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激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用1前言激光打標(biāo)是目前國(guó)際上工業(yè)產(chǎn)品標(biāo)記的最先進(jìn)技術(shù),己經(jīng)日益成為一種有效的標(biāo)記加工方法激光具有很好的單色性相干性,方向性,能在很小的面積中積聚很高的能量密度,特別適用于材料加工。激光標(biāo)刻是利用高能量密度的激光對(duì)工件進(jìn)行局部照射,使表層材料汽化或發(fā)生顏色變化的化學(xué)反應(yīng),從而留下永久性標(biāo)記的種打標(biāo)方法前言2目錄>激光標(biāo)刻技術(shù)簡(jiǎn)介激光打標(biāo)機(jī)設(shè)備及其組成激光打標(biāo)機(jī)原理>激光打標(biāo)機(jī)種類及其應(yīng)用激光打標(biāo)機(jī)控制軟件介紹目錄3激光標(biāo)刻演示武漢三工光設(shè)備制籃有限公習(xí)YAG原光打標(biāo)機(jī)視頻示W(wǎng)UHANSUNICLASER激光標(biāo)刻演示4激光標(biāo)刻產(chǎn)品展示激光標(biāo)刻產(chǎn)品展示5激光打標(biāo)機(jī)的性能特點(diǎn)1.穩(wěn)定性好2輸出效率高3精度高4.能耗低且無(wú)耗材激光打標(biāo)機(jī)的性能特點(diǎn)6激光打印機(jī)設(shè)備激光器性能指標(biāo)獲得認(rèn)證:CDRH、CE、U|D激光器:二極管泵浦的NdYAG激光波長(zhǎng):1064nmEN|TH°平均功率:50WELEDlodo-PumpedLaser運(yùn)轉(zhuǎn)模式:Q-SwitchedQ開(kāi)關(guān)頻率:2kHz到50kHz打標(biāo)速度:0.5到5000mm/sec打標(biāo)區(qū)域:根據(jù)透鏡可選輸入電壓:110VAC或220VACZENITHO50sY側(cè)泵浦激光打標(biāo)機(jī)50:60Hz用電功率:22kV內(nèi)部冷卻水需求量:6.8升蒸餾水外部冷卻水:沒(méi)有要求激光打印機(jī)設(shè)備7硬件組成1.激光頭光頭2.主控機(jī)箱控分體一體)制冷機(jī)3.制冷機(jī)4.工作機(jī)架硬件組成8內(nèi)部結(jié)構(gòu)輸束倍準(zhǔn)直D聲光Q開(kāi)光鏡‖晶體(鏡模塊LD側(cè)泵全固體激光器的實(shí)物圖內(nèi)部結(jié)構(gòu)9工作原理工作物質(zhì)擴(kuò)束X振鏡鏡泵浦源場(chǎng)鏡一工作原理10激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件11激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件12激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件13激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件14激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件15激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件16激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件17激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件18激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件19激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件20激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件21激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件22激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件23激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件24激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件25激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件26激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件27激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件28激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件29激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件30激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件31激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件32激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用33前言激光打標(biāo)是目前國(guó)際上工業(yè)產(chǎn)品標(biāo)記的最先進(jìn)技術(shù),己經(jīng)日益成為一種有效的標(biāo)記加工方法激光具有很好的單色性相干性,方向性,能在很小的面積中積聚很高的能量密度,特別適用于材料加工。激光標(biāo)刻是利用高能量密度的激光對(duì)工件進(jìn)行局部照射,使表層材料汽化或發(fā)生顏色變化的化學(xué)反應(yīng),從而留下永久性標(biāo)記的種打標(biāo)方法前言34目錄>激光標(biāo)刻技術(shù)簡(jiǎn)介激光打標(biāo)機(jī)設(shè)備及其組成激光打標(biāo)機(jī)原理>激光打標(biāo)機(jī)種類及其應(yīng)用激光打標(biāo)機(jī)控制軟件介紹目錄35激光標(biāo)刻演示武漢三工光設(shè)備制籃有限公習(xí)YAG原光打標(biāo)機(jī)視頻示W(wǎng)UHANSUNICLASER激光標(biāo)刻演示36激光標(biāo)刻產(chǎn)品展示激光標(biāo)刻產(chǎn)品展示37激光打標(biāo)機(jī)的性能特點(diǎn)1.穩(wěn)定性好2輸出效率高3精度高4.能耗低且無(wú)耗材激光打標(biāo)機(jī)的性能特點(diǎn)38激光打印機(jī)設(shè)備激光器性能指標(biāo)獲得認(rèn)證:CDRH、CE、U|D激光器:二極管泵浦的NdYAG激光波長(zhǎng):1064nmEN|TH°平均功率:50WELEDlodo-PumpedLaser運(yùn)轉(zhuǎn)模式:Q-SwitchedQ開(kāi)關(guān)頻率:2kHz到50kHz打標(biāo)速度:0.5到5000mm/sec打標(biāo)區(qū)域:根據(jù)透鏡可選輸入電壓:110VAC或220VACZENITHO50sY側(cè)泵浦激光打標(biāo)機(jī)50:60Hz用電功率:22kV內(nèi)部冷卻水需求量:6.8升蒸餾水外部冷卻水:沒(méi)有要求激光打印機(jī)設(shè)備39硬件組成1.激光頭光頭2.主控機(jī)箱控分體一體)制冷機(jī)3.制冷機(jī)4.工作機(jī)架硬件組成40內(nèi)部結(jié)構(gòu)輸束倍準(zhǔn)直D聲光Q開(kāi)光鏡‖晶體(鏡模塊LD側(cè)泵全固體激光器的實(shí)物圖內(nèi)部結(jié)構(gòu)41工作原理工作物質(zhì)擴(kuò)束X振鏡鏡泵浦源場(chǎng)鏡一工作原理42激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件43激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件44激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件45激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件46激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件47激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件48激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件49激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件50激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件51激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件52激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件53激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件54激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件55激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件56激光標(biāo)刻技術(shù)原理及應(yīng)用課件57激光標(biāo)
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