無(wú)機(jī)材料測(cè)試技術(shù)習(xí)題庫(kù)(共7頁(yè))

1、精選優(yōu)質(zhì)文檔-傾情為你奉上無(wú)機(jī)材料測(cè)試技術(shù)習(xí)題庫(kù)第一章 X射線物理學(xué)基礎(chǔ)1、特征X射線 原子系統(tǒng)內(nèi)電子從高等級(jí)向低等級(jí)的躍遷，多余的能量將以光子的形式輻射出特征X射線2、連續(xù)X射線 具有連續(xù)波長(zhǎng)的X射線3、吸收限（k）指射線通過(guò)物質(zhì)時(shí)光子的能量大于或等于使物質(zhì)原子激發(fā)的能量，如入射光子的能量必須等于或大于將K電子從無(wú)窮遠(yuǎn)移至K層時(shí)所作的功W，稱此時(shí)的光子波長(zhǎng)稱為K系的吸收限。4、光電效應(yīng) 5、俄歇電子6、質(zhì)量吸收系數(shù)7、相干散射 當(dāng)射線通過(guò)物質(zhì)時(shí)，物質(zhì)原子的電子在電磁場(chǎng)的作用下將產(chǎn)生受迫振動(dòng)，受迫振動(dòng)產(chǎn)生交變電磁場(chǎng)，其頻率與入射線的頻率相同，這種由于散射線與入射線的波長(zhǎng)和頻率一致，位相固定，在

2、相同方向上各散射波符合相干條件，故稱為相干散射8、非相干散射 當(dāng)射線經(jīng)束縛力不大的電子或自由電子散射后，可以得到波長(zhǎng)比入射射線長(zhǎng)的射線，且波長(zhǎng)隨散射方向不同而改變，這種散射現(xiàn)象稱為非相干散射9、熒光X射線10、X射線強(qiáng)度11、AES二、填空1、產(chǎn)生X射線的基本條件 產(chǎn)生自由電子 、 使電子做定向高速運(yùn)動(dòng) 、 在其運(yùn)動(dòng)的路徑上設(shè)置一個(gè)障礙物，使電子突然減速 。2、X射線的強(qiáng)度是指 單位時(shí)間 內(nèi)通過(guò)垂直于X射線方向的單位面積上的 光子數(shù)目的能量總和 。3、探測(cè)X射線的工具是： 熒光屏、照相底片和各種輻射探測(cè)器 。4、影響X射線強(qiáng)度的因素是： 管電壓、管電流、靶面物質(zhì)、高壓波形 。5、檢測(cè)X射線的方

3、法主要有： 。6、X射線譜是 的關(guān)系。7、吸收限的應(yīng)用主要是 陽(yáng)極靶的選擇 、 濾波片的選擇 、 。8、當(dāng)X射線的 或吸收體的 愈大時(shí)X射線愈容易被吸收。9、一束X射線通過(guò)物質(zhì)時(shí)，它的能量可分為三部分：一部分被散射、一部分被吸收和一部分透過(guò)物質(zhì)繼續(xù)沿原來(lái)的方向傳播。10、X射線與物質(zhì)相互作，產(chǎn)生兩種散射現(xiàn)象，即相干散射和非相干散射。11、物質(zhì)對(duì)X射線的吸收主要是由原子內(nèi)部的電子躍遷而引起的。三、判斷1、入射X射線光子與外層電子或自由電子碰撞時(shí)產(chǎn)生相干散射。2、由X射線產(chǎn)生X射線的過(guò)程叫做光電效應(yīng)。3、X射線與物質(zhì)作用，有足夠能量的X射線光子激發(fā)原子K層的電子，外層電子躍遷填補(bǔ)，多余的能量使L2

4、、L3、M、N等層的電子逸出，這個(gè)過(guò)程叫做光電效應(yīng)。4、由X射線產(chǎn)生X射線的過(guò)程叫俄歇效應(yīng)。5、連續(xù)譜中，隨V增大，短波極限值增大。6、當(dāng)X射線的波長(zhǎng)愈短，或者穿過(guò)原子序數(shù)愈小的物質(zhì)時(shí)，其吸收就愈大。7、具有短波極限值的X射線強(qiáng)度最大。8、具有短波極限值的X射線能量最大。9、X射線成分分析的理論基礎(chǔ)是同種原子發(fā)出相同波長(zhǎng)的連續(xù)X射線。10、當(dāng)高速電子的能量全部轉(zhuǎn)換為X射線光子的能量時(shí)產(chǎn)生0，此時(shí)強(qiáng)度最大，能量最高。11、當(dāng)高速電子的能量全部轉(zhuǎn)換為X射線光子的能量時(shí)產(chǎn)生0，此時(shí)強(qiáng)度最大。四、簡(jiǎn)答及計(jì)算：1、 什么是莫賽萊定律，莫賽萊定律的物理意義是什么？2、 簡(jiǎn)述特征X射線產(chǎn)生的機(jī)理。3、 簡(jiǎn)述

5、衍射定性物相鑒定的程序。4、 X射線定量分析的基礎(chǔ)是什么？5、 X射線物相分析有哪些特點(diǎn)？6、 試計(jì)算空氣對(duì)CrK輻射的質(zhì)量吸收系數(shù)和線吸收系數(shù)。假定空氣中含有80（重量）的氮和20（重量）的氧，空氣密度0.0013g/cm3。7、 吸收限的實(shí)際應(yīng)用有哪些？若Cu靶產(chǎn)生K1.5418埃， K1.3922埃X射線，選擇具有多大的吸收限波長(zhǎng)（k）的材料作濾波片才能得到單色K？圖示說(shuō)明。8、 Ni片作Cu靶X射線的濾波片，已知：Ni的8.9g/cm3，Ni對(duì)CuK的m275cm2/g，若原始X射線的強(qiáng)度為I0（K2）/ I0（K1）0.5， I0（K）/ I0（K1）0.2，現(xiàn)用0.025mm厚的N

6、i片濾波，問(wèn)濾波后I（K）/ I（K）？9、用Zr片做Mo靶X射線的濾波片，已知Zr6.5g/cm3，Zr對(duì)Mo K的m792/g，Zr對(duì)MoK的m15.92/g，計(jì)算Zr片多厚（x）才能使I（K）I（K）由原來(lái)的1/6變?yōu)?/600？X射線衍射的幾何條件一、填空題1、以u(píng)vw為軸的 滿足衍射條件的 所產(chǎn)生的衍射斑點(diǎn)所組成的電子衍射花樣，就是入射電子束方向 樣品晶體的uvw方向而產(chǎn)生衍射所得到的。這幅花樣就是倒易截面（uvw）*上陣點(diǎn)排列圖像的 。二、判斷題1、凡是符合布拉格方程的晶面族都能產(chǎn)生衍射線。（×）2、滿足布拉格方程時(shí)，各晶面的散射線相互干涉加強(qiáng)形成衍射線。（）3、一束X射

7、線照射一個(gè)原子列（一維晶體），只有鏡面反射方向上才有可能產(chǎn)生衍射線。（×）三、問(wèn)答及計(jì)算1、 什么是倒易點(diǎn)陣，倒易點(diǎn)陣的兩個(gè)基本性質(zhì)是什么？2、 寫出布拉格方程并簡(jiǎn)述布拉格方程的物理意義。3、 用CuK照鋁的多晶試樣（立方晶系，面心點(diǎn)陣，點(diǎn)陣常數(shù)4.05埃），試問(wèn)（440）晶面組是否能衍射X射線？假如要獲得（440）晶面組的衍射線有什么辦法？這樣得到的衍射線的值為多少？4、 當(dāng)波長(zhǎng)為的X射線照射到晶體并出現(xiàn)衍射線時(shí)，相鄰兩個(gè)(hkl)反射線的程差是多少？相鄰兩個(gè)(HKL)反射線的程差又是多少？5、 -Fe屬立方晶系，點(diǎn)陣參數(shù)a=0.2866nm。如用CrKaX射線（0.2291）照射

8、，試求(110)，（200），及（211）可發(fā)生的衍射的掠射角。第三章 X射線衍射線束的強(qiáng)度一、名詞解釋：1、相對(duì)強(qiáng)度2、衍射線強(qiáng)度3、多重性因子（P）4、結(jié)構(gòu)因子F5、系統(tǒng)消光二、填空題：1、影響衍射線強(qiáng)度的因子是： 多重性因子P 、 結(jié)構(gòu)因子F 、 角因子 、 溫度因子 、 吸收因子 。2、影響粉末多晶衍射線相對(duì)強(qiáng)度的因子是： 。3、晶體中面間距相等晶面稱為等同晶面。4、根據(jù)布拉格方程，在多晶衍射中，等同晶面的衍射線將分布在同一個(gè)圓錐上，因?yàn)檫@些晶面對(duì)應(yīng)的衍射角都相等。5、結(jié)構(gòu)因子只與原子在晶胞中的位置有關(guān)，而不受晶胞的形狀和大小影響。三、判斷題：1、晶胞的形狀和大小改變時(shí)，可能引起系統(tǒng)消

9、光。（）2、由于原子熱運(yùn)動(dòng)使點(diǎn)陣中原子排列的周期性受到部分破壞，因此晶體的衍射條件也受到部分的壞，從而使衍射強(qiáng)度增加。（）3、角因子與角成直線的關(guān)系。（）四、問(wèn)答及計(jì)算1、 羅倫茲因數(shù)是表示什么對(duì)衍射強(qiáng)度的影響？其表達(dá)式是綜合了哪幾個(gè)方面考慮而得出的？2、 多重性因數(shù)的物理意義是什么？3、 某立方系晶體，其100的多重性因數(shù)是多少？如該晶體轉(zhuǎn)變成四方晶系，這個(gè)晶面族的多重性因數(shù)會(huì)發(fā)生什么變化？為什么？4、 CsCl屬簡(jiǎn)單立方點(diǎn)陣，其中Cs坐標(biāo)為（0 0 0），Cl坐標(biāo)為（1/2 1/2 1/2）。Cs原子散射振幅為fCs，Cl原子散射振幅為fCl，求Fhkl2，并討論衍射線的有無(wú)及其對(duì)衍射線強(qiáng)

10、度的影響。5、 結(jié)構(gòu)因子表達(dá)式反映出晶體中的哪些內(nèi)容？某晶體MeO3（立方）各原子占據(jù)的坐標(biāo)位置為：【Me】：（111）【O】：（1/2，1/2，0），（1/2，0，1/2），（0，1/2， 1/2）已知f Me10，f O8，（1）試討論系統(tǒng)消光規(guī)律；（2）若僅考慮F2，根據(jù)以上系統(tǒng)消光規(guī)律，寫出下面晶面的衍射強(qiáng)度的強(qiáng)弱：（100），（110），（111），（200），（210），（311），（222），（123）；（3）若考慮多重性因子P和F2兩項(xiàng)，寫出下列晶面的衍射強(qiáng)度的大小順序：（110），（200），（220），（100）。6、試推導(dǎo)體心點(diǎn)陣晶胞的系統(tǒng)消光規(guī)律。7、試推導(dǎo)簡(jiǎn)單點(diǎn)陣晶胞

11、的系統(tǒng)消光規(guī)律。8、試推導(dǎo)底心點(diǎn)陣晶胞（原子坐標(biāo)為0、0、0、1/2、1/2、0）的系統(tǒng)消光規(guī)律。9、試推導(dǎo)面心點(diǎn)陣晶胞的系統(tǒng)消光規(guī)律。10、總結(jié)簡(jiǎn)單點(diǎn)陣、體心點(diǎn)陣和面心點(diǎn)陣衍射線的系統(tǒng)消光規(guī)律11、多晶體衍射的積分強(qiáng)度表示什么？今有一張用CuKa攝得的鎢（體心立方）的德拜相，試計(jì)算出頭4根衍射線的相對(duì)積分強(qiáng)度（不計(jì)算A()和e-2M，以最強(qiáng)線的強(qiáng)度為100）。頭4根線的值如下：線條 /(o)1 20.22 29.23 36.74 43.6第四章 X射線衍射的主要儀器和方法一、名詞解釋1、步進(jìn)掃描2、連續(xù)掃描3、峰高強(qiáng)度4、積分強(qiáng)度二、填空題1、最基本的衍射實(shí)驗(yàn)方法有三種： 粉末法 、 勞厄法

12、 、 轉(zhuǎn)晶法 。2、X射線衍射儀有二種掃描方式： 連續(xù)掃描和步進(jìn)掃描 。3、衍射儀器法中曲線衍射峰2的位置確定方法有： 峰巔法 、 交點(diǎn)法 、 弦中點(diǎn)法 、 中心線法 、 重心法 。4、衍射儀工作時(shí)，計(jì)數(shù)器的運(yùn)動(dòng)方式有 和 兩種。5、德拜照相法底片安裝方式為（要簡(jiǎn)單圖示） 正裝法 、 反裝法 、 不對(duì)稱法 。6、德拜照相法中衍射花樣的記錄方式有： 。7、衍射線的記錄方式有： ，它們一般分別用于： 。8、小角是面網(wǎng)間距 的低指數(shù)面網(wǎng)衍射的，而大角是面網(wǎng)間距 的高指數(shù)面網(wǎng)衍射的。9、X射線輻射探測(cè)器分為三種類型：、和。三、判斷題1、半導(dǎo)體計(jì)數(shù)器是借助于固體的電離效應(yīng)而制成的。（）2、衍射儀處于工作

13、狀態(tài)時(shí)，X射線源焦點(diǎn)F、試樣表面及探測(cè)器狹縫光闌G，這三者處于一個(gè)聚焦園上。（）3、弦中點(diǎn)法是按衍射峰的若干弦的中點(diǎn)連線進(jìn)行外推，與衍射峰曲線相交的點(diǎn)。（）4、閃爍計(jì)數(shù)器是利用X射線激發(fā)某種物質(zhì)產(chǎn)生電離，產(chǎn)生電流脈沖過(guò)程為基礎(chǔ)的。（）6、 德拜法中背射區(qū)的分辨能力小。（）7、 德拜法中背射區(qū)的衍射線一般用來(lái)作點(diǎn)陣常數(shù)的精確測(cè)定。（）6、 適用于單晶研究的粉末法，其入射X射線波長(zhǎng)不變化。（）7、 入射波長(zhǎng)一定時(shí)，小角是由d值小的面網(wǎng)衍射。（）8、高角區(qū)出現(xiàn)K1、K2雙線，它們的區(qū)別是：12。（）四、問(wèn)答及計(jì)算1、 試簡(jiǎn)述衍射儀法與德拜法的相同點(diǎn)和不同點(diǎn)。2、 簡(jiǎn)述求衍射線峰值（即2位）的方法。3

14、、 某一粉未相上背散射區(qū)線條與透射區(qū)線條比起來(lái)，其較高抑或較低？相應(yīng)的d較大還是較?。考热欢嗑w粉未的晶體取向是混亂的，為何有此必然的規(guī)律？4、 測(cè)角儀在采集衍射圖時(shí)，如果試樣表面轉(zhuǎn)到與入射線成30度角，則計(jì)數(shù)管與入射線角度為若干？能產(chǎn)生衍射的晶面，與試樣的自由表面呈何種幾何關(guān)系？5、 試?yán)L出德拜法德三種底片安裝形式所產(chǎn)生德衍射花樣，標(biāo)出低角區(qū)及高角區(qū)，寫出它們的計(jì)算公式。BA6、 寫出德拜照相法成像原理，就如下圖，寫出（1）高角區(qū)與低角區(qū)；（2）、兩對(duì)弧線是否是K1、K2線，為什么？（3）標(biāo)出K1、K2線的位置。已知：相機(jī)半徑R57.3mmK11.5405埃，K21.5443埃 B A

15、83;··7、 敘述X射線粉末法分析試樣過(guò)程，在衍射數(shù)據(jù)和卡片對(duì)比不完全符合時(shí)，X射線衍射圖判讀原則是什么？8、 簡(jiǎn)單敘述測(cè)量衍射峰2位置與衍射線強(qiáng)度的主要方法。9、 試述粉晶德拜照相法基本原理。10、X射線衍射儀樣品如何制備？ 第五章 X射線衍射線的指標(biāo)化及晶胞參數(shù)的精確測(cè)定問(wèn)答及計(jì)算1、 什么是衍射線的指標(biāo)化？2、 衍射線指標(biāo)化的方法有哪三種，三種方法各適合哪個(gè)晶系？3、 精確測(cè)定點(diǎn)陣常數(shù)時(shí)，在實(shí)驗(yàn)技術(shù)和數(shù)據(jù)處理上都應(yīng)注意什么問(wèn)題？ 4、 某立方晶系晶體德拜花樣中部分高角度線條數(shù)據(jù)如右表所列。試用“acos2”的圖解外推法求其點(diǎn)陣常數(shù)。H2+K2+L2sin2380.9

16、11 4400.956 3410.976 1420.998 05、按上題數(shù)據(jù)，應(yīng)用最小二乘法(以cos2為外推函數(shù))計(jì)算點(diǎn)陣常數(shù)值。(準(zhǔn)確到4位有效數(shù)字)第六章 X射線物相分析第七章 X射線衍射分析在無(wú)機(jī)材料中的應(yīng)用一、名詞解釋1、JCPDS2、Kj3、X衍射定性分析4、X衍射物相定量分析5、XRD6、ASTM二、填空題1、 X射線d值與 晶胞的大小 和 形狀 有關(guān)，相對(duì)強(qiáng)度則與 質(zhì)點(diǎn)的種類 和 其在晶胞中的位置 有關(guān)。2、X射線物相分析包括 物相定性分析 和 物相定量分析 兩部分內(nèi)容。3、JCPDS卡片檢索手冊(cè)分為四種形式： 字母索引 、 哈那瓦爾索引 芬克索引 和 。4、哈那瓦爾特法索引是

17、鑒定未知物相時(shí)主要使用的索引，它按衍射花樣的 三條最強(qiáng)線的d值 排列的。5、X射線衍射定量分析的方法有： 直接對(duì)比法（單線條法） 、 內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)法 、 基體清洗法（K值法） 、 任意內(nèi)標(biāo)法 、 絕熱法（自清洗法） 。6、X射線物相定性分析中三個(gè)判定原則是 、 、 。 三、問(wèn)答與計(jì)算1、 試述對(duì)未知混合物的X衍射物相定性分析步驟。2、 多晶試樣X(jué)衍射定性分析的步驟。3、 簡(jiǎn)述衍射定性物相鑒定過(guò)程中應(yīng)注意的問(wèn)題。4、 X射線衍射定量分析的方法有哪幾種？ 5、 試比較物相定量分析之內(nèi)標(biāo)(曲線)法、K值法、任意內(nèi)標(biāo)法及直接對(duì)比法的應(yīng)用特點(diǎn)。6、 非晶態(tài)物質(zhì)的X射線衍射與晶態(tài)物質(zhì)的有何不同？7、 對(duì)食鹽進(jìn)行

18、化學(xué)分析與物相定性分析，所得信息有何不同？8、 A-TiO2(銳鈦礦)與R-TiO2(金紅石)混合物衍射花樣中兩相最強(qiáng)線強(qiáng)度比I A-TiO2/ R-TiO2=1.5。試用參比強(qiáng)度計(jì)算兩相各自的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。9、 由ZnO、TiO2（金紅石）、BaSO4、SiO2（非晶型）組成的四相混合物，取其試樣量1.2886g，加入0.3202g的剛玉粉作清洗劑。查得JCPDS卡片上的參比強(qiáng)度值為KsZnO2.15，Ks TiO22.97，Ks BaSO42.07，加入清洗劑后的混合樣品的衍射花樣上四結(jié)晶相的最強(qiáng)線為1034、617、860、331（剛玉本身的）（C.P.S），求原四相的百分含量。 10、 由

19、高嶺石、長(zhǎng)石、石英組成的試樣重3.7377g，加入0.8181g的剛玉粉作清洗劑，一直Kis分別為3.4、4.2、2.7，混合樣品衍射花樣上四相的最強(qiáng)線強(qiáng)度分別為：4050、2072、2840、599（cps），求原三相的百分含量？第八章 電子光學(xué)基礎(chǔ)一、名詞解釋1、靜電透鏡2、磁透鏡3、幾何像差4、焦深5、透射景深Df6、分辨率7、球差8、色差二、填空題1、電磁透鏡有以下特點(diǎn)： 。2、電磁透鏡的像差有： 。3、電磁透鏡的焦距與 成正比，它具有如下特點(diǎn)：能使電子成像，但不能 ，總是 透鏡， 和 連續(xù)可調(diào)。4、靜電透鏡能使 ， ，一般用于 中以形成會(huì)聚的高能電子。5、樣品的特征通過(guò)對(duì)電子 能力的

20、不同，變成有 的電子圖像。三、判斷題1、在保持象清晰度的前提下，像平面沿鏡軸可移動(dòng)的距離Di叫焦深。（）2、色差是由于入射電子束能量非單一性引起的。（）3、透鏡物平面允許的軸向偏差定義為透鏡的焦深。（）4、電磁透鏡不能加速電子。（）5、能使電子波聚焦的具有旋轉(zhuǎn)對(duì)稱均勻的磁極裝置叫做磁透鏡。（）6、電磁透鏡的特點(diǎn)之一是能使電子加速并使電子偏轉(zhuǎn)會(huì)聚成像。（）7、色差是由于能量非單一性引起的。（）8、球差是由于透鏡磁場(chǎng)非旋轉(zhuǎn)對(duì)稱引起的。（）9、電子透鏡的場(chǎng)深是指在保持像清晰度的前提下，像平面沿鏡軸可移動(dòng)的距離。（）四、問(wèn)答與計(jì)算1、 電子波有何特征？與可見光有何異同？2、 分析電磁透鏡對(duì)電子波的聚焦

21、原理，說(shuō)明電磁透鏡的結(jié)構(gòu)對(duì)聚焦能力的影響。3、 電磁透鏡的像差是如何產(chǎn)生的，如何來(lái)消除和減少像差？4、 說(shuō)明影響電磁透鏡分辨率的關(guān)鍵因素是什么？如何提高電磁透鏡的分辨率？5、 電磁透鏡景深和焦長(zhǎng)主要受哪些因素影響？說(shuō)明電磁透鏡的景深大、焦長(zhǎng)長(zhǎng)，是什么因素影響的結(jié)果？假設(shè)電磁透鏡沒(méi)有像差，也沒(méi)有衍射埃利斑，即分辨率極高，此時(shí)它的景深和焦長(zhǎng)如何？6、 試計(jì)算加速電壓為100KV時(shí)的電子束波長(zhǎng)，當(dāng)球差系數(shù)Cs0.88mm，孔徑半角10-2弧度時(shí)的分辨率。7、 何謂景深與焦深？當(dāng)r010埃，10-2弧度，M3000×時(shí)，請(qǐng)計(jì)算Df與DL值。第9章 透射電子顯微鏡一、名詞解釋1、襯度 是指試樣

22、不同部位由于對(duì)入射電子作用不同，在顯示裝置上顯示的強(qiáng)度差異。2、彈性散射 3、TEM 透射電子顯微鏡二、填空題1TEM的三種電子圖像為： 質(zhì)厚襯度像、衍射襯度像、相位襯度像 。2 .透射電鏡儀器結(jié)構(gòu)包括 照明系統(tǒng) 、 成像放大系統(tǒng) 、 顯像記錄系統(tǒng) 。3、透射電鏡的樣品的制備主要分為直接法和間接法兩大類。三、判斷題1、在電子與試樣的作用過(guò)程中，我們把那種既不改變電子運(yùn)動(dòng)方向，又不損失電子能量的散射稱為彈性散射。這樣的散射線的周相與入射線的周相有確定的關(guān)系，并且能量（波長(zhǎng)）不變，因而能互相產(chǎn)生干涉現(xiàn)象。即可能產(chǎn)生衍射線。（）2、當(dāng)物平面與物鏡后焦平面重合時(shí)，可看到形貌像。（）3、減弱中間鏡的電流

23、，增大其物距，使其物平面與物鏡的后焦平面重合，叫衍射方式操作。（）5、 照射到樣品上的電子束直徑越小，分辨率越高。（）6、 原子序數(shù)Z越大的原子，其對(duì)入射電子的散射的彈性散射部分越小。（）7、 對(duì)于某些樣品，它們的厚度大致均勻，平均原子序數(shù)和密度也相近，若用散射襯度像成像仍可得到滿意的圖像。（）四、問(wèn)答與計(jì)算R1R2R31、如圖，在150KV加速電壓下拍得金環(huán)，從里向外測(cè)得R18.8mm，R210.3mm，R314.3mm，。已知金是面心立方結(jié)構(gòu)，a4.07埃，請(qǐng)標(biāo)定K。 多晶金衍射花樣2、某合金析出相（立方單晶）電子衍射花樣如圖，OA14.0mm，OBOC23.5mm，73°，K3

24、0.2mm埃，試確定各斑點(diǎn)的指數(shù)。OCBA73°3、有一立方多晶樣品拍攝的衍射花樣中，各環(huán)的半徑分別為8.42、11.88、14.52、16.84mm，試標(biāo)定其K值。（a2.02埃）4、簡(jiǎn)述單晶電子衍射花樣的獲得及分析過(guò)程。5、TEM萃取復(fù)型樣品的散射襯度像形成原理是什么？ 6、透射電鏡中經(jīng)投影的二次復(fù)型樣品怎樣看到形貌像？該像是如何形成的？7、透射電鏡中塑料一級(jí)復(fù)型樣品的形貌像是如何形成的？8、有試樣需做TEM分析，如何制備樣品？9、簡(jiǎn)述透鏡二級(jí)復(fù)型樣品的制備過(guò)程。10、透射電鏡的樣品制備方法中的間接法、半間接法各指哪些方法？簡(jiǎn)單寫出塑料碳膜二級(jí)復(fù)型樣品的制備過(guò)程。11、透射電鏡樣

25、品的制備方法有哪些？寫出二級(jí)復(fù)型樣品的制備過(guò)程和投影重金屬的作用。12、試簡(jiǎn)述復(fù)型試樣的一般形貌成像原理。并舉例說(shuō)明復(fù)型像的質(zhì)厚成像過(guò)程及其對(duì)應(yīng)關(guān)系。13、粉末樣品在透射電鏡中如何形成散射襯度像？14、非晶體與晶體在透射電鏡下成像狀況如何？15、解釋散射襯度像的形成原理；寫出二級(jí)復(fù)型樣品制備過(guò)程。第十章 掃描電子顯微鏡一、名詞解釋1、SEM 掃描電子顯微鏡2、二次電子 在入射電子束作用下被轟擊出來(lái)并離開樣品表面的核外電子3、背散射電子 是被樣品中的原子核反射回來(lái)的一部分入射電子4、陰極發(fā)光二、判斷題1、背散射電子像是原子序數(shù)襯度，背散射系數(shù)與原子序數(shù)成正比。（）2、掃描電鏡的分辨本領(lǐng)高于透射電

26、鏡。（×）3、掃描電鏡的背散射電子像是原子序數(shù)襯度。（）4、二次電子象是表面形貌襯度。（）5、二次電子的產(chǎn)額與原子序數(shù)成正比。（）6、SEM一般是采用二次電子成像，這種工作方式叫發(fā)射方式。（）三、問(wèn)答與計(jì)算1SEM如何制備樣品？2SEM如何成像？3簡(jiǎn)述掃描電鏡樣品制備應(yīng)主要考慮的問(wèn)題。4簡(jiǎn)述掃描電鏡的工作原理及樣品制備。5掃描電鏡的主要工作方式有哪幾種，它們收集什么信號(hào)成像？6、掃描電鏡的成像原理與透射電鏡有何不同？8、 電子束入射固體樣品表面會(huì)激發(fā)哪些信號(hào)？它們有哪些特點(diǎn)和用途？9、 二次電子像景深大，樣品凹坑底部都能清楚地顯示出來(lái)，從而使圖像的立體感很強(qiáng)，其原因何在？10、掃描電

27、鏡的分辨率受到哪些因素影響，用不同的信號(hào)成像時(shí)，其分辨率有何不同？所謂掃描電鏡的分辨率是指用何種信號(hào)成像時(shí)的分辨率？11、掃描電鏡的放大倍數(shù)與透射電鏡放大倍數(shù)相比有何特點(diǎn)？第十一章 電子探針X射線顯微分析一、名詞解釋1、EPMA 電子探針X射線顯微分析2、分光晶體 專門用來(lái)對(duì)X射線起色散作用的晶體3、點(diǎn)分析 是對(duì)某一選定點(diǎn)進(jìn)行定性分析，以確定該點(diǎn)區(qū)域內(nèi)存在的元素4、線掃描 使聚焦電子束在試樣觀察區(qū)內(nèi)沿一選定直線進(jìn)行慢掃描5、面掃描 聚焦電子束在試樣上作二維光柵掃描二、填空題1.電子探針的基本分析方法為： 定點(diǎn)定性分析、線掃描分析、面掃描分析和定點(diǎn)定量分析 。2、常用的X射線譜儀有兩種：波譜儀（

28、WDS）和能譜儀（EDS）。三、問(wèn)答與計(jì)算1、 電子探針與掃描電鏡有何異同？電子探針如何與掃描電鏡和透射電鏡配合進(jìn)行組織結(jié)構(gòu)與微區(qū)化學(xué)成分的同位分析？2、電子探針X射線顯微分析基本原理是什么？3、試比較波譜儀和能譜儀在進(jìn)行微區(qū)化學(xué)成分分析時(shí)的優(yōu)缺點(diǎn)。4、為什么說(shuō)電子探針是一種微區(qū)分析儀？5、要分析鋼中碳化物成分和基體中碳含量，應(yīng)選用哪種電子探針儀？為什么？6、要在觀察斷口形貌的同時(shí)，分析斷口上粒狀?yuàn)A雜物的化學(xué)成分，選用什么儀器？用怎樣的操作方式進(jìn)行具體的分析？7、電子探針?biāo)治龅脑胤秶话銖呐?B)鈾()，為什么不能分析輕元素（氫、氦、鋰和鈹）。8、舉例說(shuō)明電子探針的三種工作方式（點(diǎn)、線、面

29、）在顯微成分分析中的應(yīng)用。第十三章 緒論名詞解釋1、熱分析 利用物質(zhì)在溫度變化過(guò)程中，由于發(fā)生一系列物理、化學(xué)變化過(guò)程而顯示出來(lái)的熱效應(yīng)、體積變化、質(zhì)量變化等宏觀表現(xiàn)，來(lái)分析判斷試樣的組成、所含雜質(zhì)，了解試樣的熱變化特性的一種方法2、差熱分析（DTA）在程序控制下，測(cè)量物質(zhì)和參比物之間的溫度差與溫度關(guān)系的一種技術(shù)3、TG 熱重分析在程序控制溫度下，測(cè)量物質(zhì)的質(zhì)量與溫度關(guān)系的一種技術(shù)4、EDS 5、DTG6、差示掃描量熱法（DSC）差示掃描量熱分析在溫度程序控制下，測(cè)量被測(cè)和參比物的功率差與溫度關(guān)系的一種技術(shù)第十四章 差熱分析一、名詞解釋1、DTA曲線 是指試樣與參比物間的溫度差曲線和溫度曲線的

30、總稱2、零線 以記錄起始點(diǎn)所作平行于橫坐標(biāo)的理想直線，表示試樣和參比物之間的溫度差為零3、基線 即近似為0的部分4、吸熱峰 偏離基線向下而后又回到基線的部分，試樣發(fā)生吸熱效應(yīng)所致5、放熱峰 偏離基線向上而后又回到基線的部分，試樣發(fā)生放熱效應(yīng)所致二、填空題1、影響差熱曲線的主要因素是： 儀器因素的影響、實(shí)驗(yàn)條件的影響、試樣的影響 。2、利用DTA法測(cè)定混合物中各種礦物含量的方法，通常有下列幾種： 。3、DTA曲線是試樣與參比物間的溫度差曲線和溫度曲線的總稱。4、DTA中用參比物稀釋試樣的目的是： 。5、DTA儀主要有 種基本形式。 式，是把溫差電流通過(guò) 而記錄差熱曲線； 式，是通過(guò) 而記錄差熱曲線。6、.DTA儀結(jié)構(gòu)，一般有 、 、 和 四個(gè)系統(tǒng)。7、對(duì)稱度是指試樣和參比物在