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文檔簡介
核磁共振氫譜
ProtonNuclearMagneticResonanceSpectra1HNMR核磁共振氫譜12學(xué)時基本原理,化學(xué)位移,自旋-自旋分裂譜圖信息與分子結(jié)構(gòu)關(guān)系譜圖解析,簡化譜圖及輔助解析方法2HNMR原子核的自旋原子核質(zhì)量數(shù)為雙數(shù)時,自旋量子數(shù)I為整數(shù),為單數(shù)時,I為半整數(shù)(1/2,3/2,5/2…)原子核置于磁場中,核磁有2I+1種取向(磁量子數(shù)m=I,I-1,…,-I+1,-I)。3HNMR
質(zhì)量原子序數(shù)
I
奇奇或偶半整數(shù)
I=1/2,3/2,5/2…
偶奇整數(shù)I=1,2…
偶偶0
I=04HNMR
I=1/2:
1H1
13C6
15N7
19F9
31P15
57Fe26
77Se34195Pt78
199Hg80…I=3/2:
7Li3
9Be4
11B5
23Na11
33S16
39K1963Cu29
65Cu29
35Cl17
37Cl1779Br3581Br35...5HNMRI=1/2時核磁取向6HNMR磁場中的原子核自旋進(jìn)動頻率當(dāng)含有核自旋的試樣放在靜磁場中B0,按B0垂直方向照射交變磁場v1,不斷改變v1(頻率掃描),當(dāng)v1正好等于v0時,進(jìn)動角發(fā)生很大改變,核從B1吸收能量,從低能態(tài)向高能態(tài)躍遷,此即核磁共振。7HNMR量子力學(xué)選律可知,只有
m=1的躍遷,才是允許躍遷,所以相鄰兩能級之間的能量差:
E=-
··m·B0=
··B0
E∝B0
8HNMR在外加磁場B0中,兩個能級與磁場強度的關(guān)系B09HNMR共振信號的強度根據(jù)愛因斯坦的輻射理論,兩個能級之間的量子躍遷有感應(yīng)吸收,感應(yīng)反射和自發(fā)射三種情況,在射頻和微波頻段的自發(fā)發(fā)射幾率小到可以忽略不計。設(shè)相鄰兩能級為E1和E2,低能級粒子數(shù)為N1,高能級粒子數(shù)為N2,在熱平衡狀態(tài)下,各能級的粒子數(shù)遵從Boltzmann分布:估算,室溫t=30℃,T=303K;B0=1T,ν0=42.5775MHz/T,k=1.38066×10-23J/K→(N1-N2)/N1≈7×10-6這說明每百萬個低能級上的核比高能級上的核大約只多出7個,因此核磁共振信號非常弱。10HNMR弛豫在電磁波的作用下,激發(fā)態(tài)的分子可以放出能量回到低能態(tài),重建Boltzmann分布。只有當(dāng)激發(fā)和輻射的幾率相等時,才能維持Boltzmann分布,可以連續(xù)觀測到光譜信號。弛豫過程(Relaxation),就是高能態(tài)的核以非輻射的形式放出能量回到低能態(tài)重建Boltzmann分布的過程。如果沒有弛豫過程,飽和現(xiàn)象容易發(fā)生。11HNMR弛豫過程示意圖12HNMR自旋-晶格弛豫
(spin-latticeRelaxation)晶格泛指環(huán)境,即高能態(tài)自旋核把能量傳給周圍環(huán)境(同類分子、溶劑小分子、固體晶格等)轉(zhuǎn)變?yōu)闊徇\動而本身回到低能態(tài)維持Boltzmann分布。結(jié)果是N-數(shù)目下降。自旋-晶格弛豫過程的半衰期用T1表示(T1與樣品狀態(tài)及核的種類、溫度有關(guān))液體T1~1s,固體或粘度大的液體T1很大。自旋-晶格弛豫又稱縱向弛豫。13HNMR自旋-自旋弛豫
(spin-spinRelaxation):高能態(tài)核把能量傳給同類低能態(tài)的自旋核,本身回到低能態(tài),維持Boltzmann分布。結(jié)果是高低能態(tài)自旋核總數(shù)不變。自旋-自旋弛豫過程的半衰期用T2表示。液體T2~1s,固體或粘度大的液體,T2很小,10-4~10-5s14HNMR譜線寬度(
1/2)弛豫時間雖被分為T1,T2,但對于每一核磁來說,它在某一較高能級平均停留的時間,只取決于T1及T2之較小者.弛豫時間(T1、T2二者中的較小者)對半峰高寬度的影響很大,原因來自測不準(zhǔn)原理(uncertaintyprinciple):
E·t
h
1/2
1/T15HNMR由弛豫作用引起的譜線加寬是“自然”寬度,不可能由儀器的改進(jìn)而使之變窄.如果儀器的磁場不夠均勻,當(dāng)然也會使譜線變寬。樣品管的旋轉(zhuǎn)只能克眼一部分的磁場不均勻程度。很多精確測量時,要注意抽除樣品中所合的空氣,因為氧是順磁性物質(zhì),其波動磁場有利于縮短T1,使譜線加寬。16HNMR化學(xué)位移電子屏蔽效應(yīng)17HNMR核外電子在與外磁場垂直的平面上繞核旋轉(zhuǎn)的同時,會產(chǎn)生與外磁場方向相反的感生磁場。感生磁場的大小用σ·B0表示。σ為屏蔽常數(shù),與核外電子云的密度有關(guān)。18HNMR核實際感受到的磁場強度
(有效磁場Beff)
Beff
=B0
-σ·B0
Beff=B0(1-σ)
核的共振頻率為:
=·B0(1-σ)19HNMR化學(xué)位移表示方法δ=106
δ=106(ppm)20HNMR高場(固定照射頻率)低頻能量遞減21HNMR影響化學(xué)位移的因素核外電子云的密度高,σ值大,核的共振吸收高場(或低頻)位移。核外電子云的密度低,σ值小,核的共振吸收低場(或高頻)位移。凡是使氫核外電子密度改變的因素都能影響化學(xué)位移。若結(jié)構(gòu)上的變化使核外電子密度下降,譜峰位置移向低場。22HNMR主要參考標(biāo)準(zhǔn)物TMS
(CH3)4Si,Tetramethylsilicane
DSS
(CH3)3SiCH2CH2CH2SO3Na23HNMR
影響化學(xué)位移的因素誘導(dǎo)效應(yīng)化學(xué)鍵的各向異性共軛效應(yīng)濃度、溫度、溶劑對δ值的影響溶劑對δ值的影響24HNMR誘導(dǎo)效應(yīng)
(電負(fù)性取代基的影響)CH3FCH3OHCH3ClCH3BrCH3I
CH4TMS4.03.53.02.82.52.11.84.263.143.052.682.160.23025HNMR
CH4CH3ClCH2Cl2CHCl3δ(ppm)0.233.055.337.27
CH3—CH2—CH2—X
γβα0.931.533.49—OH1.061.813.47—Cl26HNMR化學(xué)鍵的各向異性(1)各向異性:氫核與某功能基空間位置不同,導(dǎo)致其化學(xué)位移不同。27HNMR28HNMR化學(xué)鍵的各向異性(2)化學(xué)鍵的各向異性:因化學(xué)鍵的鍵型不同,導(dǎo)致與其相連的氫核的化學(xué)位移不同。CH3CH3CH2=CH2HC≡CHδ(ppm):0.865.251.8029HNMR30HNMR31HNMR32HNMR++HHHH---++-各相異性HH環(huán)流影響33HNMRHHHHHHHHHHHHHHHHHd
=-2.99
d
=9.28
34HNMR共軛效應(yīng)35HNMRVanderWaals效應(yīng)
△δHa=0.76ppm,
△δHb=1.15ppm36HNMR各類質(zhì)子的化學(xué)位移37HNMR積分一個共振譜中,各種氫的峰,面積與氫的數(shù)目成正比。38HNMR39H
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