標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 11164-2011 真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件》相比于《GB/T 11164-1999 真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件》,主要在以下幾個方面進行了更新與調(diào)整:

  1. 技術(shù)內(nèi)容的增補與細化:2011版標(biāo)準(zhǔn)對真空鍍膜設(shè)備的技術(shù)要求進行了更詳細的規(guī)范,包括設(shè)備的結(jié)構(gòu)設(shè)計、材料選擇、制造工藝及質(zhì)量控制等方面,以適應(yīng)技術(shù)進步和行業(yè)發(fā)展的新需求。

  2. 性能指標(biāo)的提升:更新了對真空鍍膜設(shè)備的性能要求,如真空度、膜層均勻性、沉積速率等關(guān)鍵參數(shù),設(shè)立了更為嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn),確保鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率的提升。

  3. 安全與環(huán)保要求:增加了對設(shè)備安全操作及環(huán)境保護的相關(guān)規(guī)定,強調(diào)設(shè)備在設(shè)計和使用過程中應(yīng)符合國家有關(guān)安全、環(huán)保的法律法規(guī),體現(xiàn)了對安全生產(chǎn)和可持續(xù)發(fā)展的重視。

  4. 檢測方法與驗收準(zhǔn)則:提供了更為具體和可操作的檢測方法和驗收準(zhǔn)則,幫助用戶和制造商在設(shè)備驗收時有明確的標(biāo)準(zhǔn)參照,增強了標(biāo)準(zhǔn)的實用性和執(zhí)行力。

  5. 術(shù)語和定義的更新:根據(jù)技術(shù)發(fā)展,修訂并新增了一些專業(yè)術(shù)語和定義,使標(biāo)準(zhǔn)語言更加準(zhǔn)確、清晰,便于行業(yè)內(nèi)外人士理解和應(yīng)用。

  6. 兼容性與國際接軌:考慮到全球化背景下技術(shù)交流與合作的需求,2011版標(biāo)準(zhǔn)在制定時參考了國際上先進的同類標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)規(guī)范,提高了國內(nèi)真空鍍膜設(shè)備的國際競爭力和市場適應(yīng)性。


如需獲取更多詳盡信息,請直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。

....

查看全部

  • 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 2011-11-21 頒布
  • 2012-06-01 實施
?正版授權(quán)
GB/T 11164-2011真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件_第1頁
GB/T 11164-2011真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件_第2頁
GB/T 11164-2011真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件_第3頁
GB/T 11164-2011真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件_第4頁
免費預(yù)覽已結(jié)束,剩余8頁可下載查看

下載本文檔

免費下載試讀頁

文檔簡介

ICS23160

J78.

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T11164—2011

代替

GB/T11164—1999

真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件

Vacuumcoatingplantgenericspecification

2011-11-21發(fā)布2012-06-01實施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T11164—2011

目次

前言…………………………

范圍………………………

11

規(guī)范性引用文件…………………………

21

術(shù)語和定義………………

31

技術(shù)要求…………………

42

試驗方法…………………

54

檢驗規(guī)則…………………

65

標(biāo)志包裝運輸貯存……………………

7、、、5

GB/T11164—2011

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)代替真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件與相比主要變

GB/T11164—1999《》,GB/T11164—1999

化如下

:

為使用方便增加了目次

———;

修改了中真空鍍膜設(shè)備的壓力范圍由-4-3修改為-5

———GB/T11164—1999,10Pa~10Pa10Pa~

-3

10Pa;

修改了表中鍍膜室尺寸分檔增加了

———GB/T11164—19991,300、400、450、1100、1350、2200、

十檔尺寸并對帶號尺寸優(yōu)先選用進行了調(diào)整

2400、2500、2600、3200,“*”;

修改了表中鍍膜設(shè)備的分檔增加了檔鍍膜設(shè)備并增加或修改了各

———GB/T11164—19991,C,

檔鍍膜設(shè)備的極限壓力抽氣時間及升壓率指標(biāo)

、;

因中部分規(guī)范性引用文件已修訂故本標(biāo)準(zhǔn)引用現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)

———GB/T11164—1999,;

修改了的用表格的方式規(guī)定了設(shè)備配套的電器裝置中各電氣回路

———GB/T11164—19994.4.6,

的絕緣電阻值

;

修改了的及增加了安全防護內(nèi)容

———GB/T11164—19994.5.44.5.12,。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國機械工業(yè)聯(lián)合會提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國真空技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會歸口

(SAC/TC18)。

本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位北京北儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限責(zé)任公司

:。

本標(biāo)準(zhǔn)參加起草單位上海曙光機械制造廠有限公司蘭州真空設(shè)備有限責(zé)任公司成都南光機器

:、、

有限公司中國航天科技集團第五研究院第研究所上?;葚S石油化工有限公司沈陽真空技術(shù)研

、510、、

究所

。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人陳月增謝鈞榮范立群孫凱溫發(fā)蘭靳毅劉強惠進德王學(xué)智

:、、、、、、、、。

本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為

:

———GB/T11164—1989、GB/T11164—1999。

GB/T11164—2011

真空鍍膜設(shè)備通用技術(shù)條件

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空鍍膜設(shè)備的技術(shù)要求試驗方法檢驗規(guī)則及標(biāo)志包裝運輸和貯存等要求

、、、、。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于壓力在-5-3范圍的真空蒸發(fā)類濺射類離子鍍類真空鍍膜設(shè)備以下

10Pa~10Pa、、(

簡稱設(shè)備

)。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅所注日期的版本適用于本

。,

文件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

包裝儲運圖示標(biāo)志

GB/T191—2008

真空技術(shù)術(shù)語

GB/T3163—2007

機械電氣安全機械電氣設(shè)備第部分通用技術(shù)條件

GB5226.1—20081:

真空技術(shù)法蘭尺寸

GB/T6070—2007

標(biāo)牌

GB/T13306—2011

機電產(chǎn)品包裝通用技術(shù)條件

GB/T13384—2008

電能質(zhì)量電力系統(tǒng)頻率偏差

GB/T15945—2008

機械電氣安全指示標(biāo)志和操作第部分關(guān)于視覺聽覺和觸覺信號的

GB18209.1—2010、1:、

要求

真空設(shè)備型號編制方法

JB/T7673

3術(shù)語和定義

界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件

GB/T3163—2007。

31

.

極限壓力ultimatepressure

泵在工作時空載干燥的真空容器逐漸接近達到并維持穩(wěn)定的最低壓力

,、

溫馨提示

  • 1. 本站所提供的標(biāo)準(zhǔn)文本僅供個人學(xué)習(xí)、研究之用,未經(jīng)授權(quán),嚴(yán)禁復(fù)制、發(fā)行、匯編、翻譯或網(wǎng)絡(luò)傳播等,侵權(quán)必究。
  • 2. 本站所提供的標(biāo)準(zhǔn)均為PDF格式電子版文本(可閱讀打印),因數(shù)字商品的特殊性,一經(jīng)售出,不提供退換貨服務(wù)。
  • 3. 標(biāo)準(zhǔn)文檔要求電子版與印刷版保持一致,所以下載的文檔中可能包含空白頁,非文檔質(zhì)量問題。

評論

0/150

提交評論