鍍膜膜料名稱總匯

1、三氧化二釔名稱：釔（Y）三氧化二釔，（Y2O3使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時(shí)折射率約為1.8，用作鋁保護(hù)膜極其受歡迎，特別相對(duì)于800-12000nm區(qū)域高入射角而言，可用作眼鏡保護(hù)膜，且 24小時(shí)暴露于濕氣中，一般為顆粒狀和片狀。透光范圍（nm）折射率（N）500nm蒸發(fā)溫度（C） 蒸發(fā)源應(yīng)用蒸氣成分250-8000 1 . 792300-2500電子槍防反膜，鋁保護(hù)膜二氧化鈰名稱：二氧化鈰（CeO2500nm蒸發(fā)溫度（C） 蒸發(fā)源 應(yīng)用 約2000電子槍 防反膜，多 名稱：氧化鎂（MgO）堅(jiān)硬耐久且有良好的紫外線（UV）穿透性，250nm時(shí)n=1.86 , 190n

2、m 時(shí)n=2.06 , 166nm時(shí)K值為0.1 , n=2.65?？捎米髯贤饩€薄膜材料。MGO/MGF膜堆從200nm-400nm使用高密度的鎢舟皿（較早使用）蒸發(fā)，在200C的基 板上蒸著二氧化鈰，得到一個(gè)約為 2.2的折射率，在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度 的變化而發(fā)生顯著變化，在300C基板500nm區(qū)域折射率為2.45，在波長(zhǎng)短過(guò)400nm時(shí)有吸收，傳 統(tǒng)方法蒸發(fā)缺乏緊密性，用氧離子助鍍可取得n=2.35（500nm）的低吸收性薄膜，一般為顆粒狀，還可 用一增透膜和濾光片等。透光范圍（nm）折射率（N）雜氣排放量400-16000 2.35須使用電子槍蒸發(fā)因該材料升華

3、，區(qū)域透過(guò)性良好，但膜層被限制在 60層以內(nèi)（由于膜應(yīng)力）500nm時(shí)環(huán)境基板上得到n=1.70。由于 大氣CO2的干擾,MGOI露表面形成一模糊的淺藍(lán)的散射表層，可成功使用傳統(tǒng)的MHL折射率3層AR 膜（MgO/CeO2/MgF2。硫化鋅 名稱：硫化鋅（ZnS）折射率為2.35, 400-13000nm的透光范圍，具有良好的應(yīng)力和良好的環(huán)境耐久性，ZnS在高溫蒸著時(shí)極易升華，這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成 一無(wú)吸附性膜層，因此需要徹底清爐，并且在最高溫度下烘干，花數(shù)小時(shí)才能把鋅的不良效果消 除.HASS等人稱紫外線（UV）對(duì)ZNS有較大的影響，由于紫外線在大氣中導(dǎo)致15-20nm厚

4、的硫化鋅膜層完全轉(zhuǎn)變成氧化鋅（ZNO）。透光范圍（nm）折射率（N）550nm蒸發(fā)溫度（C）蒸發(fā)源 應(yīng)應(yīng)有：分光膜,冷用 方式 400-14000 2.35 1000-1100 電子槍，鉭鉬舟 防反膜， 升華 光膜,裝飾膜,濾光片,高反膜,紅外膜.氧化鈦名稱:二氧化鈦（TIO2）TI02由于它的高折射率和相對(duì)堅(jiān)固性,人們喜歡把這種.TI02, TI2O3.后發(fā)現(xiàn)比率為1.67高折射率材料用于可見光和近紅外線區(qū)域，但是它本身又難以得到一個(gè)穩(wěn)定的結(jié)果TJO, TI ,這些原材料氧-鈦原子的模擬比率分別為 20, 1.67, 1.5, 1.0, 0.的材料比較穩(wěn)定并且大約在550nm生成一個(gè)重復(fù)性折

5、射率為2.21的堅(jiān)固的膜層，比率為2的材料第 一層產(chǎn)生一個(gè)大約2.06的折射率,后面的膜層折射率接近于2.21.比率為1.0的材料需要7個(gè)膜層 將折射率2.38降到2.21.這幾種膜料都無(wú)吸收性，幾乎每一個(gè)TIO2蒸著遵循一個(gè)原則：在可使用的 光譜區(qū)內(nèi)取得可以忽略的吸收性，這樣可以降低氧氣壓力的限制以及溫度和蒸著速度的限制.TIO2需要使用IAD助鍍,氧氣輸入口在擋板下面. TI3O5比其它類型的氧化物貴一些，可是很多人認(rèn) 為這種材料不穩(wěn)定性的風(fēng)險(xiǎn)要小一些,PULKER等人指出，最后的折射率與無(wú)吸收性是隨著氧氣壓力 和蒸著溫度而改變的，基板溫度高則得到高的折射率.例如，基板板溫度為400C時(shí)在

6、550納米波長(zhǎng) 得到的折射率為2.63,可是由于別的原因，高溫蒸著通常是不受歡迎的，而離子助鍍已成為一個(gè)普遍 采用的方法其在低溫甚至在室溫時(shí)就可以得到比較高的折射，通常需要提供足夠的氧氣以避免（因?yàn)橛形談t降低透過(guò)率）,但是可能也需要降低吸收而增大鐳射損壞臨界值（LDT）.TIO2的折射率與真空度和蒸發(fā)速度有很大的關(guān)系,但是經(jīng)過(guò)充分預(yù)熔和IAD助鍍可以解決這一難題，所以在可見光和 近紅外線光譜中,TIO2很受到人們的歡迎.在IAD助鍍TIO2時(shí)，使用屏蔽柵式離子源蒸發(fā)則需要 200EV,而用無(wú)屏蔽柵式離子源蒸發(fā)時(shí)則需要333EV或者更少一些，在那里平均能量估計(jì)大約是驅(qū)動(dòng)電壓的60%如果離子能量

7、超過(guò)以上數(shù)值，TIO2將有吸收.而SO2有電子槍蒸發(fā)可以提供600EV碰撞 (離子輻射)能量而沒有什么不良效應(yīng).TIO2/SIO2制程中都使用300EV勺驅(qū)動(dòng)電壓,目的是在兩種材 料中都使用無(wú)柵極離子源，這樣避免每一層都改變驅(qū)動(dòng)電壓，驅(qū)動(dòng)電壓高低的選擇取決于 TIO2所允 許的范圍，而蒸著速度的高低取決于完全致密且無(wú)吸收膜所允許之范圍.TIO2用于防反膜，分光膜,冷光膜,濾光片,高反膜，眼鏡膜,熱反射鏡等,黑色顆粒狀和白色片狀,熔點(diǎn):1175 C透光范圍(nm)折射率(N)500nm蒸發(fā)溫度2000-2200用于防反膜電子槍，防反膜，增透多濾光片 高反膜 眼鏡膜(C) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量

8、400-12000 2.35TIO2用于防反膜,裝飾膜,濾光片,高反膜 TI2O3名稱：氟化釷(ThF4氟化釷260-12000nm以上的光譜區(qū)域，是一種優(yōu)秀的低折射率材料， 然而存在放射性，在可視光譜區(qū) N從1.52降到1.38(1000nm區(qū)域)在短波長(zhǎng)趨近于1.6,蒸發(fā)溫度 比MGF2氐一些，通常使用帶有凹罩的舟皿以免 THF4良性顆?；鹦秋w濺出去，而且形成的薄膜似乎比 MGF2薄膜更加堅(jiān)固.該膜在IR光譜區(qū)300NM小水帶幾乎沒有吸收,這意味著有望得到一個(gè)低的光譜 移位以及更大的整體堅(jiān)固性,在8000到12000NM完全沒有材料可以替代.氧化硅 名稱：二氧化硅(SIO2)經(jīng)驗(yàn)告訴我們,

9、氧離子助鍍(lAD)SIO將是SIO2薄膜可再現(xiàn)性問(wèn)題的一個(gè)解決方法，并且能在生產(chǎn)環(huán)境中以一個(gè)可以接受的高速度蒸著薄膜. SIO2薄膜如果壓力過(guò)大，薄膜將有氣孔并且易碎，相反壓力過(guò)低薄膜將有吸收并且折射率變大,需要充分 提供高能離子或氧離子以便得到合乎需要的速度和特性，必要是需要氧氣和氬氣混合充氣，但是這是熱鍍的情況,冷鍍時(shí)這種性況不存在.SIO2用于防反膜,冷光膜,濾光片，絕緣膜,眼鏡膜,紫外膜.透光范圍(nm)折射率(N)550nm蒸發(fā)溫度(C) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量200-2000 1.46 1800-2200電子槍,防反膜，增透 少,升華無(wú)色顆粒狀,折射率穩(wěn)定,放氣量少,和OS-1

10、0等高折射率材料組合制備截止膜，濾光片等.氧化硅名稱：一氧化硅(SIO)透光范圍(nm)折射率(N)550nm蒸發(fā)溫度C)蒸雜氣排放量電子槍，1.8at1000nm 保護(hù)膜，升華 熔點(diǎn)較低,可用鉬舟或鈦舟蒸發(fā)，但需要加蓋舟因?yàn)榇朔N材料受熱直接升華.制備塑料鏡片時(shí)，一般第600-8000 1.55at550nm裝飾膜發(fā)源應(yīng)用1200-1600狀或細(xì)塊狀.使用電子槍加熱時(shí)不能將電子束直接打在材料上而采用間接加熱法鉭鉬舟冷光膜1.6at7000nm制程特性:棕褐色粉一層是SIO,可以增加膜的附著力. 名稱:OH-5(TIO2+ZrO2)透光范圍(nm)折射率(N)550nm蒸發(fā)溫度(C)蒸發(fā)源應(yīng)用雜

11、氣排放量300-8000 2.1 約2400電子槍， 增透一般 蒸氣成分為:ZRO,O2,TIO,TIO2呈褐色塊狀或柱狀尼康公司開發(fā)之專門加TS-工一卜系列抗反射材料，折射率受真空度，蒸發(fā)速率,氧氣壓力的影響很大，蒸鍍時(shí)不加氧或加氧不 充分時(shí),制備薄膜會(huì)產(chǎn)生吸收現(xiàn)象但是我們?cè)趯?shí)際應(yīng)用時(shí)沒有加氧也比較好用.氧化鎬 名稱：二氧化鎬(ZrO2)ZrO2具有堅(jiān)硬,結(jié)實(shí)及不均勻之特性，該薄膜有是需要烘干以便除去它的吸收，其材料的純度及為重要，純度不夠薄膜通常缺乏整體致密性，它得益于適當(dāng)使 用IAD來(lái)增大它的折射率到疏松值以便克服它的不均勻性.目前純度達(dá)到99.99%基本上解決了以上的問(wèn)題.SAINTY

12、等人成功地使用ZRO2乍為鋁膜和銀膜的保護(hù)膜,該膜層(指ZRO2是在室溫基板上使 用700EV氬離子助鍍而得到的.一般為白色柱狀或塊狀,蒸發(fā)分子為ZRO,O2. 透光范圍(nm)折 射率(N)550nm蒸發(fā)溫度(C)蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量320-7000 2.052.0AT2000約2500電子槍， 增透，加硬膜眼鏡膜保護(hù)膜一般制程特性：白色顆粒,柱狀，或塊狀，粉狀材料使用鎢舟或鉬舟.顆粒狀,粉狀材料排雜氣量較多，柱狀或塊狀較少.真空度小于2*10-5Torr條件下蒸發(fā)可得到較穩(wěn)定的折射率，真空度大于5*10-5Torr時(shí)蒸發(fā)，薄膜折射率逐漸變小。蒸鍍時(shí)加入一定壓力的氧氣可以改善其材料之不均勻性

13、。氟化鎂名稱：氟化鎂(MgF2MGF2乍為1/4波厚抗反射膜普遍使用來(lái)作玻璃光學(xué)薄膜，它難以或者相對(duì)難以溶解，而且有大約120NM真實(shí) 紫外線到大約7000nm的中部紅外線區(qū)域里透過(guò)性能良好。 OLSENMCBRID等人指出從至少200NM到6000NM的區(qū)域里，2.75MM厚的單晶體MGF2是透明的，接 著波長(zhǎng)越長(zhǎng)吸收性開始增大，在10000NMS過(guò)率降到大約2%,雖然在8000-12000NM區(qū)域作為厚膜具 有較大的吸收性，但是可以在其頂部合用一薄膜作為保護(hù)層. 不使用IAD助鍍,其膜的硬度，耐 久性及密度隨基板的溫度的改變而改變的.在室溫中蒸鍍,MGF2膜層通常被手指擦傷，具有比較高的

14、濕度變化.在真空中大約N=1.32,堆積密度82%使用300 (C)蒸鍍，其堆積密度將達(dá)到98%,N=1.39 它的膜層能通過(guò)消除裝置的擦傷測(cè)試并且溫度變化低，在室溫與300 (C)之間，折射率與密度的變550nm蒸發(fā)溫度(C) 蒸發(fā)源 應(yīng)用1.35AT200約1100電子槍， 鉬鉭鎢舟 增透，加硬膜制程特性:折射率穩(wěn)定，真空度和速率對(duì)其變化影響小預(yù),造成鏡片木不良.在打開檔板后蒸發(fā)電流不要隨意加減，易 白色顆粒狀，常用于抗反射膜，易吸潮.購(gòu)買時(shí)應(yīng)考慮其純度.化幾乎成正比例的.在玻璃上冷鍍MGF加以IAD助鍍可以得到300( C)同等的薄膜，但是125-150EV 能量蒸鍍可是最適合的.在塑料

15、上使用IAD蒸鍍幾乎強(qiáng)制獲得合理的附著力與硬度.經(jīng)驗(yàn)是MGF不 能與離子碰撞過(guò)于劇烈.透光范圍(nm)折射率(N)雜氣排放量2000-7000 1.38眼鏡膜 少,MGF2 (MGF2)2 熔不充分或蒸發(fā)電流過(guò)大易產(chǎn)生飛濺 飛濺.基片須加熱到高的張應(yīng)力三氧化二鋁名稱:三氧化二鋁(AL2O3)普遍用于中間材料，該材料有很好的堆積密度并且在200-7000NM區(qū)域的透明帶,該制程是否需要加氧氣以試驗(yàn)分析來(lái)確定，提高基板溫度可提高其折 射率,在鍍膜程式不可理更改情況下,以調(diào)整蒸發(fā)速率和真空度來(lái)提高其折射率.透光范圍(nm)折射率(N)550nm蒸發(fā)溫度(C)蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量200-7000 1.

16、63 2050 電子槍，增透，保護(hù)膜 眼鏡膜 一般,AL,O, O2,ALO,AL2O,(ALO)2制程特性：白色顆粒狀或塊狀,結(jié)晶顆粒狀等.非結(jié)晶狀材料雜氣排放量高，結(jié)晶狀材料相對(duì)較少.折射率受蒸著真空度和蒸發(fā)速率影響較大，真空不好即速率低則膜折射率變低；真空度好蒸發(fā)速率較快時(shí)，膜折 射率相對(duì)增大，接近1.62AL2O3蒸發(fā)時(shí)會(huì)產(chǎn)生少量的AL分子造成膜吸收現(xiàn)象，加入適當(dāng)?shù)腛2時(shí),可避免其吸收產(chǎn)生.但是加氧氣要注意不要影響到它的蒸發(fā)速率否則改變了它的折射率.名稱:OS-10(TIO2+ZrO2) 透光范圍(nm)折射率(N)550nm蒸發(fā)溫度(C) 蒸發(fā)源 應(yīng)用雜氣排放量250-7000 2.

17、3 2050 電子槍，增透，濾光片，截止膜一般， 制程特性：棕褐色顆粒狀.雜氣排放較大，預(yù)熔不充分或真空度小于5*10-5Torr時(shí)蒸發(fā),其折射率會(huì)比2.3小,幫 必須充分預(yù)熔且蒸發(fā)真空度希望大于上述這數(shù)值.蒸發(fā)此種材料時(shí)宜控制衡定的蒸發(fā)速率，材料可 添加重復(fù)使用，為減少雜氣排放量，盡量避免全數(shù)使用新材料.蒸氣中的TI和TIO和O2反應(yīng)生成TIO2常用于制備抗反射膜和SIO2疊加制備各種規(guī)格的截止膜系和濾光片等.鍺 名稱:鍺(Ge)稀有金屬，無(wú)毒無(wú)放射性，主要用于半導(dǎo)體工業(yè)，塑料工業(yè)，紅外光學(xué)器件, 航天工業(yè),光纖通訊等.透光范圍2000NM-14000NM,n=4甚至更大，937C)時(shí)熔化并

18、且在電子槍 中形成一種液體，然后在1400 (C)輕易蒸發(fā).用電子槍蒸發(fā)時(shí)它的密度比整體堆積密度低，而用離 子助鍍或者鐳射蒸鍍可以得到接近于松散密度 .在鍺基板上與THF4制備幾十層的8000-12000NM 帶通濾光片，如果容室溫度太高吸收將有重大變化，在240-280 (C)范圍內(nèi)，在從非晶體到晶體轉(zhuǎn) 變的過(guò)程中GE 有一個(gè)臨界點(diǎn).鍺化鋅名稱:鍺化鋅(ZnGe)疏散的鍺化鋅具有一個(gè)比其相對(duì)較高的折射率，在500NM寸N=2.6,在可見光譜區(qū)以及12000-14000NMK域具有較少的吸收性并且疏散的鍺化鋅沒有其材質(zhì)那么 硬.使用鉭舟將其蒸發(fā)到150C的基板上制備SI/ZnGe及ZnGe/L

19、aF3膜層試圖獲到長(zhǎng)波長(zhǎng)IR漸低折 射率的光學(xué)濾鏡.550nm蒸發(fā)溫度(C)蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量230-7000 2.0紫外膜少無(wú)色圓盤狀或灰色顆粒狀和片狀.氧化鉿 名稱：氧化鉿(HfO2) 在150C的基板上有用電子槍蒸著，折射率在2.0左右，用氧 離子助鍍可能取和得2.05-2.1穩(wěn)定的折射率，在8000-12000NM區(qū)HFO2用作鋁保護(hù)膜外層好過(guò)SIO2 透光范圍(nm)折射率(N)2350電子槍，增透，高反膜碲化鉛 名稱:碲化鉛(PbTe)是一種具有高折射率的IR材料，作為薄膜材料在3800-40000NM是透明的，在紅外區(qū)N=5.1-5.5，該材料升華，基板板溫度250C是有益

20、的，健康預(yù) 防是必要的，在高達(dá)40000NM寸使用效果很好，別的材料常常用在超過(guò)普通的14000NM紅外線邊緣.鋁氟化物名稱：鋁氟化物(ALF3)可以在鉬中升華，在190-1000NM區(qū)域有透過(guò)性，N=1.38,有些人聲稱已用在EXIMEF激光鏡,它無(wú)吸收性,在250-1000NM區(qū)域透過(guò)性良 好.ALF3是冰晶石,是NaALF4的一個(gè)組成部分,且多年來(lái)一直在使用,但是在未加以保護(hù)層時(shí)其耐久 性還未為人知.鈰(Ce)氟化物名稱：鈰(Ce)氟化物Hass等人研究GeF3他們使用高密度的鎢舟蒸發(fā)發(fā)現(xiàn)在 500NM寸N=1.63,并且機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)強(qiáng)度令人滿意,他們指出在234NM和248NM的吸收

21、最大，而在波長(zhǎng)大過(guò) 300NM寸吸收可以忽略.FUJIWARAS鉬舟蒸發(fā)CEF3和CEO2昆合物，得到一個(gè)1.60-2.13 的合乎需 要的具有合理重復(fù)性的折射率，他指出該材料的機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)強(qiáng)度都令人滿意 . 透光范圍 (nm)折射率(N)500nm蒸發(fā)溫度(C)蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量300-5000 1.63約1500電子槍，鉬鉭鎢舟 增透， 眼鏡 少氟化鈣名稱：氟化鈣(CaF2) CaF2是Heave ns提出來(lái)的，它可以在10-4以 上的壓力下蒸發(fā)獲得一個(gè)約為1.23-1.28的折射率?？墒撬f(shuō)最終的膜層不那么令人滿意，在室溫下蒸著氟化鈣其堆積密度大約為 0.57,這與Ennos給出

22、的疏散折射率1.435相吻合,這說(shuō)明該材料 不耐用并容易隨溫度變化而變化.原有的高拉應(yīng)力隨膜厚增大而降低，膜厚增大導(dǎo)致大量的可見光 散射.可以用鎢鉭舟鉬舟蒸發(fā)而且會(huì)升華，在紅外線中其穿透性超過(guò)12000nm它沒有完全的致密性 似乎是目前其利用受到限制的原因，隨著IAD蒸著氟化物條件的改善這種材料的使用前景更為廣闊.氟化鋇名稱:氟化鋇(BaF2)與氟化鈣具有相似的物理特性，在室溫下蒸鍍氟化鋇,使用較低的蒸著速度時(shí)材料的堆積密度為0.66,并且密度變化與蒸著速度增大幾乎成正比，在速度為20NM/S堆積密度高達(dá)0.83,它的局限性又是它缺乏完全致密性.透過(guò)性在高溫時(shí)移到更長(zhǎng) 的波長(zhǎng),所以目前它只能用

23、在紅外膜.透光范圍(nm)折射率(N)500nm蒸發(fā)溫度C)蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量250-15000 1.48約1500電子槍， 鉬鉭鎢舟 紅外膜 少氟化鉛名稱:氟化鉛(PbF2)氟化鉛在UV中可用作高折射率材料,在300nm時(shí)N=1.998,該材料與鉬鉭,鎢舟接觸時(shí)折射率將降低,因此需要用鉑或陶瓷皿.Ennos指出氟化鉛具 有相對(duì)較低的應(yīng)力，開始是壓力，隨著膜厚度的增加張力明顯增大，但這與蒸著速度無(wú)關(guān). 透光 范圍(nm)折射率(N)500nm蒸發(fā)溫度(C) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量250-17000 1.75700-1000電子槍,鉑舟,坩鍋 紅外膜 少名稱：鉻(Cr)鉻有時(shí)用在分光鏡上

24、并且通常用作膠質(zhì)層來(lái)增強(qiáng)附著力,膠質(zhì)層可能在5-50NM的范圍內(nèi)，但在鋁鏡膜導(dǎo)下面，30NM是增強(qiáng)附著力的有效值.顆粒狀可用鎢舟 蒸發(fā)而塊狀宜用電子槍來(lái)蒸發(fā)，該材料升華，但是表面氧化物可以防止它蒸發(fā)/升華,可以全用鉻電 鍍鎢絲.可以用鉻作為膠質(zhì)層對(duì)金鏡化合物進(jìn)行韌性處理，也可在塑料上使用鉻作為膠質(zhì)層.也可使 用一個(gè)螺旋狀的鎢絲蒸發(fā).它應(yīng)該是所有材料中具有最高拉應(yīng)力的材料.透光范圍(nm)折射率(N)500nm蒸發(fā)溫度C)蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量1.5 1300-1400電子槍, 鉑舟,鎢舟 吸收膜分光膜導(dǎo)電膜加硬膜名稱:鋁(AL)不管是裝飾膜還是專業(yè)膜都是普遍用于蒸發(fā)/濺鍍鏡膜，常 用鎢絲來(lái)蒸

25、發(fā)鋁絲,在紫外域中它是普通金屬中反射性能最好的一種 ,在紅外域中不用Cu, Ag, Au. 鋁原先有一個(gè)比較高的拉應(yīng)力，在不透明厚度時(shí)，該拉應(yīng)力降低到一個(gè)小的壓應(yīng)力，并且蒸著以后 拉應(yīng)力進(jìn)一步降低.其膜的有效厚度為50NM以上 .名稱：銀(Ag)如果蒸著速度足夠快并且基板溫度不很高時(shí)，銀和鋁一樣具有良好的反射性,這是在高速低溫下大量集結(jié)的結(jié)果，這一集結(jié)同時(shí)導(dǎo)致更大的吸收.銀通常不浸濕鎢絲, 但是往往形成具有高表面張力的液滴,它可以用一高緊密性的螺旋式鎢絲來(lái)蒸發(fā)，從而避免液滴下 掉.有人先在一個(gè)V型鎢絲上繞幾圈鉑絲接著繞上銀絲,銀絲可以浸濕鉑絲但沒有浸濕鎢絲.名稱:金(Au)金在紅外線100 O

26、nm波長(zhǎng)以上是已知材料中具有最高反射性的材料,作為一種貴重金屬，它具有較強(qiáng)的化學(xué)堅(jiān)硬性，由于它的可塑性因而抗擦傷性能低,AU可 用鎢或氮化硼舟皿或者電子槍來(lái)蒸發(fā)(不能與鉑舟蒸發(fā),它與鉑很快合金).金對(duì)玻璃表面的附著力 低，因而通常使用一層鉻作為膠質(zhì)層.也可用氧離子助鍍使金的附著力得到上百倍的改善，在不透明 性達(dá)到即中止IAD,并且最后的薄膜中不含有氧,摻氧將降低薄膜的反射率.銦-錫氧化物(ITO)和In3O5-SnO2有相銦-錫氧化物名稱：銦-錫氧化物和導(dǎo)電材料對(duì)良好的導(dǎo)電性能和可見光穿性.這樣的薄膜在數(shù)據(jù)顯示屏和抗熱防霜裝置等方面已有很大原需求 在建筑上可用作擇光窗和可控穿透窗.ITO n=

27、1.85 at500nm 熔化溫度約1450C .名稱：鋁(AL),銀和鋁一樣具有良不管是裝飾膜還是專業(yè)膜都是普遍用于蒸發(fā)/濺鍍鏡膜，常用鎢絲來(lái)蒸發(fā)鋁絲，在紫外域中它是普通 金屬中反射性能最好的一種,在紅外域中不用Cu, Ag, Au.鋁原先有一個(gè)比較高的拉應(yīng)力,在不透明 厚度時(shí)，該拉應(yīng)力降低到一個(gè)小的壓應(yīng)力，并且蒸著以后拉應(yīng)力進(jìn)一步降低.其膜的有效厚度為 50NM以上 .名稱:銀(Ag)如果蒸著速度足夠快并且基板溫度不很高時(shí)好的反射性，這是在高速低溫下大量集結(jié)的結(jié)果，這一集結(jié)同時(shí)導(dǎo)致更大的吸收.銀通常不浸濕鎢絲, 但是往往形成具有高表面張力的液滴，它可以用一高緊密性的螺旋式鎢絲來(lái)蒸發(fā)，從而避

28、免液滴下 掉.有人先在一個(gè)V型鎢絲上繞幾圈鉑絲接著繞上銀絲,銀絲可以浸濕鉑絲但沒有浸濕鎢絲. 名 稱:金(Au)金在紅外線1000nm波長(zhǎng)以上是已知材料中具有最高反射性的材料,作為一種貴重金屬,它具有較強(qiáng)的化學(xué)堅(jiān)硬性，由于它的可塑性因而抗擦傷性能低，AU可用鎢或氮化硼舟皿或者電子 槍來(lái)蒸發(fā)(不能與鉑舟蒸發(fā),它與鉑很快合金).金對(duì)玻璃表面的附著力低,因而通常使用一層鉻作為 膠質(zhì)層.也可用氧離子助鍍使金的附著力得到上百倍的改善 ，在不透明性達(dá)到即中止IAD,并且最后 的薄膜中不含有氧，摻氧將降低薄膜的反射率.銦-錫氧化物(ITO)和In3O5-SnO2有相對(duì)良好的導(dǎo)電性能和可見光穿性.這樣的薄膜在

29、數(shù)據(jù)顯示屏和抗熱防霜裝置等方面已有很大原需求 在建筑上可用作擇光窗和可控穿透窗.ITO n=1.85 at50Onm 熔化溫度約1450C .透光范圍(nm)折射率(N)500nm蒸發(fā)溫度C)蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量2200-2400電子槍，增透，眼鏡膜少 發(fā)溫度(C)蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量透光范圍(nm)折射率(N)名稱:H1 360-7000 2.1 500nm 蒸 電子槍，增透,眼鏡膜少稱:H4360-7000 2.1 2200-2400電子槍,增透,眼鏡膜濾光片少 率(N)槍，增透,偏光膜少名稱:H2透光范圍(nm)折射率(N)400-5000 2.1 2200500nm蒸發(fā)溫度(C

30、)蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量名稱:M1 透光范圍(nm)300-9000 1.7 2200-2400 500nm蒸發(fā)溫度(C)500nm蒸發(fā)溫度(C) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量名稱:M2透光范圍(nm)折射率(N)210-10000 1.7 2100 電子槍,增透,偏光膜分光膜 少 500nm蒸發(fā)溫度(C)名稱:H5210-10000折射率(N) 電子槍，增透,干涉濾光片少折射電子蒸八、發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 透光范圍(nm)折射率(N) 1.8 2100電子槍,增透,偏光膜 少 溫度(C)蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量 稱：氧化鉭(Ta2O5) 透光范圍(nm) 排放量 400-000 2.1 1900-220

31、0蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量透光范圍(nm)折射率(N)2.2 2100電子槍,增透,濾光片 少500nm蒸發(fā)溫度(C)名稱:M3 220-10000 500nm蒸發(fā) 名蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣 透光名稱:WR-1銦-錫氧化物名稱：銦-錫氧化物和導(dǎo)電材料范圍(nm)折射率(N)500nm蒸發(fā)溫度(C) 蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量380-700約1.5360-450鉬舟，頂層膜眼鏡膜 少 名稱:WR-2透光范圍(nm)折射率(N)500nm蒸發(fā)溫度(C)蒸發(fā)源 應(yīng)用 雜氣排放量380-700約1.5 360-450電子槍，鉬舟 頂層膜防水膜眼鏡膜少名稱:WR-3透光范圍(nm)折射率(N)500nm蒸發(fā)溫度(C) 蒸發(fā)源應(yīng)用雜氣排放量380-700約1.3 350-500 鉬舟 頂