地質(zhì)填圖方法簡介2012

1、一、地質(zhì)填圖目的一、地質(zhì)填圖目的二、填圖工作一些基本要求三、填圖路線布置原則和方法1 1穿越法：穿越法：垂直垂直地層走向或區(qū)域構(gòu)造線方向，按一定的間隔橫穿整個調(diào)查地層走向或區(qū)域構(gòu)造線方向，按一定的間隔橫穿整個調(diào)查區(qū)，研究地質(zhì)剖面，標(biāo)定地質(zhì)界線。路線之間的地質(zhì)界線則用插法或區(qū)，研究地質(zhì)剖面，標(biāo)定地質(zhì)界線。路線之間的地質(zhì)界線則用插法或“V”V”字字形法則來填繪。形法則來填繪。 PCDCSDCPsDC優(yōu)點(diǎn)優(yōu)點(diǎn):(1) 易查明地層層序，接觸關(guān)系，易查明地層層序，接觸關(guān)系，(2) 清晰判明巖相縱向的變化和地質(zhì)構(gòu)造基本特點(diǎn)，清晰判明巖相縱向的變化和地質(zhì)構(gòu)造基本特點(diǎn)，(3) 工作量較少，所獲地質(zhì)信息豐富。工

2、作量較少，所獲地質(zhì)信息豐富。缺點(diǎn)缺點(diǎn):(1) 路線之間的地質(zhì)界線，不能直接觀測到，連接的地質(zhì)界線可能路線之間的地質(zhì)界線，不能直接觀測到，連接的地質(zhì)界線可能 與實(shí)際有出入；與實(shí)際有出入；(2) 沿走向巖相和地層厚度的變化不易查清，可能漏掉主要的小地沿走向巖相和地層厚度的變化不易查清，可能漏掉主要的小地 質(zhì)體、礦點(diǎn)、橫斷層等。質(zhì)體、礦點(diǎn)、橫斷層等。(3) 填圖比例越小，路線間距越大，上述缺點(diǎn)越明顯。填圖比例越小，路線間距越大，上述缺點(diǎn)越明顯。SDC優(yōu)點(diǎn)：優(yōu)點(diǎn)：細(xì)致觀測地質(zhì)體的橫細(xì)致觀測地質(zhì)體的橫向變化；準(zhǔn)確地填繪向變化；準(zhǔn)確地填繪地質(zhì)界線。地質(zhì)界線。工作效率低，多用于工作效率低，多用于大比例尺，如

3、礦區(qū)的大比例尺，如礦區(qū)的填圖。填圖。（1）實(shí)際工作中，兩種路線常配合使用。如在穿越路線上，為）實(shí)際工作中，兩種路線常配合使用。如在穿越路線上，為確定接觸關(guān)系或橫向變化等，常向路線兩側(cè)作短距離的追索；在確定接觸關(guān)系或橫向變化等，常向路線兩側(cè)作短距離的追索；在追索路線上，也須經(jīng)常穿越走向以了解地質(zhì)體縱向上的變化。追索路線上，也須經(jīng)常穿越走向以了解地質(zhì)體縱向上的變化。（2）兩方法都是相對于地質(zhì)構(gòu)造走向線而言的。其布置是以預(yù)）兩方法都是相對于地質(zhì)構(gòu)造走向線而言的。其布置是以預(yù)期要解決的地質(zhì)任務(wù)為根據(jù)的。這個前提下，還必須考慮自然地期要解決的地質(zhì)任務(wù)為根據(jù)的。這個前提下，還必須考慮自然地理?xiàng)l件（如逾越情

4、況）、露頭情況等因素。理?xiàng)l件（如逾越情況）、露頭情況等因素。 總之觀測路線的布置必須因地制宜，靈活多變，以滿足調(diào)查總之觀測路線的布置必須因地制宜，靈活多變，以滿足調(diào)查比例尺的精度要求，又能發(fā)揮最佳效率。比例尺的精度要求，又能發(fā)揮最佳效率。 每一條觀測路線的布每一條觀測路線的布置都應(yīng)有既定的目的和任務(wù)。一般地說，經(jīng)過初步踏勘，每條路置都應(yīng)有既定的目的和任務(wù)。一般地說，經(jīng)過初步踏勘，每條路線的內(nèi)容都是預(yù)先設(shè)計的。線的內(nèi)容都是預(yù)先設(shè)計的。四、填圖觀測點(diǎn)布置原則和標(biāo)測方法原則：觀測點(diǎn)的布置能有效控制各種地質(zhì)界線。原則：觀測點(diǎn)的布置能有效控制各種地質(zhì)界線。(1) (1) 布置在填圖單位的界線上、標(biāo)志層、

5、化石層，巖性和巖相明布置在填圖單位的界線上、標(biāo)志層、化石層，巖性和巖相明顯變化的地方；顯變化的地方；(2) (2) 礦化現(xiàn)象、蝕變帶、礦體；礦化現(xiàn)象、蝕變帶、礦體；(3) (3) 褶皺軸部及轉(zhuǎn)折端，斷層及節(jié)理的巖層產(chǎn)狀急劇變化處；褶皺軸部及轉(zhuǎn)折端，斷層及節(jié)理的巖層產(chǎn)狀急劇變化處；(4) (4) 河流沖溝切割的剖面和采石場等人工露頭處。此外，還有水河流沖溝切割的剖面和采石場等人工露頭處。此外，還有水文、地貌、風(fēng)景、出土文物地點(diǎn)等位置上，切忌機(jī)械地等距文、地貌、風(fēng)景、出土文物地點(diǎn)等位置上，切忌機(jī)械地等距離布點(diǎn)。離布點(diǎn)。斷層角礫巖斷層角礫巖五通組頂部粘土巖和砂巖五通組頂部粘土巖和砂巖金陵組生物灰?guī)r金

6、陵組生物灰?guī)r梁山煤線梁山煤線C2cP2q樞紐樞紐下降泉下降泉觀測點(diǎn)標(biāo)定：觀測點(diǎn)標(biāo)定：地形圖上標(biāo)定觀測點(diǎn)的位置必須要求準(zhǔn)地形圖上標(biāo)定觀測點(diǎn)的位置必須要求準(zhǔn)確，不能超過填圖精度要求的允許誤差確，不能超過填圖精度要求的允許誤差 ( (即不得超過即不得超過1mm)1mm)。三種定點(diǎn)方法：三種定點(diǎn)方法：（1 1）目測法）目測法: : 目估點(diǎn)位，按比例在地形圖上定出點(diǎn)位。目估點(diǎn)位，按比例在地形圖上定出點(diǎn)位。(2) (2) 后方交匯后方交匯: : 用前方已知參照物點(diǎn)的方位來交匯未知點(diǎn)的位用前方已知參照物點(diǎn)的方位來交匯未知點(diǎn)的位置置1/5萬萬區(qū)域地質(zhì)礦產(chǎn)調(diào)查暫行要求區(qū)域地質(zhì)礦產(chǎn)調(diào)查暫行要求規(guī)定：規(guī)定：(1)

7、基巖區(qū)線距為基巖區(qū)線距為400800m，點(diǎn)距，點(diǎn)距300500m。(2) 標(biāo)定直徑大于標(biāo)定直徑大于100m的閉合地質(zhì)體；寬度大于的閉合地質(zhì)體；寬度大于50m，長度大于，長度大于 50m的線性地質(zhì)體；長度大于的線性地質(zhì)體；長度大于250m的斷裂、褶皺構(gòu)造。小于的斷裂、褶皺構(gòu)造。小于 上述規(guī)模，但具有特殊意義的地質(zhì)體可適當(dāng)放大或歸并表示。上述規(guī)模，但具有特殊意義的地質(zhì)體可適當(dāng)放大或歸并表示。 (3) 基巖區(qū)內(nèi)，面積小于基巖區(qū)內(nèi)，面積小于0.5km2和溝谷中寬度小于和溝谷中寬度小于100m第四系，第四系， 在圖上仍按基巖填繪。大片第四系覆蓋者，在物化探工作的基在圖上仍按基巖填繪。大片第四系覆蓋者，在

8、物化探工作的基 礎(chǔ)上，可酌情布置工程予以揭露。礎(chǔ)上，可酌情布置工程予以揭露。(4) 分層界線，接觸帶，化石層、標(biāo)志層和礦化標(biāo)志等，分層界線，接觸帶，化石層、標(biāo)志層和礦化標(biāo)志等，其標(biāo)定誤其標(biāo)定誤 差不得大于差不得大于50m。路線地質(zhì)觀測的一般觀測程序：路線地質(zhì)觀測的一般觀測程序：（1）標(biāo)定觀測點(diǎn)的位置；）標(biāo)定觀測點(diǎn)的位置；（2）研究與描述露頭地質(zhì)特征和地貌；）研究與描述露頭地質(zhì)特征和地貌；（3）測量地質(zhì)體的產(chǎn)狀要素及其構(gòu)造要素；）測量地質(zhì)體的產(chǎn)狀要素及其構(gòu)造要素；（4）采集標(biāo)本和各種樣品；）采集標(biāo)本和各種樣品；（5）追索與填繪地質(zhì)界線；）追索與填繪地質(zhì)界線；（6）沿前進(jìn)方向進(jìn)行路線觀測和描述，并

9、繪制）沿前進(jìn)方向進(jìn)行路線觀測和描述，并繪制 路線地質(zhì)剖面圖。路線地質(zhì)剖面圖。地質(zhì)觀測點(diǎn)的描述內(nèi)容地質(zhì)觀測點(diǎn)的描述內(nèi)容（1）日期、天氣情況；）日期、天氣情況；（2）觀測路線；）觀測路線；（3）人員分工；）人員分工；（4）觀測點(diǎn)的編號；調(diào)查區(qū)統(tǒng)一的編號注明。）觀測點(diǎn)的編號；調(diào)查區(qū)統(tǒng)一的編號注明。（5）點(diǎn)位及高程；）點(diǎn)位及高程；（6）點(diǎn)性或目的；）點(diǎn)性或目的；（7）露頭情況；）露頭情況；（8）地貌特征；）地貌特征；（9）巖性描述；）巖性描述；（10）沿途描述和路線小結(jié)。）沿途描述和路線小結(jié)。(2)(2)路線地質(zhì)路線地質(zhì)圖圖(3) (3) 地質(zhì)素描地質(zhì)素描(3) (3) 地質(zhì)攝影地質(zhì)攝影CDSDCCD

10、SDPC地質(zhì)素描圖地質(zhì)素描圖采集的樣品種類：采集的樣品種類：地層標(biāo)本、巖石標(biāo)本、化石標(biāo)本、礦石標(biāo)本、地層標(biāo)本、巖石標(biāo)本、化石標(biāo)本、礦石標(biāo)本、構(gòu)造標(biāo)本、巖組分析、定向標(biāo)本和硅酸鹽分析（全巖分分析）樣構(gòu)造標(biāo)本、巖組分析、定向標(biāo)本和硅酸鹽分析（全巖分分析）樣品，粉鑒定樣品，同位素地質(zhì)年齡樣品、人工重砂樣品及古地磁品，粉鑒定樣品，同位素地質(zhì)年齡樣品、人工重砂樣品及古地磁樣品。樣品。樣品采集目的應(yīng)明確樣品采集目的應(yīng)明確、標(biāo)本應(yīng)具代表性和真實(shí)性，巖石應(yīng)十分新、標(biāo)本應(yīng)具代表性和真實(shí)性，巖石應(yīng)十分新鮮，沒有次生破壞或混入物。鮮，沒有次生破壞或混入物。樣品的規(guī)格：樣品的規(guī)格：9X6X3cm3；供鑒定用的標(biāo)本以能

11、反映實(shí)際情況和；供鑒定用的標(biāo)本以能反映實(shí)際情況和滿足切制片，薄片以及手標(biāo)本觀察的需要為原則，一般不小于滿足切制片，薄片以及手標(biāo)本觀察的需要為原則，一般不小于6X4X3cm3；對于礦物晶體，化石和構(gòu)造標(biāo)本規(guī)格不限。；對于礦物晶體，化石和構(gòu)造標(biāo)本規(guī)格不限。標(biāo)本登記：標(biāo)本登記：標(biāo)本上編號，記錄本上應(yīng)記明采關(guān)位置和編號。送實(shí)標(biāo)本上編號，記錄本上應(yīng)記明采關(guān)位置和編號。送實(shí)驗(yàn)室的巖礦樣品，應(yīng)附剖面或柱狀圖。送出的樣品應(yīng)留副樣，以驗(yàn)室的巖礦樣品，應(yīng)附剖面或柱狀圖。送出的樣品應(yīng)留副樣，以便核對鑒定成果。便核對鑒定成果。1.系與系之間的界線系與系之間的界線2.連接附近相同的界線點(diǎn)連接附近相同的界線點(diǎn)3.遵循遵循“V”字形法則字形法則PC填圖基本操作填圖基本操作CPCPD3wD3wS1fS1fD3wD3wS1fS1fD3wS1fD3wD3wS1fS1fu特殊情況特殊情況關(guān)于關(guān)于“V V”字形法則字形法則彎曲方向彎曲方向相同相同曲率：曲率：地形線地形線 地層界線地層界線相反相同相反相同u巖層傾向與坡向相反巖層傾向與坡向相反u巖層傾向與坡向相同巖層傾向與坡向相同相同相同相同相同相同相反相同相反 傾斜巖層傾斜巖層 “V”形法則形法則1. 巖層傾向與巖層傾向與 地面坡向相反：地面坡向相反： 露頭線與等高露頭線