標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 40128-2021 表面化學(xué)分析 原子力顯微術(shù) 二硫化鉬片層材料厚度測量方法》是一項國家標(biāo)準(zhǔn),旨在規(guī)范使用原子力顯微鏡(AFM)對二硫化鉬(MoS?)片層材料進行厚度測量的方法。該標(biāo)準(zhǔn)適用于科研機構(gòu)、高等院校及企業(yè)實驗室等場合中對于單層或多層二硫化鉬薄膜厚度的精確測定。

標(biāo)準(zhǔn)詳細描述了從樣品準(zhǔn)備到數(shù)據(jù)處理的整個實驗流程,包括但不限于:

  • 樣品制備要求:確保待測樣品表面清潔無污染,且具有良好的平整度;
  • 測量環(huán)境條件設(shè)定:溫度、濕度等因素均需控制在一定范圍內(nèi)以減少外界因素對結(jié)果的影響;
  • AFM操作參數(shù)選擇:根據(jù)實際需要調(diào)整掃描速度、力曲線模式等關(guān)鍵設(shè)置;
  • 數(shù)據(jù)采集與分析:通過軟件自動或手動選取感興趣區(qū)域,并利用特定算法計算出相應(yīng)位置處的MoS?層數(shù)及其對應(yīng)厚度值;
  • 結(jié)果報告格式:提供了一套標(biāo)準(zhǔn)化的數(shù)據(jù)記錄模板,便于不同研究之間進行比較和交流。


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....

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  • 正在執(zhí)行有效
  • 2021-05-21 頒布
  • 2021-12-01 實施
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GB/T 40128-2021表面化學(xué)分析原子力顯微術(shù)二硫化鉬片層材料厚度測量方法_第1頁
GB/T 40128-2021表面化學(xué)分析原子力顯微術(shù)二硫化鉬片層材料厚度測量方法_第2頁
GB/T 40128-2021表面化學(xué)分析原子力顯微術(shù)二硫化鉬片層材料厚度測量方法_第3頁
GB/T 40128-2021表面化學(xué)分析原子力顯微術(shù)二硫化鉬片層材料厚度測量方法_第4頁
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文檔簡介

ICS7104040

CCSG.04.

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T40128—2021

表面化學(xué)分析原子力顯微術(shù)

二硫化鉬片層材料厚度測量方法

Surfacechemicalanalysis—Atomicforcemicroscopy—Testmethodfor

thicknessofthetwo-dimensionallayeredmolybdenumdisulfidenanosheets

2021-05-21發(fā)布2021-12-01實施

國家市場監(jiān)督管理總局發(fā)布

國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T40128—2021

目次

前言

…………………………Ⅲ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術(shù)語和定義

3………………1

方法概述

4…………………2

儀器設(shè)備

5…………………3

試劑與材料

6………………4

樣品制備

7…………………4

測量步驟

8…………………4

測量報告

9…………………9

附錄資料性層狀納米片的制備方法及形貌表征

A()MoS2…………10

附錄資料性層狀納米片厚度測量實例

B()MoS2……………………12

附錄資料性推薦的測量報告格式

C()…………………16

參考文獻

……………………17

GB/T40128—2021

前言

本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

請注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機構(gòu)不承擔(dān)識別專利的責(zé)任

。。

本文件由全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出并歸口

(SAC/TC38)。

本文件起草單位國家納米科學(xué)中心上海納米技術(shù)及應(yīng)用國家工程研究中心有限公司上海市計

:、、

量測試技術(shù)研究院北京粉體技術(shù)協(xié)會

、。

本文件主要起草人朱曉陽朱君常懷秋齊笑迎蔡瀟雨周素紅

:、、、、、。

GB/T40128—2021

表面化學(xué)分析原子力顯微術(shù)

二硫化鉬片層材料厚度測量方法

1范圍

本文件規(guī)定了利用原子力顯微術(shù)測量層狀二硫化鉬納米片厚度的測量方法

。

本文件適用于轉(zhuǎn)移或生長在固體襯底表面的層狀二硫化鉬納米片厚度的測量測量范圍從單層二

,

硫化鉬納米片至厚度不大于其他類似的納米片層材料厚度測量也可參照此方法進行

100nm,。

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文

。,

件僅該日期對應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于

,;,()

本文件

。

納米科技術(shù)語第部分核心術(shù)語

GB/T30544.11:

納米科技術(shù)語第部分納米物體表征

GB/T30544.66:

納米科技術(shù)語第部分石墨烯及相關(guān)二維材料

GB/T30544.1313:

納米科技納米物體的術(shù)語和定義納米顆粒納米纖維和納米片

GB/T32269、

納米技術(shù)納米顆粒尺寸測量原子力顯微術(shù)

GB/T33714

3術(shù)語和定義

和界定的以及下列術(shù)語和定義適用

GB/T32269、GB/T30544.1、GB/T30544.6GB/T30544.13

于本文件

。

31

.

納米尺度nanoscale

處于之間的尺寸范圍

1nm~100nm。

注1本尺寸范圍通常但非專有地表現(xiàn)出不能由較大尺寸外推得到的特性對于這些特性來說尺度上下限值

:、。,、

是近似的

。

注2本定義中引入下限約的目的是為了避免將單個原子或原子團簇認為是納米物體或納米結(jié)構(gòu)單元

:(1nm)

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