GB/T 17473.6-1998厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料測(cè)試方法分辨率測(cè)定

ICS77.040.01H23中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T17473.6一1998厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料測(cè)試方法分辨率測(cè)定TestmethodsofpreciousmetalpastesusedforthickfilmmicroelectronicsDeterminationofresolution1998-08-19發(fā)布1999-03-01實(shí)施國家質(zhì)量技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

GB/T17473.6-1998前貴金屬漿料是厚膜微電子技術(shù)領(lǐng)域的一種重要材料，分辨率是漿料的主要性能之一。目前我國尚未制定出漿料分辨率測(cè)試方法的標(biāo)準(zhǔn)，也未檢索到該測(cè)試方法的國際標(biāo)準(zhǔn)或國外先進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)主要參照日本標(biāo)準(zhǔn)JISC5010(印刷線路板規(guī)則》及相關(guān)資料.結(jié)合我國貫金屬漿料生產(chǎn)與應(yīng)用實(shí)踐而制定的。本本標(biāo)準(zhǔn)由中國有色金屬工業(yè)總公司提出。本標(biāo)準(zhǔn)由中國有色金屬工業(yè)總公司標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量研究所歸口。本標(biāo)準(zhǔn)由昆明貴金屬研究所負(fù)責(zé)起草.本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：張林震。

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)厚膜微電子技術(shù)用貴金屬漿料分辨率測(cè)定測(cè)試方法GB/T17473.6-1998Testmethodsofpreciousmetalpastesusedforthickfilmmicroelectronics-Determinationofresolution1范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了貴金屬漿料分辨率的測(cè)試方法本標(biāo)準(zhǔn)適用于貴金屬漿料的分辨率測(cè)定。非貴金屬漿料亦可參照使用。2引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí),所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會(huì)被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。GB/T8170—1987數(shù)值修約規(guī)則3方法提要旅料用絲網(wǎng)印刷成圖形。圖形經(jīng)烘干或燒結(jié)后，用顯微鏡在一定的放大倍數(shù)下觀察和測(cè)量圖形的膜線寬度和線間距，進(jìn)行漿料分辨率的測(cè)定。材料4.1光刻膜絲網(wǎng)絲徑20～25m不銹鋼絲網(wǎng)。4.2Al.O。含量不小于95%、表面粗糙度為0.5～1.5Pm(在測(cè)距為10mm的條件下測(cè)最)的陶瓷基片5設(shè)備與儀器5.11半自動(dòng)厚膜印刷機(jī)。5.2紅外烘干機(jī)。5.33厚膜隧道燒結(jié)爐。5-44讀數(shù)顯微鏡，放大倍數(shù)25～100X,讀數(shù)精度0.01mm以上。5.5光切測(cè)厚儀。6樣品制備6.1在溫度20～25℃、相對(duì)濕度45%～75%和大氣壓力86～106kPa環(huán)境下，用印刷機(jī)在基片上印出圖形，印刷圖案為與表1中的膜線寬度和線間距相等的五組4線條