工蓼的篌化。不謾富前的研究仍慮於定性喀段,深入至定量的研究及各槿成分的影轡分析,符成懸下一步的研究重黠及黃隹黠,其研究結果也符更富有指厚意羲。2.SEI膜的影轡因素SEI膜作甯趣材料輿雷解液在霜池充放霜謾程
8、中的反鷹羥物,它的且成、名吉橫、密性輿穗定性主要是由霜趣和霜解液的性夬定,同畤也受到溫度、退圈次數(shù)以及充放重霜流密度的影轡。2.1. 趣材料的影轡負趣材料的各槿性包括材料槿類直、重趣且成及結橫、形憩特別是表面形憩封SEI膜的形成有著至重要的影警。人慳寸各槿型的碳負趣材料,包括熱解碳、碳SB隹、石油焦、人造石墨和天然石墨等暹行了深入研究【9-佝,結果表明材料的石墨化程度和結橫有序性不同,所形成SEI膜的各槿性也不同;即使堂寸同一槿碳材料,微粒的表面不同癌域(基磁面和遏面),所形成的SEI膜也有很大差昇。Kang應封碳負趣形成SEI膜暹行了研究,分析表明在道黑槿碳材料中,熱解碳形成的SEI Jg較
9、厚,而高定向熱解石墨(HOPG)上形成的SEI膜本交薄。Edstrom等:封中相碳微球(MCMB)和石墨作:ft才亟的SEI膜的熱力阜穗定性暹行研究瞪明MS SEI膜的熟穗定性是由碳重上亟的型決定的。把重趣暹行升溫慮理,雎然各槿碳負趣剝落的起始溫度基本一致,但泉可落程度和受溫度影轡的凰郤各不相同,造些差昇主要是由雷趣的表面結橫孔隙率和粒子大小不同造成的。2.2. 雷解的影轡一般熬懸作懸溶的支持重解比溶剜更易ii原,原崖物成懸SEI膜的一部分。在一些常用的重解蜜中LiCIO 4的氧化性太弓氨 安全性差。LiAsF6封碳負才亟重化擘性能最好,但其毒性較大。LiPF6熟穗定性差,6080 c左右就有
10、少量分解成LiF。因此尊找新型鯉鞭的研究一直在不斷逛行中。霜解短解的主要差別在於除雕子槿不同,造成SEI膜的形成甯位和化擘名且成有差別。用含 Cl、F等元素的影檄鯉蜜作 重解畤,S曰膜中就曾有道些雷解的遐原物存在。表明也,在含有CI和F的重解液中,SEI膜中的LiF、的含量都很高,造可能LiCI是以下反B8所致15:LiPFe (solv) + H 20(1) - LiF(s) +2HF(solv) + POF 3(g)LiBF4 (solv) + H 20(1) - LiF(s) +2HF(solv) + BOF(s)加且,輾檄鯉鞭的分解也可能直接生成道些化合物:LiPF6 (solv) -
11、 LiF (s) + PF5 (s)由於在都力擘上生成輾檄鯉化合物的陽向敕大,故使得所生成的s曰膜能更穩(wěn)定地存在,優(yōu)而;咸弱SEI膜在甯化擘退圈謾程中的溶解破壤。照雕子封SEI膜也有明影警。例如分利用LiPF6和TBAPF 6仃BA+懸四丁基金安蹄子)作重解TBA+醴植本交 畤,探用EIS分析褻現(xiàn)接者的阻抗著增大,道主要是因 大,嵌入彳爰使石墨砌距賺較大,所以造成石墨頓的殿重破壤同。2.3. 溶野J的影警研究表明,重解液的溶州I封SEI膜有著聚足馨重的作用,不同的溶剜在形成SEI膜中的作用不同。在PC溶液中,形成的SEI膜不能完全覆蓋表面,霜解液很容易在石墨表面反H,羥生不可逆容量。在觸EC做
12、溶剜口寺,生成的SEI膜主要成分是(CH2OCOOLD 2,而加入DEC或DMC彳麥,形成的SEI膜的主要成分分別懸C2 HsCOOLi和Li2CO3。然彳發(fā)二者形成的SEI膜更穗定。在EC/DEC和EC/DMC的混合醴系中,EC是生成SEI膜的 主要來源,只有EC褻生了分解,DEC和DMC的主要作用是提高溶液的重醇率和可溶性,而不在於參輿SEI膜的形成。有械重解的溶理1 一般需要具有高甯醇率、低粘度、高艮3燃黠和較高的穗定性等特黠,造就要求溶剜的介重常數(shù)高,粘度小。烷基碳酸解如PC、EC等趣性強,介霜常數(shù)高,但粘度大,分子作用力大,鯉雕子在其中移勤 速度慢。而性酯,如DMC (二甲基碳酸脂)
13、、DEC (二乙基碳酸脂)等粘度低,但介重常矍攵也低,因此,相蔓PC + DEC,EC+DMC 等。得滿足需求的溶液,人憑一般都排用多槿成分的混合溶剜如Peled等E141分析了排用黑槿不同配比的 EC/PC、EC/DMC做溶剜畤高溫脩件下SEI膜的嵌脫鯉性能。研 究表明,雎然室溫下甯解液中含有PC曾在甯趣表面形成不均勻的金屯化唇,同口寺易於崖生溶剜共嵌入而使碳重才亟破t衰,但pc的加入有利於提高重才亟高溫退圈性能,具it原因有待於逛一步研究。2.4. 溫度的影轡一般IS懸,高溫修件曾使SEI膜的穩(wěn)定性下降和重趣退圈性能燮差,道是因懸高溫疇SEI膜的溶解和溶剜分子的共 嵌入加點U,而低溫修件下
14、SEI膜超於穗定。Ishiikawa刀在侵化低溫慮理僚件疇彝現(xiàn),在-20C曰寺生成S曰膜迥圈性能最好,道是因;M低溫疇形成的SEI膜 密、穗定,且阻抗較低。Andersson 刖熬懸高溫修件下,原來的膜暹行結橫重整,膜的溶解輿重新沉稹使新 的膜具有多孔的結橫,徙而使得重解液輿霜趣羥生暹一步接斶原。目前在鯉雕子甯池裂造商中普遍探用的 化成彳爰在30 60 C之保溫老化,以改善雷池的退圈性能和侵化霜池的吩存性能,就是基於在較高溫度下SEI膜的結橫重整之。2.5. 甯:流密度的影警重上亟表面的反II是一彳固葩化膜形成輿重荷停遮的兢事反鷹。由於各槿蹄子的散速度不同和雕子遭移數(shù)不 同,所以在不同的雷流密
15、度下迤行甯化擘反鷹的主就不相同,膜的爾且成也不同。Doll去81在研究SEI膜畤褻現(xiàn),雷流密度封膜的厚度影轡不大,郤使得膜的&且成截然不同。低重流密度口寺,Li2c03首先形成,而ROCOOLi即延邂到甯趣放雷結束前才始形成;高霜流密度畤 ,ROCOOLi沒有在膜中出現(xiàn),膜中只含有 Li2c03,道使得膜的雷阻燮小,霜容增大。Hitoshi Ota :田等人在罌寸以PC (碳酸丙稀酯)和ES (克硫酸乙烯酯)基重解液系統(tǒng)的碳負重趣逛行研阜手段封SEI膜形成械理作了介貂。添;瞬研究表明:SEI膜的羥生主要是由PC和ES的分解而形成的,且ES在PC之前分解,SEI膜的&且成結橫主要取;夬於重流密度
16、。如果 甯流密度 高,SEI膜的分首先在高重位下形成,鯉雕子的插入聞始,此彳爰SEI膜的有械名且分形成。而富重流密度較低 除 優(yōu)初始閽立始(1.5 V versus Li/ Li + ) ,SEI的有才影且分立即形成。3.SEI膜的改性根撼SEI膜的形成謾程、械理及其性能特徵,人仍探用各槿方法封SEI膜暹行改性,以求改善其嵌脫鯉性能,延giSEI膜的溶解破壤,增強穗定性,同日寺:咸少SEI膜形成謾程中鯉雕子的揖失。目前,封SEI膜的改性主要 是通謾封碳負趣和重解液改性的。3.1.碳;ft才亟改性碳負趣的改性方法有多槿:包覆、檄械研磨、表面成膜都是有效的方法。封石墨霜趣表面氧化、MieiB原IM
17、理、 高溫熟慮理、惰性氯醴清洗以及低溫JH慮理都能在一定程度上改善甯趣表面的SEI膜,增強其穗定性輿退圈性能,減少不可逆容量,增大充放重效率。包覆是一槿有效的改性方法,可以使負趣的退圈性能得到很大的改善。道主要金帝因於石墨外表麴包上一碳鼓,能 形成薄而密的SEI膜,有效地抑制溶剜化鯉雕子的共嵌入,阻止退圈謾程中石墨屑的脫落。氧化也是一槿傻良的碳負趣改性方法。氧化可以除去碳霜才亟的表面活性高的部分,使雷趣的微孔增加,形成的SEI膜有利於Li雕子的通謾;同日寺它表JB的氧化物部分能形成輿重趣維合的SEI膜,優(yōu)而大大增強了膜的穗定性。32重解液在SEI膜的改性方面,霜解液是另一彳固重要的方面。在逗合
18、遹重解液的基磁上通謾加入合遹添加剜,能多句形成更穗定的SEI膜,提高霜趣表/B分子膜的穩(wěn)定性,減少溶剜分子的共嵌入。3.2.1有械成膜添加剜硫代有檄溶剜是重要的有檄成膜添加剜,包括受硫醯基添加理I和磺酸酯添加州 ES(ethylene sulfite, 受硫酸乙烯酯卜 PS(propylene sulfite,受硫酸丙烯酯)、DMS(dimethylsulfite,二甲基克硫酸酯)、DES(diethyl sulfite,二乙基至硫酸酯 卜DMSO(dimethyl sulfoxide,二甲克碾)都是常用的受硫醯基添加剜3-22,研究了樊現(xiàn)添加剜活性基凰的吸霜子能力是決定添加剜在雷趣表面SEI
19、膜形成重位的重要因素,而輿Li”在重解液中的溶州|化;(曲兄熊信昌。Ota等瞪了受硫醯基添加剜遐原分解形成SEI膜的主要成分是舞檄鞭 Li2s、Li2SO3或Li2s04和有械解ROSO 2 口,Wrodnigg等比較了不同受硫醯 基化合物的電匕擘性能,翔兄其在碳削亟介面的成膜能力大小依次懸:ESPSDMSDES,指出翅犬至硫醯基溶剜不能用作PC基甯解液的添加剜,因它優(yōu)不能形成有效的SEI膜,但可以輿EC溶剜配合使用,高粘度的EC具有弓魚的成膜作用,可承推成膜任矜,而低粘度的DES和DM8可以保瞪重解液侵良的醇霜性?;撬狨ナ橇硪婚攘虼行党赡ぬ砑又軮,不同If稹的烷基磺酸酯如13丙烷磺酸內酯、
20、1,4- 丁烷磺酸內酯、甲基磺酸乙酯和甲基磺酸丁酯具有良好的成膜性能和低溫醇甯性能,是近年來人年號看好的鯉雕子雷池有械重解液添加州I。鹵代有械成膜添加剜包括氟代、氯代和溟代有械化合物。道添加甫借助鹵素原子的吸霜子效提高中心原子的得霜子能力,使添加剜 在較高的重位修件下謖原有效葩化重趣表面。鹵代EC、三氟乙基瞬酸t(yī)ris(2,2,2-trifluoroethyl)phosphite, ffifflTTFP、氯甲酸甲酯、溟代丁內酯及氟代乙酸基乙烷等都是道黃真添力口州T2325。在pc基雷 解液中加入10%的1,2-三氟乙酸基乙烷1,2-bis-(tiifluoracetoxy)-ethane,曾耦
21、BTE彳爰,甯趣在1.75V( vs.Li/Li+)彝生成膜反鷹儂:, 可有效抑制PC溶剜分子的遐原共插反鷹,26允鏤可逆地嵌入輿脫嵌,提高碳負趣的退圈效率。氯甲酸甲酯、溟代丁內酯的使用也可 以使碳負趣的不可逆容量降低60%以上。其它有械溶膂J :碳酸克乙烯酯(vinylene carbonate,VC)是目前研究最深入、效果理想的有檄成膜 添加州J。Aurbach儂1在1mol/L的LiAsF6正C+DMC(1/1灌解液中加入10%的VC彳爰,利用分光察雷 趣表面,VC在碳窗亟表面彝生自由基聚合反 H,生成聚烷基碳酸鋰化合物,徙而有效抑制溶剜分子的共插反鷹,同口寺封正趣輾副作用。Matsuo
22、ka等加研究了 VC在1 mol/L的 LiAsF6/EC+EMC(ethyl methyl carbonate,乙基甲基碳酸酯)(1/2灌解液中的作用,VC可使高定向熱解石墨(highly oriented pyrolytic graphite,HOPG)霜趣表面裂健的活性黠失去反Jg活性,在HOPG甯趣表面形成趣薄的葩化膜(厚度小於10nm),金屯化薄膜是由VC的ig原崖物余且成,,具有聚合物結橫。另獴Sony公司的事利甄醇,在鯉雕子重池非水雷解液中 加入微量苯甲醍或其鹵代衍生物,能匏J改善雷池的退圈性能,減少甯池的不可逆容量損失,道是因懸苯甲醐和重解液中EC、 DEC(diethyl c
23、arbonate,二甲基碳酸酯)的遐原分解羥物RCO3Li可以贊生似於酯交換的基度|交換反鷹,生成CH3OLi沉稹於石墨甯趣表面,成篇 SEI膜的有效成分,使得SEI膜更加穗定有效,降低退圈謾程中用於修禱SEI膜的不可逆容量t28 0322簸檄成膜添加WJ侵良的簸檄成膜添加剜的槿和矍攵目至今仍然十分有限。C02在重解液中溶解度小,使用效果加不十分理想;相比之下,S02的成膜效果和封霜趣性能的改善十分明,但輿雷池IS於高霜位修件下的正趣材料相 容性差,黃隹以在除生羥中使用。拆械固醴成膜添加剜的研究最近也有了一些暹展,Shin等t29在1 mol/L,UPF6/EC+DMC If系中添加胞和Li2CO3,重趣表面羥生的氯醴量明醺咸少,甯趣可逆容量明提高。Choi等:30:利用SEM、 EDX和FT-IR研究重上亟表面結橫輿名且成的燮化,SEI膜的形成是Li2c。3在重 趣表面沉稹和溶剜ig原分解共同作用的結果。Li2c。3的加入一方面有助於重趣表面形成醇Li+性能侵良的SEI膜,同畤也在一定程度上抑制了 EC和DEC的分解反鷹。在LiCIO4作鏤蜜霜解的重解液中加入少量NaCIO4,也可以降低霜趣 不可逆容量,改善退圈性能,道是因懸Na+的加入改建了重解液內部Li+的溶膂J化狀沆和霜趣介面成膜反鷹的形式,SEI膜的結橫得到了侵化的故一3.
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