標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 42895-2023 微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)技術(shù) 硅基MEMS微結(jié)構(gòu)彎曲強(qiáng)度試驗(yàn)方法》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),旨在規(guī)范硅基MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))微結(jié)構(gòu)在進(jìn)行彎曲強(qiáng)度測(cè)試時(shí)所采用的方法和技術(shù)要求。該標(biāo)準(zhǔn)適用于評(píng)估和比較不同硅基MEMS器件或材料的機(jī)械性能,特別是其抵抗外力導(dǎo)致變形直至斷裂的能力。

根據(jù)此標(biāo)準(zhǔn),首先明確了適用范圍包括但不限于用于傳感器、執(zhí)行器等領(lǐng)域的硅基MEMS產(chǎn)品。接著定義了相關(guān)術(shù)語(yǔ),如“彎曲強(qiáng)度”是指試樣在三點(diǎn)彎曲條件下發(fā)生破壞前所能承受的最大應(yīng)力值;“硅基MEMS微結(jié)構(gòu)”則指由硅材料制成并通過(guò)微細(xì)加工技術(shù)形成的具有特定功能的小型化結(jié)構(gòu)。

對(duì)于試驗(yàn)設(shè)備及條件,《GB/T 42895-2023》規(guī)定了需要使用專門(mén)設(shè)計(jì)的加載裝置來(lái)施加精確可控的載荷,并且對(duì)環(huán)境溫度、濕度等因素提出了具體要求以確保測(cè)試結(jié)果的一致性和可比性。此外,還詳細(xì)描述了樣品準(zhǔn)備流程,從切割到清洗再到最終固定于試驗(yàn)臺(tái)上都給出了指導(dǎo)性意見(jiàn)。

在測(cè)試過(guò)程中,標(biāo)準(zhǔn)強(qiáng)調(diào)了數(shù)據(jù)記錄的重要性,要求記錄下每次加載循環(huán)中的最大力值以及相應(yīng)的位移量等關(guān)鍵參數(shù)。同時(shí),也提供了計(jì)算彎曲強(qiáng)度的具體公式,并指出如何利用這些數(shù)據(jù)繪制出應(yīng)力-應(yīng)變曲線圖,進(jìn)而分析樣品的力學(xué)特性。


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....

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  • 現(xiàn)行
  • 正在執(zhí)行有效
  • 2023-08-06 頒布
  • 2023-12-01 實(shí)施
?正版授權(quán)
GB/T 42895-2023微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)技術(shù)硅基MEMS微結(jié)構(gòu)彎曲強(qiáng)度試驗(yàn)方法_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

ICS31200

CCSL.59

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T42895—2023

微機(jī)電系統(tǒng)MEMS技術(shù)

()

硅基MEMS微結(jié)構(gòu)彎曲強(qiáng)度試驗(yàn)方法

Micro-electromechanicalsstemsMEMStechnolo—Bendinstrenthtest

y()gygg

methodformicrostructuresofsiliconbasedMEMS

2023-08-06發(fā)布2023-12-01實(shí)施

國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布

國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T42895—2023

目次

前言

…………………………Ⅲ

范圍

1………………………1

規(guī)范性引用文件

2…………………………1

術(shù)語(yǔ)和定義

3………………1

試驗(yàn)要求

4…………………2

原位片上彎曲強(qiáng)度試驗(yàn)機(jī)的設(shè)計(jì)要求

4.1……………2

原位片上彎曲強(qiáng)度試驗(yàn)機(jī)的制備要求

4.2……………3

試驗(yàn)環(huán)境要求

4.3………………………4

試驗(yàn)方法

5…………………4

概述

5.1…………………4

微結(jié)構(gòu)彎曲強(qiáng)度試驗(yàn)過(guò)程

5.2…………4

微結(jié)構(gòu)彎曲強(qiáng)度試驗(yàn)結(jié)果計(jì)算

5.3……………………5

附錄規(guī)范性測(cè)試裝置和測(cè)試結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)尺寸

A()………6

GB/T42895—2023

前言

本文件按照標(biāo)準(zhǔn)化工作導(dǎo)則第部分標(biāo)準(zhǔn)化文件的結(jié)構(gòu)和起草規(guī)則的規(guī)定

GB/T1.1—2020《1:》

起草

。

請(qǐng)注意本文件的某些內(nèi)容可能涉及專利本文件的發(fā)布機(jī)構(gòu)不承擔(dān)識(shí)別專利的責(zé)任

。。

本文件由全國(guó)微機(jī)電技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口

(SAC/TC336)。

本文件起草單位北京大學(xué)中機(jī)生產(chǎn)力促進(jìn)中心有限公司中國(guó)電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究院北京燕東

:、、、

微電子科技有限公司無(wú)錫韋感半導(dǎo)體有限公司深圳市美思先端電子有限公司南京飛恩微電子有限

、、、

公司廣州奧松電子股份有限公司上海臨港新片區(qū)跨境數(shù)據(jù)科技有限公司

、、。

本文件主要起草人張大成楊芳李根梓顧楓劉鵬高程武于志恒王旭峰李鳳陽(yáng)華璇卿

:、、、、、、、、、、

陳藝劉若冰張彥秀萬(wàn)蔡辛武斌曹萬(wàn)張賓張啟心

、、、、、、、。

GB/T42895—2023

微機(jī)電系統(tǒng)MEMS技術(shù)

()

硅基MEMS微結(jié)構(gòu)彎曲強(qiáng)度試驗(yàn)方法

1范圍

本文件描述了硅基加工所涉及的微結(jié)構(gòu)彎曲強(qiáng)度原位試驗(yàn)的要求和試驗(yàn)方法

MEMS。

本文件適用于采用微電子工藝制造的微結(jié)構(gòu)彎曲強(qiáng)度測(cè)試

2規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過(guò)文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款其中注日期的引用文

。,

件僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于

,;,()

本文件

。

微機(jī)電系統(tǒng)技術(shù)術(shù)語(yǔ)

GB/T26111(MEMS)

金屬基復(fù)合材料術(shù)語(yǔ)

GB/T34558

3術(shù)語(yǔ)和定義

和界定的以及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

GB/T26111GB/T34558。

31

.

等強(qiáng)度梁beamofconstantstrength

各橫截面上的最大正應(yīng)力都相等的梁

。

32

.

硅加工工藝siliconprocess

硅微加工技術(shù)

。

注雖然硅工藝一般分為表面微加工和體硅微加工但其中的許多技術(shù)是相同的

:,。

來(lái)源

[:GB/T26111—2010,3.5.2]

33

.

彎曲強(qiáng)度bendingstrength

試樣在彎曲斷裂前所承受的最大正應(yīng)力

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