XXXX試點單位專利管理實務(wù)培訓(xùn)班副本課件

1、專利挖掘、布局及信息運(yùn)用助推企業(yè)創(chuàng)新的案例分享天津市知識產(chǎn)權(quán)服務(wù)中心周佳第1頁，共114頁。波士頓矩陣分析第2頁，共114頁。知識產(chǎn)權(quán)能為企業(yè)帶來什么？ OR企業(yè)需要知識產(chǎn)權(quán)為其帶來什么？第3頁，共114頁。市場競爭優(yōu)勢政府獎勵專利資本化許可賺錢企業(yè)名片轉(zhuǎn)讓賺錢專利的作用第4頁，共114頁。知識產(chǎn)權(quán)是企業(yè)的優(yōu)質(zhì)資產(chǎn)，通過許可或轉(zhuǎn)讓的方式為企業(yè)帶來收益高通公司07、08和09年的許可和提成收入為31.06億、39.82億和39.50億美元，占總收入的35%、36%和38%。IBM每年許可提成收入穩(wěn)定在15-20億美元2012年4月10號，AOL宣布與微軟達(dá)成協(xié)議，以10.56億美元向后者出售80

2、0件專利和專利申請，平均每件專利支付125美元。4月25日消息，微軟以5.5億美元的價格把收購的多數(shù)AOL的專利轉(zhuǎn)手賣給facebook第5頁，共114頁。知識產(chǎn)權(quán)是企業(yè)的重要資產(chǎn)公司的市場價值財務(wù)資本知識資本財務(wù)資本貨幣資本人力資本關(guān)系資本有形資產(chǎn)=資產(chǎn)負(fù)債表、損益表、現(xiàn)金流量表結(jié)構(gòu)資本創(chuàng)新資本流程資本客戶關(guān)系供應(yīng)商關(guān)系專利商標(biāo)權(quán)著作權(quán)工作流程商業(yè)秘密第6頁，共114頁。激勵和保護(hù)創(chuàng)新，降低經(jīng)營風(fēng)險創(chuàng)新成果一：中國聯(lián)通組織國內(nèi)廠商和部分國外廠商完成了GMS和CDMA的雙模雙待手機(jī)標(biāo)準(zhǔn)的研制創(chuàng)新成果二：申請了一件雙模雙待相關(guān)的專利創(chuàng)新成果三：在運(yùn)營商重組之前，讓雙模雙待手機(jī)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)入實用階段研發(fā)

3、保護(hù)實施申請?zhí)枺篊N02101734.4發(fā)明名稱： CDMA/GSM雙模式移動 通信的方法及通信設(shè)備申請人： 華立集團(tuán)有限公司第7頁，共114頁。e.g. 2 CD的展會第8頁，共114頁。五力模型BECDA和下游廠商的議價能力和供應(yīng)商的議價能力潛在競爭者的競爭能力和行業(yè)內(nèi)同一產(chǎn)業(yè)鏈對手的競爭較量能力替代產(chǎn)品的威脅程度提升企業(yè)競爭力第9頁，共114頁。同一IP管理大師的不同策略第10頁，共114頁。明確企業(yè)所需知識產(chǎn)權(quán)帶來的價值，這是企業(yè)知識產(chǎn)權(quán)管理的魂魄！第11頁，共114頁。專 利 挖 掘第12頁，共114頁。專利挖掘技術(shù)成果技術(shù)成果專利申請素材專利挖掘?qū)＠诰?，是站在專利的視角，對紛繁?/p>

4、技術(shù)成果進(jìn)行剖析、拆分、篩選以及合理推測，進(jìn)而得出各技術(shù)創(chuàng)新點和專利申請技術(shù)方案的過程。第13頁，共114頁。專利挖掘的意義挖掘思路對于技術(shù)研發(fā)起到重要的指導(dǎo)作用，挖掘期間分析出來的所有可能存在專利申請素材的創(chuàng)新點都可以是進(jìn)一步研發(fā)的方向能夠從基礎(chǔ)專利出發(fā)梳理出所有的關(guān)聯(lián)技術(shù)點及其對應(yīng)的外圍專利，從而為基礎(chǔ)專利建立牢固的保護(hù)網(wǎng)避免科研成果出現(xiàn)專利保護(hù)的漏洞，并且能以現(xiàn)有技術(shù)成果為基礎(chǔ)，將專利保護(hù)的范圍延伸到所有可能具有專利申請價值的技術(shù)點第14頁，共114頁。 專利法所稱的技術(shù)方案：運(yùn)用自然規(guī)律解決人類生產(chǎn)、生活中某一特定技術(shù)問題的具體構(gòu)思，是利用自然規(guī)律、自然力使之產(chǎn)生一定效果的方案，是利用

5、自然規(guī)律解決生產(chǎn)、科研、實驗中各種問題的技術(shù)解決方案。方法專利挖掘的對象 技術(shù)方案 產(chǎn)品第15頁，共114頁。專利挖掘的對象 產(chǎn) 品 方 法 新產(chǎn)品的生產(chǎn)制備方法 已有產(chǎn)品的新生產(chǎn)方法全新的產(chǎn)品 改進(jìn)后的產(chǎn)品 結(jié)構(gòu)構(gòu)造改變的產(chǎn)品 材料發(fā)生改變的產(chǎn)品 組合而成的產(chǎn)品第16頁，共114頁?？缮暾垖＠邪l(fā)成果的典型特點技術(shù)效果技術(shù)問題C1C2C3解決了現(xiàn)有技術(shù)沒能解決的技術(shù)問題采用的技術(shù)實現(xiàn)過程與現(xiàn)有技術(shù)不同取得的技術(shù)效果比現(xiàn)有技術(shù)有進(jìn)步技術(shù)方案第17頁，共114頁。誤區(qū)一：專利的技術(shù)含量必須很高 能夠獲得專利的依據(jù)是專利法對于 專利的審查標(biāo)準(zhǔn)（新穎性和創(chuàng)造性 等），不是該專利能否符合國家的 技術(shù)進(jìn)

6、步獎要求，也不是技術(shù)含量 的高低。專利挖掘常見的誤區(qū)第18頁，共114頁。案例一：用于干燥長條形面食的桿技術(shù)問題：面條掛在桿上送入干燥室，面條容易粘在桿的表面，桿需要涂敷油脂和頻繁清洗。 專利挖掘常見的誤區(qū)第19頁，共114頁。誤區(qū)二：簡單的結(jié)構(gòu)不能專利專利挖掘常見的誤區(qū)第20頁，共114頁。專利挖掘常見的誤區(qū)案例1：一種噴嘴技術(shù)問題：現(xiàn)有的噴嘴是一種有芯、封閉式的噴嘴，噴射低壓條件下的粘稠液體時容易產(chǎn)生堵塞現(xiàn)象，維護(hù)麻煩。第21頁，共114頁。專利挖掘常見的誤區(qū)案例2：朗科的U盤專利快閃存儲器通用串行總線 快閃存儲器的外存儲使用方式簡單的結(jié)構(gòu)更應(yīng)該利用專利保護(hù)，防 止競爭對手仿制第22頁，共

7、114頁。專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)三：制作出樣品才能申請專利第23頁，共114頁。專利挖掘常見的誤區(qū)發(fā)明、實用新型和外觀設(shè)計保護(hù)的是什么？對于機(jī)械、機(jī)電、電子類產(chǎn)品而言，技術(shù)內(nèi)涵可通過構(gòu)造圖、示意圖結(jié)合文字來表達(dá)樣機(jī)、樣品制作耗時專利申報的原則第24頁，共114頁。專利挖掘常見的誤區(qū)誤區(qū)四：一件產(chǎn)品一個專利第25頁，共114頁。專利挖掘常見的誤區(qū)手機(jī)外觀結(jié)構(gòu)芯片外觀或構(gòu)造整機(jī)或部件電路攝像插接槽軟件通信協(xié)議翻蓋旋轉(zhuǎn)蘋果三星第26頁，共114頁。專 利 布 局第27頁，共114頁。專利布局的戰(zhàn)略：AABCABCDABCHABCEABCMABCFABCE大樹底下種草農(nóng)村包圍城市第28頁，共114頁。

8、高功率鋁銦鎵氮基礎(chǔ)發(fā)光二極管芯片制造方法包括使用透明襯底具有縱橫比，定義了細(xì)長的幾何第29頁，共114頁。權(quán)利要求布局上位權(quán)利要求第30頁，共114頁。下位產(chǎn)品權(quán)利要求專利組合戰(zhàn)略第31頁，共114頁。專利組合戰(zhàn)略下位產(chǎn)品權(quán)利要求第32頁，共114頁。專利布局的戰(zhàn)略：ALEDCHIPABCDABCH LEDPACKAGE POWER LEDPACKAGEABCFABCE大樹底下種草農(nóng)村包圍城市 BACKLIHTDEVICE SCANNINGDEVICE ILLUMINATEDEVICE第33頁，共114頁。專利布局的戰(zhàn)略：B權(quán)利要求同時布局到產(chǎn)品與方法產(chǎn)品方法侵權(quán)舉證容易對應(yīng)之金額較低侵權(quán)舉證

9、不易對應(yīng)之金額較高第34頁，共114頁。專利布局的戰(zhàn)略：C權(quán)利要求同時從小組件布局到大系統(tǒng)小組件系統(tǒng)侵權(quán)舉證容易對應(yīng)之金額較低侵權(quán)舉證不易對應(yīng)之金額較高模塊設(shè)備第35頁，共114頁。LGs US5835139第36頁，共114頁。第37頁，共114頁。傳統(tǒng)的做法，用四顆螺絲釘正面鎖住液晶面板的外框，鎖的很牢，但是造成外板太厚第38頁，共114頁。上框套在下框內(nèi)把4個螺絲改從側(cè)邊通過下框鎖住上框。easy第39頁，共114頁。解決方案第40頁，共114頁。專利主題：液晶顯示器螺絲在這第41頁，共114頁。由7件專利構(gòu)成專利布局 -Filed from 3 JUL 1997 to 28 DEC 2

10、00135個權(quán)利要求獨(dú)立項 - A LCD - A method of making a LCD device - A portable computer - A method of making a portable computer - A kit for assembling a display module-housing assembly for a LCD module專利布局第42頁，共114頁。目的 - 簡單的創(chuàng)意，獨(dú)特的發(fā)明，強(qiáng)大的專利布局 - 擴(kuò)大訴訟之求償基礎(chǔ)與許可談判之能力 - 獲取的權(quán)利金遠(yuǎn)超過專利申請費(fèi)用專利布局第43頁，共114頁。LPL vs 中華映管VSLPL

11、于2002年8月在美國加州控告華映的面板侵害其四件側(cè)邊鎖固slide-mount專利（US6002457,US5926237，US6373537, US6020942）,與二件方法專利（US4624737, US5825449）第44頁，共114頁。TOP 10 PATENT AWARD IN 2006第45頁，共114頁。尋找訴訟對象第46頁，共114頁。他山之石 可以攻玉LPL的側(cè)邊鎖固“slide mount”技術(shù)，并非LCD相關(guān)的核心技術(shù)，而是周邊的應(yīng)用技術(shù)；側(cè)邊鎖固“slide mount”技術(shù)只是周邊的應(yīng)用技術(shù)，但是卻是組成LCD產(chǎn)品的必要手段；側(cè)邊鎖固“slide mount”技

12、術(shù)并非LCD相關(guān)產(chǎn)品的核心技術(shù)，但卻可以拿到專利權(quán)，并經(jīng)過良好的撰寫，使得可以得到很大的專利范圍；經(jīng)過不斷的回避設(shè)計，可以形成完整的專利組合，阻卻別人使用或者進(jìn)入。第47頁，共114頁。專利布局的戰(zhàn)略-D權(quán)利要求同時從核心組件布局到應(yīng)用產(chǎn)品核心組件應(yīng)用產(chǎn)品侵權(quán)舉證容易對應(yīng)之金額較低侵權(quán)舉證不易對應(yīng)之金額較高成品第48頁，共114頁。從一件專利看專利布局第49頁，共114頁。第50頁，共114頁。第51頁，共114頁。第52頁，共114頁。第53頁，共114頁。第54頁，共114頁。第55頁，共114頁。第56頁，共114頁。第57頁，共114頁。第58頁，共114頁。第59頁，共114頁。第6

13、0頁，共114頁。第61頁，共114頁。第62頁，共114頁。第63頁，共114頁。第64頁，共114頁。第65頁，共114頁。第66頁，共114頁。全球?qū)＠季值?7頁，共114頁。第68頁，共114頁。專利布局的地區(qū)（國家）從法律所給予專利的權(quán)利進(jìn)行思考-中國專利法第十一條發(fā)明和實用新型專利權(quán)被授予后，除本法另有規(guī)定的以外，任何單位或個人未經(jīng)專利權(quán)人許可，都不得實施其專利，即不得為生產(chǎn)經(jīng)營目的制造、使用、銷售、許諾銷售、進(jìn)口其專利產(chǎn)品，或者使用其專利方法以及使用、許諾銷售、銷售、進(jìn)口依照該專利方法直接獲得的產(chǎn)品。制造地區(qū)、使用地區(qū)、銷售地區(qū)、出口地區(qū)等，都應(yīng)該進(jìn)行專利布局。第69頁，共11

14、4頁。專利布局的地區(qū)（國家）優(yōu)先從銷售量大的地區(qū)進(jìn)行專利布局-賠償金較高-和解金、許可費(fèi)、權(quán)利金也較高其次從制造量大的地區(qū)進(jìn)行專利布局-賠償金較高再次由訴訟費(fèi)用高、賠償金額大的地區(qū)進(jìn)行專利布局-敗訴方支付勝訴方的訴訟費(fèi)第70頁，共114頁。信 息 利 用第71頁，共114頁。世界上90%至95%的發(fā)明成果在專利文獻(xiàn)中都有記載如果能夠有效利用專利信息，可以縮短60%的研發(fā)周期，節(jié)省40%的研發(fā)費(fèi)用。第72頁，共114頁。比亞迪的經(jīng)驗-模仿宣言一家技術(shù)型企業(yè)的崛起必然要站在巨人的肩膀上，在繼承的基礎(chǔ)上創(chuàng)新。因此合法地規(guī)避已有專利，突破西方企業(yè)的專利封鎖是極為關(guān)鍵的一步。一款新產(chǎn)品的開發(fā)，60%來自

15、公開文獻(xiàn)，30%來自現(xiàn)成樣品，自身的研究實際上只有5%左右。我們大量使用非專利的技術(shù)，把專利技術(shù)剔除掉，非專利技術(shù)的組合就是我們的創(chuàng)新。專利需要尊重，但可以回避。第73頁，共114頁。借鑒競爭對手經(jīng)驗并繞開競爭對手的專利范圍確定研發(fā)產(chǎn)品是否侵權(quán)了解該領(lǐng)域?qū)＠季智闆r產(chǎn)品上市研發(fā)完成研發(fā)過程中研發(fā)立項前研究競爭對手是否落入自己的專利權(quán)利范圍，通過專利分析指導(dǎo)研發(fā)人員進(jìn)行后續(xù)的技術(shù)升級專利信息利用對于研發(fā)立項和產(chǎn)品上市的各個環(huán)節(jié)都非常重要！第74頁，共114頁。反映出某技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展趨勢第75頁，共114頁。本領(lǐng)域的申請主要來自職務(wù)發(fā)明，說明本領(lǐng)域技術(shù)水平較高，非職務(wù)發(fā)明人的技術(shù)力量難于參與到

16、本領(lǐng)域的研發(fā)工作中來。職務(wù)發(fā)明比例高，使專利申請的技術(shù)水平得到了保證，也有利于專利技術(shù)的轉(zhuǎn)化實施和保護(hù)。職務(wù)發(fā)明比例第76頁，共114頁。某技術(shù)領(lǐng)域中國專利申請人的申請國家分布我國38%的專利申請是由國外申請人提出的，國外申請人中美國、日本、德國的比例最高，說明這幾個國家較為重視中國市場。第77頁，共114頁。國內(nèi)某技術(shù)領(lǐng)域主要申請人的申請量排名。這樣的統(tǒng)計 有助于我們找到研發(fā)實力突出的申請人。第78頁，共114頁。國外某技術(shù)領(lǐng)域主要申請人的申請量排名。這樣的統(tǒng)計有助于我們找到研發(fā)實力突出的申請人。三菱、殼牌、日立、德士古具有突出的研發(fā)實力優(yōu)勢 。第79頁，共114頁。國內(nèi)某技術(shù)領(lǐng)域主要申請人

17、的技術(shù)構(gòu)成圖。從圖中可以看出該領(lǐng)域的主要申請人的研究范圍，覆蓋的技術(shù)點，以及各個申請人的重點側(cè)重的技術(shù)研究點。第80頁，共114頁。利用IPC分類的年度變化來分析重點技術(shù)及變化趨勢國外某技術(shù)領(lǐng)域技術(shù)構(gòu)成年度申請量。國外的專利申請在圖中所示五個IPC小組下的申請量的變化趨勢，以5年為一個周期波動，總體呈上升趨勢，沒有出現(xiàn)明顯技術(shù)熱點轉(zhuǎn)移。 第81頁，共114頁。國外該技術(shù)領(lǐng)域的國別技術(shù)構(gòu)成圖。歐美國家主要以B21D11/00和B21D11/12小組下的申請為主，這與亞洲國家的研究熱點有所不同。日本更側(cè)重B21F1/00，與中國情況有相似之處。韓國以B21D7/00為主。臺灣的情況更為特殊，超過一

18、半的申請量都集中在B21D11/12小組下 第82頁，共114頁。本領(lǐng)域中國專利授權(quán)比例不高，授權(quán)專利僅占27%，實審中占38%，公開占3%，視撤專利高達(dá)19%，終止占10%，駁回占3%。截至目前有效專利占27%，失效專利占35%，審查中占38%。授權(quán)專利的比例較低，說明本領(lǐng)域的專利技術(shù)含量不高或撰寫水平較差，很多專利申請達(dá)不到專利授權(quán)標(biāo)準(zhǔn)而被駁回或視撤。法律狀態(tài)分析第83頁，共114頁。技術(shù)路線分析聚合物鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術(shù)在各技術(shù)分支上的專利申請量分布基本上比較平均。造成這一現(xiàn)象的原因可能是影響聚合物鋰離子電池現(xiàn)場聚合效率的因素較多，因此業(yè)界對聚合物鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術(shù)的研究相對比較分

19、散。鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術(shù)領(lǐng)域第84頁，共114頁。技術(shù)功效矩陣鋰離子電池現(xiàn)場聚合技術(shù)領(lǐng)域可以看出聚合物鋰離子電池技術(shù)領(lǐng)域關(guān)注的焦點。在三個主要技術(shù)需求方面的專利申請量幾乎持平，明顯高于其余幾個方面，且保持穩(wěn)步增長。目前制約聚合物鋰離子電池的瓶頸仍在于充放電性能、容量性能以及安全性較低，業(yè)界對這些技術(shù)方向保持著較高的研究熱情。第85頁，共114頁。專利布局情況三星株式會社的專利布局較為廣泛表明三星株式會社的目標(biāo)不僅僅是國內(nèi)而是廣闊的全球市場在本國的申請量最大，在美國和日本與其本國接近2000年后開始關(guān)注中國市場，對歐洲市場的關(guān)注度較低第86頁，共114頁。專利訴訟 在被告專利侵權(quán)時積極應(yīng)訴，檢

20、索該專利申請日之前公布的可破壞其專利性的專利文獻(xiàn)，并作為證據(jù)通過訴訟程序無效該專利，保護(hù)企業(yè)合法權(quán)益。企業(yè)利用專利信息的需求第87頁，共114頁。應(yīng)用實例2011年3月29日，第39屆巴塞爾國際鐘表珠寶展上，瑞士公司向主辦發(fā)投訴，稱海鷗公司 侵權(quán)，要求海鷗公司立刻將有關(guān)產(chǎn)品撤下展臺并接受處罰。兩天后，巴塞爾國際鐘表珠寶展知識產(chǎn)權(quán)委員會宣布，中國天津海鷗手表集團(tuán)公司對瑞士企業(yè)的侵權(quán)投訴提出反訴并勝訴。這是中國企業(yè)首次在世界規(guī)模的國際鐘表珠寶展上成功維權(quán)。陀飛輪不銹鋼袖口飾品1955年中國第一只手表在天津誕生。他叫海鷗第88頁，共114頁。2012年的展會，自主研發(fā)、擁有核心技術(shù)、直徑最小、具有國

21、際水平的同軸陀飛輪女士腕表 9日，瑞士歐米茄公司向巴塞爾國際鐘表展組委會知識產(chǎn)權(quán)委員會投訴，稱海鷗表在對同軸陀飛輪的描述中用“CO-AXIAL”一詞，對歐米茄商標(biāo)構(gòu)成侵權(quán)。第89頁，共114頁。 海鷗集團(tuán)方面提出的申辯理由是：“海鷗”展會標(biāo)識牌上使用的英文CO-AXIAL是作為描述陀飛輪機(jī)芯結(jié)構(gòu)的修飾性形容詞，是對產(chǎn)品的描述，與商標(biāo)侵權(quán)無關(guān)。第90頁，共114頁。10日，巴塞爾國際鐘表展組委會知識產(chǎn)權(quán)委員會宣布裁決結(jié)果，海鷗表2012年巴塞爾展會使用的標(biāo)識牌未對歐米茄注冊商標(biāo)構(gòu)成任何侵害，駁回歐米茄公司的投訴。第91頁，共114頁。專利質(zhì)量第92頁，共114頁。高質(zhì)量專利申請文件1、技術(shù)領(lǐng)域、

22、主題把握準(zhǔn)確2、說明書滿足充分公開的最低標(biāo)準(zhǔn)3、說明書清楚、完整4、實施例數(shù)量能夠足夠支持權(quán)利要求5、權(quán)利要求撰寫層次分明、概括范圍適當(dāng)6、能夠有針對性地保護(hù)技術(shù)，防止侵權(quán)規(guī)避7、充分保護(hù)最佳方案，同時競爭對手做選擇性發(fā)明第93頁，共114頁。清楚完整公開充分形成高質(zhì)量專利申請文件A26.3說明書應(yīng)當(dāng)對發(fā)明或?qū)嵱眯滦妥鞒銮宄暾恼f明 第94頁，共114頁。目前存在的清楚性、完整性問題p1、由于申請人未理解專利申請文件清楚、完整的重要性，怠于為代理人提供足夠的技術(shù)資料 p2、申請人出于保密的考慮，將技術(shù)方案中的部分內(nèi)容隱瞞起來，僅提供一個大致的想法p3、由于申請人對自己使用的技術(shù)相當(dāng)?shù)厥煜ぃ瑢?/p>

23、技術(shù)方案中涉及到的大部分信息都當(dāng)作現(xiàn)有技術(shù)，認(rèn)為不需要進(jìn)行詳細(xì)介紹第95頁，共114頁。針對上述問題的對策P2缺少申請人欲保密內(nèi)容能滿足專利性嗎?是否繼續(xù)申請?zhí)峁┎牧匣蚍艞壣暾埖?6頁，共114頁。一項申請的發(fā)明點:工藝中采用了一種新的氣體，提高了形成的材料的性能 問題:申請人卻將該新的氣體作為保密內(nèi)容不愿意透露該氣體的具體名稱 需要判斷:該新的氣體的哪種特性在提高材料性能方面起到了主要的作用，是否能由某一類氣體實現(xiàn) 第97頁，共114頁。如果能, （雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點），則可以在申請文件中僅提出該類氣體，并舉出非最佳的幾種氣體（最佳氣體可以進(jìn)行保密） 風(fēng)險:競爭對手受啟

24、發(fā)研制出最佳氣體并申請專利,會讓自己陷入被動第98頁，共114頁。如果該材料性能的改進(jìn)只能由一種特定的氣體實現(xiàn)，則必須在申請文件中指出該特定氣體 ,否則就只能放棄專利申請.第99頁，共114頁。注:對可能影響該技術(shù)方案能否實現(xiàn)的相關(guān)內(nèi)容也要做出具體的描述；但是，對于與技術(shù)方案能否實現(xiàn)關(guān)系不大、且可以采用多種方法中的任一種實現(xiàn)的內(nèi)容，則可以略寫。如可以將其作為現(xiàn)有技術(shù)，僅提到在技術(shù)方案中也可以適用什么方法或什么結(jié)構(gòu)即可。 適度描述原則第100頁，共114頁。發(fā)明點:對沉積工藝的工藝條件進(jìn)行改進(jìn)，以得到 更為均勻的薄膜 需要詳述的內(nèi)容:圍繞該沉積工藝;如，說明本技術(shù)方案中所用的沉積設(shè)備的結(jié)構(gòu)、原理

25、等，沉積薄膜時所用的各種反應(yīng)氣體、載氣體等；列出沉積時所選用的各工藝條件（如溫度、氣壓、功率等）及原因，沉積過程中各工藝條件的改變對薄膜沉積質(zhì)量的影響等等。第101頁，共114頁。 不需要詳述的內(nèi)容:對于襯底的相關(guān)描述.如，如何利用拉晶等方式形成襯底，其的結(jié)構(gòu)有什么特點（如其晶向等），它在沉積前可能已形成的內(nèi)部結(jié)構(gòu)具體是如何形成的等等。適度描述舉例第102頁，共114頁。說明書公開充分說明書對技術(shù)內(nèi)容的公開所需達(dá)到的程度，即需達(dá)到所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員按照說明書記載的內(nèi)容，不付出創(chuàng)造性勞動就能夠?qū)崿F(xiàn)該發(fā)明或?qū)嵱眯滦偷募夹g(shù)方案，解決其技術(shù)問題，并且產(chǎn)生預(yù)期的技術(shù)效果的程度。第103頁，共114頁

26、。說明書未公開充分情形及舉例1. 說明書只描述了任務(wù)或目標(biāo)，并描述了實現(xiàn)該任務(wù)或目標(biāo)之后所取得的效果和功能，但是沒有給出任何實現(xiàn)該任務(wù)或目標(biāo)的具體技術(shù)手段。第104頁，共114頁。說明書未公開充分情形及舉例例1. 一種有關(guān)飛行器（飛碟）的發(fā)明專利申請，僅僅描述了其實現(xiàn)的功能是可以垂直起降、瞬間達(dá)到10倍音速的飛行速度，可以急停急轉(zhuǎn)；并且描述了借助該飛行器人類可以實現(xiàn)自由來往于星球之間的夢想。但是說明書并沒有公開該飛行器的具體結(jié)構(gòu)和如何實現(xiàn)上述超級功能的具體技術(shù)手段。第105頁，共114頁。說明書未公開充分情形及舉例2. 說明書給出了含糊不清的技術(shù)手段，本領(lǐng)域技術(shù)人員無法根據(jù)說明書的描述實施該技術(shù)手段。第106頁，共114頁。說明書未公開充分情形及舉例例2. 在一件涉及金屬材料處理方法的專利申請中，申請人公開了在一定的溫度下對某材料進(jìn)行回火處理的步驟，但是沒有公開具體的溫度范圍。也就是說，說明書給出了技術(shù)手段（回火），但是該技術(shù)手段是含糊不清的，即本技術(shù)領(lǐng)域的人員并不能得知在多高的溫度下進(jìn)行回火處理會達(dá)到本發(fā)明的技術(shù)效果。第107頁，共114頁。說明書未公開充分情形及舉例3. 說明書給出了技術(shù)手段，但是實施該技術(shù)手段之后，并不能解決發(fā)明或?qū)嵱?/p>