整理WIRD0325鍍膜機(jī)操作及鍍膜工藝指導(dǎo)書

1、鍍膜機(jī)操作及鍍膜工藝指導(dǎo)書受控狀態(tài)及編號文件編號GL/WI-RD-03-25頁碼Page 1 of 30部門技術(shù)部發(fā)布日期2013年12月9日擬制徐威審核批準(zhǔn)變更 履歷12007-05-28文件整合將老版文件改為新版的格式聶旭光22007-08-15內(nèi)容新增1、增加產(chǎn)品鍍膜前烘烤要求Page 15周霞2、增加表單Page 20周霞32007-10-09客戶審核要求1、增加變更履歷Page 1楊莎2、去掉產(chǎn)品鍍膜前烘烤要求Page 15周霞3、5#鍍膜機(jī)增加光柵增透Page 15聶旭光42008-04-29內(nèi)容新增新增鍍膜應(yīng)急情況處理辦法Page 7.8馮浩52008-09-09內(nèi)容新增Page

2、 12馮浩62009-04-13內(nèi)容變更更新3#鍍膜機(jī)作業(yè)流程Page 9-14何健72009-04-24內(nèi)容新增新增4#鍍膜機(jī)作業(yè)流程Page 19-21何健82009-05-18客戶審核要求新增鍍膜產(chǎn)品切換要求Page 21何健92009-08-05文件整合全部更新全文馮浩102010-01-15內(nèi)容變更1.變更4#5#6#機(jī)臺清洗周期 2變更4#工藝參 數(shù)馮浩112010-04-7內(nèi)容新增1. 新增 7.95um/10.8um 光柵鍍膜工藝 page9-142. 增加405nm增透工藝page20徐威122010-7-28內(nèi)容變更1. 變更3#鍍膜機(jī)保養(yǎng)規(guī)范Page 132. 變更4#鍍

3、膜機(jī)工藝參數(shù)Page 18-223. 變更5#鍍膜機(jī)工藝參數(shù)Page 25-264. 變更6#鍍膜機(jī)工藝參數(shù)Page 30徐威袁超132010-9-13內(nèi)容新增新增鍍膜工藝卡片Page 18，32葉小兵142010-9-20內(nèi)容新增新增3#，4#鍍膜機(jī)烘烤溫度點(diǎn)檢要求馮浩152011-4-18內(nèi)容新增新增鍍膜工藝卡片三洋 BD414藍(lán)光偏小AR正常AR偏大AR徐威162011-11-21文件整合全部更新全文靖澤兵172011-12-30內(nèi)容變更部分內(nèi)容調(diào)整Page 3.4.7靖澤兵182012-2-8內(nèi)容變更表單變更Page28靖澤兵192012-3-12內(nèi)容變更表單變更Page28靖澤兵20

4、2012-5-21內(nèi)容新增1. 增加測溫時(shí)機(jī)，時(shí)機(jī)為停機(jī)大于等于24小時(shí)后測溫。2. 明確8.2.4中C條處理辦法靖澤兵212012-12-26內(nèi)容變更表單變更Page28靖澤兵222013-1-5內(nèi)容新增新增陽極筒更換注意事項(xiàng)Page16徐威232013-1-14內(nèi)容新增1. 新增清掃注意事項(xiàng)及膜料存放要求Page3、42. 新增下傘條件Page 83. 新增離子源存放要求Page 164. 變更設(shè)備清洗流程Page 13、15、20、225. 變更配件更換要求Page 14、21徐威242013-12-9應(yīng)客戶要求增加產(chǎn)品面別一覽表Page 29-30楊莎252014-4-23內(nèi)容變更Si

5、o2加料變更Page 4徐威一、目的為了規(guī)范鍍膜作業(yè)員鍍膜操作，特制定該文件。二、適用范圍本文件適用于參與鍍膜操作的全體人員。三、設(shè)備及輔助材料3.1 1# :昭和真空鍍膜機(jī)；3.2 2# :昭和真空鍍膜機(jī)；3.3 3# :萊寶真空鍍膜機(jī)；3.4 4# :韓一真空鍍膜機(jī)；3.5 5# :現(xiàn)代南光ZZS1100真空鍍膜機(jī)；3.6 6# :現(xiàn)代南光ZZS1100真空鍍膜機(jī)；3.7其它設(shè)備及輔助材料：鍍膜材料、吸塵器、銅刷、錘子、鑷子、丙酮、口罩、手套四、鍍膜機(jī)制作產(chǎn)品范圍編號名稱適用產(chǎn)品4.11#昭和鍍膜機(jī)作業(yè)流程全反、增透膜等4.22#昭和鍍膜機(jī)作業(yè)流程全反、增透膜等4.33#萊寶鍍膜機(jī)作業(yè)流程

6、光柵、濾光片、分光、全反、增透膜等4.44#韓一鍍膜機(jī)作業(yè)流程濾光片、分光、全反、增透膜等4.55#南光鍍膜機(jī)作業(yè)流程分光、增透膜等4.66#南光鍍膜機(jī)作業(yè)流程增透膜等4.7鍍膜產(chǎn)品切換要求生產(chǎn)中減少產(chǎn)品切換頻率五、鍍膜作業(yè)內(nèi)容5.1鍍膜流程圖5.2鍍膜操作說明昭和萊寶南光開機(jī)參考設(shè)備部文件參考設(shè)備部文件參考設(shè)備部文件參考設(shè)備部文件1、使用工具：銅刷和吸塵器2、清掃流程：清掃探注意事項(xiàng)：整個(gè)清潔過程中操作人員必須戴口罩、手套；遮料板每罩清掃，每3罩反射鏡更換1次，并拆網(wǎng)噴砂處理 (3)用鋁紙包的護(hù)板每5罩反射鏡(35罩AR)須更換。昭和萊寶韓一南光1添加SiO2時(shí)，先將坩堝周圍衛(wèi)生p、添加Si

7、O2時(shí)，先將燒結(jié)成塊的1、添加SiO2時(shí)，先將坩堝周圍衛(wèi)生清1、添加SiO2時(shí)，先將坩堝周圍衛(wèi)生清:清潔再將燒結(jié)成塊的SiO2取出，然后SiO2取出，然后加入新的SiO2膜料，潔再將燒結(jié)成塊的 SiO2取出，然后加潔再將燒結(jié)成塊的SiO2取出，然后加入加入新的SiO2膜料。添加時(shí)，用添料添加時(shí)，用專用治具一邊添加一邊壓入新的SiO2膜料，添加時(shí)，用添料勺新的SiO2膜料，添加時(shí)，用專用治具一勺一邊添加一邊壓緊，最終添加到膜緊（見圖示），最終添加到膜料與坩一邊添加一邊壓緊（見圖示），最終添邊添加一邊壓緊（見圖示），最終添加料與坩堝上邊沿齊平即可。堝上邊沿齊平即可。加到膜料與坩堝上邊沿齊平即可。到

8、膜料與坩堝上邊沿齊平即可。2、添加TiO2時(shí)，需將前一次熔出的2、添加Ti3O5時(shí)，將前一次熔出的2、添加TiO2時(shí)，將前一次熔出的坑填2、添加TiO2時(shí)，需將前一次熔出的坑坑填平。坑填平即可。平即可。填平即可。探添加膜料注意相對應(yīng)坩堝序號，及3、添加ZrO2時(shí)，只需將前次使用的3、添加Si時(shí)，添加的膜料需低于坩堝3、添加Si時(shí)，添加的膜料需低于坩堝所需添加的材料名稱；膜料取出，更換成新膜料即可，膜料邊緣 2mmr 3mm邊緣 2mmr 3mm探膜料添加完畢后，需將坩堝周邊的必須放置到坩堝中心位置。探添加膜料注意相對應(yīng)坩堝序號，及探添加膜料注意相對應(yīng)坩堝序號，及所多余膜料清除干凈。卜添加膜料注

9、意相對應(yīng)坩堝序號，所需添加的材料名稱；需添加的材料名稱；及所需添加的材料名稱；探膜料添加完畢后，需將坩堝周邊的探膜料添加完畢后，需將坩堝周邊的多膜料的存放要求：卜膜料添加完畢后，需將坩堝周邊多余膜料清除干凈。余膜料清除干凈。1、不使用的已熔膜料需放入干燥塔內(nèi) 保存的多余膜料清除干凈。膜料的存放要求：膜料的存放要求：添料2、已開啟的膜料，0.5KG以內(nèi)的放1膜料的存放要求：1、不使用的已熔膜料需放入干燥塔內(nèi)1、不使用的已熔膜料需放入干燥塔內(nèi)保包干燥劑，0.5KG以上的放2包干燥1、不使用的已熔膜料需放入干燥塔保存存劑。內(nèi)保存2、已開啟的膜料，0.5KG以內(nèi)的放12、已開啟的膜料，0.5KG以內(nèi)的

10、放1包2、已開啟的膜料，0.5KG以內(nèi)的放1 包干燥劑，0.5KG以上的放2包干燥 齊嘰包干燥劑，0.5KG以上的放2包干燥劑。干燥劑，0.5KG以上的放2包干燥劑。昭和萊寶南光SiO2添加圖SiO2添加圖SiO2添加圖SiO2添加圖SiO2添加后圖:SiO2添加后圖:SiO2添加后圖:SiO2添加后圖:TiO2 添加后圖:TiO2 添加后圖:TiO2 添加后圖:TiO2添加后圖:昭和萊寶韓一南光每罩均需更換光控片吏用光控時(shí)：每罩均需更換光控片，使用光控時(shí)：每罩鍍膜前需檢查光控片1、檢查晶振片壽命值，壽命值v 96%寸,:1鍍FM時(shí)更換20個(gè)光控片；冋時(shí)檢查晶振壽命值，壽命值10使用狀況，并根

11、據(jù)下罩鍍膜產(chǎn)品決定是必須更換晶振片。2、鍍AR時(shí)更換4個(gè)光控片。時(shí)必須更換晶振片；否需要更換光控片（例：光控共40個(gè)2、晶振片更換好后，需檢查晶振頻率是探更換過程中注意保持光控片表面單獨(dú)使用晶控時(shí)，每罩檢查晶振壽命點(diǎn)，若已用28個(gè)點(diǎn)，而下一罩需要用否止常顯示，壽命值是否98%若不是，潔凈。值：16個(gè)點(diǎn)，貝U 28+16=44 40,故在鍍下則需重新更換。探更換后需在鍍膜原始數(shù)據(jù)記錄1、鍍GT產(chǎn)品時(shí)，晶振壽命值3時(shí)一罩之前需更換光控片），同時(shí)檢查晶探更換過程中注意保持光控/晶控片表表中做好更換記錄。必須更換晶振片；每更換陽極筒時(shí)也振壽命值，壽命值16時(shí)必須更換晶面潔凈；必須更換晶振片振片；探更換

12、后需在鍍膜原始數(shù)據(jù)記錄表光控、晶控2、鍍除GT以外其它產(chǎn)品時(shí)，晶振壽單獨(dú)使用晶控時(shí)：檢查晶振壽命值，壽中做好更換記錄。確認(rèn)命值8時(shí)必須更換晶振片；命值10時(shí)必須更換晶振片；3、晶振片更換好后，需檢查晶振頻晶振片更換好后，需檢查晶振頻率是否率是否正常顯示，壽命值是否為 0,正常顯示，壽命值是否為 0,若不是，若不是，則需重新更換。則需重新更換。更換過程中注意保持光控/晶控探更換過程中注意保持光控/晶控片片表面潔凈；表面潔凈；探探更換后需在鍍膜原始數(shù)據(jù)探更換后需在鍍膜原始數(shù)據(jù)記錄表記錄表中做好更換記錄。中做好更換記錄。將裝好鏡片的傘架放置到鍍膜機(jī)工件將裝好鏡片的傘架放置到鍍膜機(jī)工將裝好鏡片的傘架放

13、置到鍍膜機(jī)工件架上，并確認(rèn)是否放置到位。件架上，并確認(rèn)是否放置到位。架上，并確認(rèn)是否放置到位。參考鍍膜裝取片作業(yè)指導(dǎo)書上傘探 上傘時(shí)應(yīng)避免手或袖口等碰觸鏡 上傘時(shí)應(yīng)避免手或袖口等碰觸鏡探上傘時(shí)應(yīng)避免手或袖口等碰觸鏡GL/WI-RD-13-02片，造成鏡片臟污。片，造成鏡片臟污。片，造成鏡片臟污。1用無塵布擦拭密封圈和門邊沿，以p、用無塵布擦拭密封圈和門邊沿，1、用無塵布擦拭密封圈和門邊沿，以 1、用無塵布擦拭密封圈和門邊沿，以防 防臟污影響抽真空速度；以防臟污影響抽真空速度；防臟污影響抽真空速度；臟污影響抽真空速度；2、關(guān)閉真空室門，點(diǎn)擊面版上的“排2、關(guān)真空室門，按 VENT鍵（關(guān)放氣2、關(guān)

14、閉真空室門，按一下“ RUN鍵，2、關(guān)閉真空室門，同時(shí)開烘烤，進(jìn)入排氣開始”鍵,進(jìn)入自動(dòng)排氣、加熱狀態(tài)。閥），設(shè)備即進(jìn)入抽真空狀態(tài)。設(shè)備進(jìn)入自動(dòng)排氣、加熱狀態(tài)。氣狀態(tài)。排氣探 記錄開始排氣的時(shí)間點(diǎn)探 記錄開始排氣的時(shí)間點(diǎn)探 記錄開始排氣的時(shí)間點(diǎn)探 記錄開始排氣的時(shí)間點(diǎn)（抽真空）3、檢查鍍膜機(jī)自動(dòng)運(yùn)行狀態(tài)：“ Power3、檢查自動(dòng)運(yùn)行的幾個(gè)AUTO開關(guān)狀探在抽真空冋時(shí)要如實(shí)記錄抽真空時(shí)Supply ”是否保持“ Ob”狀態(tài)。態(tài):ROTATION POCKET SHUTTER間。HEATER APC（ RVC30Q 充氧需要），3、預(yù)熔膜料電子槍、加熱是否均為 EXT模式。探SiO2膜料不需要預(yù)

15、熔。熔Si時(shí)需手動(dòng)熔料昭和萊寶韓一南光鍍膜制程文件選擇：鍍膜機(jī)電腦操作：1、按STEP鍵、再按8鍵，檢查程序檢查鍍膜程序調(diào)用是否正確，若確認(rèn)無:1、當(dāng)真空度達(dá)到 3.0E-3Pa且抽真空時(shí):軟件界面中依次選擇：“成膜實(shí)行” T編輯是否止確。誤，單擊HOPE程序界面中綠色 START間達(dá)到2小時(shí)時(shí)可進(jìn)行鍍膜；“鍍膜條件名選擇”（根據(jù)產(chǎn)品制造2、按STEP鍵，再按7鍵，檢查所鍍鍵，則設(shè)備進(jìn)入自動(dòng)運(yùn)行狀態(tài)。2、鍍膜前確認(rèn)所鍍產(chǎn)品型號，尋找該產(chǎn)單產(chǎn)品名稱選擇鍍膜制程文件，如：膜系是否正確。探 在整個(gè)自動(dòng)過程中，注意調(diào)整電子品的鍍膜程序，并根據(jù)程序規(guī)定進(jìn)行鍍FM-23I81選擇制程文件“ M-23I81

16、 ” )3、按 AUTO鍵、START鍵，則設(shè)備束光斑的位置和大小。膜。成膜開始”，則設(shè)備進(jìn)入自動(dòng)運(yùn)進(jìn)入自動(dòng)運(yùn)行狀態(tài)。探鍍膜過程中需觀察監(jiān)控速率是否穩(wěn)3、鍍膜完成后關(guān)閉烘烤保持咼真空5分行狀態(tài)。探 在整個(gè)自動(dòng)過程中，注意調(diào)整電定，束流是否正常，進(jìn)氧是否正常，真鐘后關(guān)閉高閥。探 在整個(gè)自動(dòng)過程中，注意調(diào)整電子子束光斑的位置和大小?？斩仁欠穹€(wěn)定，若不穩(wěn)定則需在鍍膜探 鍍膜時(shí)冋種膜料的光斑放置位置要束光斑的位置和大小。探 鍍膜過程中需觀察光控曲線極值探鍍膜過程中需觀察監(jiān)控速率是否 穩(wěn)定，束流是否正常，進(jìn)氧是否正常，原始數(shù)據(jù)記錄表中記錄異常狀況。一致，光斑掃描大小要一致。探電子槍電流調(diào)節(jié)不可忽大忽小，

17、時(shí)常鍍膜點(diǎn)走勢是否止常，進(jìn)氧是否止常,真空 度是否穩(wěn)定，若不正常則需在鍍膜原 始數(shù)據(jù)記錄表中記錄異常狀況。真空度是否穩(wěn)定，若不穩(wěn)定則需在 鍍膜原始數(shù)據(jù)記錄表中記錄異常 狀況。使用的電流調(diào)節(jié)位置做好標(biāo)記，以便下 次使用時(shí)參考。探Si膜料鍍完后要將坩堝中的膜料突 起熔平才能旋轉(zhuǎn)坩堝，以免坩堝卡住。探當(dāng)鍍膜過程中發(fā)現(xiàn)膜料噴濺時(shí)，需及時(shí)關(guān)閉蒸發(fā)擋板，并記錄此時(shí)晶振所顯 示的厚度值，待膜料預(yù)溶至無噴濺現(xiàn)象 時(shí)方可繼續(xù)鍍膜。探鍍膜過程中需觀察監(jiān)控速率是否穩(wěn) 定，束流是否止常，進(jìn)氧是否止常 ，真空 度是否穩(wěn)定，若不穩(wěn)定則需在鍍膜原始 數(shù)據(jù)記錄表中記錄異常狀況1、鍍膜完成后，鍍膜機(jī)觸膜屏控制面1、鍍膜完成后等

18、待腔體門自動(dòng)打開；1、鍍膜完成后，鍍膜機(jī)將按以下順序溫度降至220 C后打開放氣閥待真空室板上“排氣系”界面自動(dòng)進(jìn)入 “大氣”2、若需手動(dòng)放氣，則按下VACUUM1動(dòng)作：MVOFF（設(shè)定時(shí)間），HEATEPFF門自動(dòng)打開。狀態(tài)。SELECT菜單中放氣閥 VENT鍵。（設(shè)定時(shí)間），ROTAT10N OFF冷探 開門時(shí)間點(diǎn)需記錄到 鍍膜原始數(shù)據(jù)進(jìn)氣2、若需手動(dòng)放氣，在鍍膜機(jī)觸膜屏控 制面板上“排氣系”界面選擇“手動(dòng)” t關(guān)閉“ MV1MV2Polycold 開始除霜，35 C時(shí)除霜完成）t點(diǎn)擊“ WSW（開始進(jìn)氣）。探 開門時(shí)間點(diǎn)需記錄到 鍍膜原始數(shù) 據(jù)記錄表中。探 開門時(shí)間點(diǎn)需記錄到鍍膜原始 數(shù)

19、據(jù)記錄表中。卻結(jié)束（設(shè)定時(shí)間），LV開，充氣， 開門。2、若需手動(dòng)放氣，則待POLYCOL除霜 結(jié)束后按下白色VENT鍵等待自動(dòng)開門。探 開門時(shí)間點(diǎn)需記錄到鍍膜原始數(shù) 據(jù)記錄表中。記錄表中。昭和萊寶韓一南光下傘將傘架從鍍膜機(jī)工件架上取下，放置 到凈化工作臺中。探 下傘時(shí)需帶石棉網(wǎng)手套，避免燙 傷；探 下傘時(shí)應(yīng)避免手或袖口等碰觸鏡 片，造成鏡片臟污。將傘架從鍍膜機(jī)工件架上取下，放置 到凈化工作臺中。探 下傘時(shí)需帶石棉網(wǎng)手套，避免燙傷；探下傘時(shí)應(yīng)避免手或袖口等碰觸鏡片，造成鏡片臟污。將傘架從鍍膜機(jī)工件架上取下，放置到 凈化工作臺中。探下傘時(shí)需帶石棉網(wǎng)手套，避免燙傷；探 下傘時(shí)應(yīng)避免手或袖口等碰觸鏡

20、片，造成鏡片臟污。參考鍍膜裝取片作業(yè)指導(dǎo)書GL/WI-RD-13-021. 當(dāng)車間溫度低于22C時(shí)，每罩產(chǎn)品鍍完膜后等溫度降至 200C以下開進(jìn)氣閥，開門后等溫度降至 50C以下取傘。2. 當(dāng)車間溫度高于22C時(shí)，按照原工藝進(jìn)行生產(chǎn)。機(jī)參考設(shè)備部文件參考設(shè)備部文件參考設(shè)備部文件參考設(shè)備部文件5.3鍍膜后自檢5.3.1光學(xué)性能檢查：A. 鏡片冷卻至常溫后，取1、3、5圈各一片，測試光學(xué)性能（見測試清單），并按鍍膜批號保存好鍍膜曲線；B. 光柵產(chǎn)品冷卻至常溫后，每圈傘片邊緣各取一片，去膠并測試衍射比值；C. 若測試光學(xué)性能0K則將測試片歸還到吸塑盒中原位置后，將測試曲線與對應(yīng)產(chǎn)品一同后流品質(zhì)抽檢；

21、D. 若測試光學(xué)性能NG則及時(shí)通知當(dāng)班組長，當(dāng)班組長若能自行調(diào)整則調(diào)整后再知會(huì)項(xiàng)目負(fù)責(zé)人，若不能自行調(diào)整則第一時(shí)間通知產(chǎn)品負(fù)責(zé)人， 待產(chǎn)品負(fù)責(zé)人制定調(diào)整方案后再做調(diào)整，調(diào)整狀況均需詳細(xì)記錄到鍍膜原始數(shù)據(jù)記錄表中。5.3.2外觀檢查：A. 每罩取測試了光學(xué)性能的3片產(chǎn)品進(jìn)行外觀檢查；B. 檢查方式：置于強(qiáng)光燈下，目視檢查；C. 檢查項(xiàng)目：麻點(diǎn)、噴點(diǎn)、霧狀、手指印、水漬等；D. 處理方法：3片中只要發(fā)現(xiàn)有1片不良，及需上報(bào)當(dāng)班組長，由組長確認(rèn)是否可繼續(xù)生產(chǎn)，當(dāng)組長不能判定時(shí)，需上報(bào)項(xiàng)目負(fù)責(zé)人，由項(xiàng)目負(fù) 責(zé)人確定是否可繼續(xù)生產(chǎn)，同時(shí)項(xiàng)目負(fù)責(zé)人需制定改善方案。六、膜料更換及使用6.1膜料更換膜料名稱常

22、規(guī)更換周期更換流程SiO2每次洗設(shè)備后更換Si 15天（15天為蒸著使用時(shí)間）TiO2 Ti3O5 Ta2O5Nb2O5 A12O3 H4 15天（15天為蒸著使用時(shí)間）送噴砂房噴砂清潔加熱管邊緣，工件架 邊緣，機(jī)內(nèi)側(cè)壁沉積膜料4用銅刷或刮刀+清潔電子槍周邊用吸塵器將粉塵吸除用鋁紙將電子槍蓋好+吸除掉落的膜料及粉塵清水沖洗干凈用酒精擦拭擦拭擴(kuò)散泵上方真空室、POLYCOLD管道及真空室內(nèi)壁用酒精擦拭清潔電子槍體用1000#砂紙用酒精浸泡并擦拭*更換槍燈絲打磨安裝電子槍、真空室內(nèi)的 底板、左右護(hù)板及擋板排氣測試護(hù)板清洗要求：拆卸人員與噴砂人員共同填寫韓一鍍膜機(jī)清洗交接表。 排氣要求：溫度設(shè)定30

23、0r，抽真空一小時(shí)，并試槍及離子源空鍍 5-10分鐘733配件更換A、電子槍燈絲更換1#電子槍燈絲更換周期：25天/周期（25天為鍍膜機(jī)工作時(shí)間）;2#電子槍燈絲更換周期：每次清洗機(jī)臺時(shí)更換。在生產(chǎn)周期內(nèi)出現(xiàn)電子槍燈絲打火或槍燈絲燒斷情況時(shí)可更換槍燈絲，。更換新的槍燈絲后要預(yù)熱10分鐘以上。注：作業(yè)員更換槍燈絲時(shí)組長需監(jiān)督確認(rèn)，并在鍍膜原始數(shù)據(jù)記錄表中記錄更換信息 以便在下次清洗設(shè)備時(shí)由組長判定是否再次更換槍燈絲 B、晶振片更換單獨(dú)晶振控制時(shí)：晶振壽命值 10時(shí)必須更換晶振片；光控控制時(shí)：晶振壽命值16時(shí)必須更換晶振片；當(dāng)發(fā)現(xiàn)鍍膜速率不穩(wěn)時(shí)及時(shí)更換晶振片；裝好后，檢查晶振頻率是否正常顯示，壽命

24、值是否為0。注：1、更換晶振片時(shí)，需保持晶振片表面清潔；2、更換晶控片后需在鍍膜原始數(shù)據(jù)記錄表中記錄更換信息。C、光控?zé)襞莞鼡Q更換周期：7天/周期（7天為工作時(shí)間）更換周期內(nèi)如果發(fā)現(xiàn)光信號發(fā)生波動(dòng)較大時(shí)或出現(xiàn)極值點(diǎn)偏差時(shí)，則當(dāng)即更換光控?zé)襞葑ⅲ焊鼡Q光控?zé)襞莺笮柙阱兡ぴ紨?shù)據(jù)記錄表中記錄更換信息；7.4南光鍍膜機(jī)清洗741清洗周期10天/周期（以鍍AR計(jì)算w 60罩）清水沖洗護(hù)板清洗要求：拆卸人員與噴砂人員共同填寫南光鍍膜機(jī)清洗交接表 排氣要求：溫度設(shè)定280C，抽真空2小時(shí)，并試槍空鍍5-10分鐘743配件更換A、電子槍燈絲更換2#電子槍燈絲更換周期：每次清洗機(jī)臺時(shí)更換。在生產(chǎn)周期內(nèi)出現(xiàn)電子槍

25、燈絲打火或槍燈絲燒斷情況時(shí)可更換槍燈絲更換新的槍燈絲后要預(yù)熱10分鐘以上。注：作業(yè)員更換槍燈絲時(shí)組長需監(jiān)督確認(rèn)，并在鍍膜原始數(shù)據(jù)記錄表中記錄更換信息 以便在下次清洗設(shè)備時(shí)由組長判定是否再次更換槍燈絲 B、晶振片更換檢查晶振片壽命值，壽命值v 96%寸，必須更換晶振片。晶振片更換好后，需檢查晶振頻率是否正常顯示，壽命值是否98%若不是，則需重新更換。注：1、更換晶振片時(shí)，需保持晶振片表面清潔；2、更換晶控片后需在鍍膜原始數(shù)據(jù)記錄表中記錄更換信息。7.5鍍膜機(jī)設(shè)備點(diǎn)檢7.5.1參照鍍膜機(jī)日常點(diǎn)檢表進(jìn)行每天的日常點(diǎn)檢并做好記錄.7.5.2點(diǎn)檢人員核對點(diǎn)檢數(shù)據(jù)有無異常，若有異常須馬上上報(bào)到組長處.組長

26、核實(shí)點(diǎn)檢數(shù)據(jù)及分析， 若能自行解決，則處理后填好相關(guān)記錄，若不能自行解決，立刻上報(bào)設(shè)備部，請?jiān)O(shè)備部人員進(jìn) 行修理。八、鍍膜工藝8.1變溫工藝：適應(yīng)于1#,2#機(jī)臺制作全部產(chǎn)品及其他機(jī)臺制作的反射鏡8.2設(shè)備測溫8.2.1測溫時(shí)機(jī)：8.2.1.1. 每次洗設(shè)備后烘設(shè)備時(shí)進(jìn)行測溫，測試數(shù)據(jù)記錄入到鍍膜機(jī)烘烤溫度記錄表中.8.2.1.2. 機(jī)臺停機(jī)大于等于24小時(shí)后，開機(jī)使用時(shí)進(jìn)行測溫，測試數(shù)據(jù)記錄入到鍍膜機(jī)烘烤溫度記錄表中.8.2.2測溫要求：A. 傘架全部上滿蓋片，1,5圈測試B. 設(shè)定溫度規(guī)定：設(shè)備名稱設(shè)定溫度昭和、韓一300 C萊寶、南光280 C注：設(shè)備進(jìn)行了比較大的變動(dòng)時(shí)需特別提出注明（

27、設(shè)備部件維護(hù)，更換等）8.2.3測溫方法：測溫1測溫28.2.4測定結(jié)果分析A. 測定真實(shí)溫度與標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定值差異在| AlvIO度時(shí)可正常生產(chǎn).（平均）B. 測定真實(shí)溫度與標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定值差異在 10| |20度時(shí)，將設(shè)定鍍膜溫度提高或者降低相對應(yīng)的溫差后，再進(jìn)行測溫（可與生產(chǎn)實(shí)驗(yàn)同步進(jìn)行）,測試完成后再參照8.2.4的A、B C條款做出對應(yīng)處理。探 舉例說明：昭合設(shè)備測溫的標(biāo)準(zhǔn)溫度為：1圈：260度 5 圈：270度鍍膜傘圈數(shù)標(biāo)準(zhǔn)溫度（T1）洗設(shè)備后實(shí)測溫度（T2）I 1= |T1- T2|處理方法例11圈260 C255 C5 C由于| |=510 C,故按方法 A處理， 即正常生產(chǎn)。5圈270

28、C262 C8 C由于| |=810 C,故按方法 A處理， 即正常生產(chǎn)。例21圈260 C252 C8 C由于| |=810 C,故按方法 A處理， 即正常生產(chǎn)（此時(shí)1 3圈也按方法A 處理）。5圈270 C258 C12C由于| |=1220 C,故按方法B處理， （此時(shí)4 5圈也按方法B處理）。九、鍍膜應(yīng)急情況處理辦法9.1. 鍍膜機(jī)配件故障：故障部件問題點(diǎn)原因分析處理辦法電子槍燈 絲燈絲不亮燈絲老化開路定期（提前）更換槍燈絲安裝無意間使引腳折斷檢查燈絲并重裝。電子槍打火燈絲不回零時(shí)轉(zhuǎn)換電子槍造將燈絲電壓、電流回零后再轉(zhuǎn)換電子槍成電路產(chǎn)生大電流沖擊束流打到材料以外的部位調(diào)整掃描使束流光斑

29、打在坩堝內(nèi)槍燈絲接觸不良用1000#砂紙及酒精將電子槍頭擦拭干 凈，檢查燈絲壓塊溝槽是否合適，燈絲是 否壓緊。燈絲電壓、電流不穩(wěn)給定電位器接線松動(dòng)檢查電位器連接電纜及引線燈絲電壓反向給定電位器接線斷開檢查電位器連接電纜及引線空開跳燈絲自身冷熱短路檢杳槍燈絲電子槍高壓無法啟動(dòng)開高壓條件未滿足關(guān)好機(jī)柜門、打開主機(jī)槍水流閥門，待咼 真空達(dá)到后，先開掃描再開咼壓掃描未打開槍高壓空開斷開合上槍高壓空開高壓打火電子槍槍頭不干凈或毛刺引起高壓 放電用1000#砂紙及酒精擦拭干凈槍頭，尤其 是高壓燈絲接線拄。經(jīng)常檢杳并擰緊高壓、線圈電流正常， 但坩堝內(nèi)無束斑主磁場（偏轉(zhuǎn)）極性不對調(diào)整X線圈引線位置線圈匝間短路

30、檢查線圈阻值沒有束流放氣修理電子槍材料飛濺束流功率過大加上掃描電源，減少束流材料預(yù)熔不佳對材料手動(dòng)預(yù)處理擋板 及工轉(zhuǎn)鍍膜時(shí)擋板無法開啟當(dāng)板氣閥開的過小調(diào)整氣動(dòng)閥開關(guān)坩堝擋板掉了或遮不住裝擋板時(shí)未裝好或氣閥氣流太大、 太小裝擋板時(shí)裝好并試運(yùn)行工件盤不轉(zhuǎn)跳閘重新合上工轉(zhuǎn)空開異物卡?。ㄈ绲袈涞腻兡て┩C(jī)檢杳92鍍膜機(jī)運(yùn)行過程中故障故障部件問題點(diǎn)原因分析處理辦法真空系統(tǒng)咼真空抽不上pocoly沒有工作開機(jī)后檢查poldcoly電源及工作是否正常J有異物（如掃描線、鋁紙、脫落的 膜料等）壓在烝發(fā)室門上關(guān)蒸發(fā)室門前檢查門框和密圭寸圈鍍膜機(jī)水溫偏高冷水機(jī)缺水開機(jī)前檢查冷水機(jī)水位冷水機(jī)外循環(huán)子系統(tǒng)未打開或缺

31、水開機(jī)前檢查并啟動(dòng)冷水機(jī)外循環(huán)系統(tǒng)鍍膜機(jī)冷卻水分配閥開度不合理適當(dāng)調(diào)節(jié)冷水分配閥鍍膜機(jī)冷卻水總閥開度偏小打開冷卻水總閥冷卻水總管上的旁通閥開度過大是否水壓達(dá)到3kg,如不是則調(diào)整偏轉(zhuǎn)，掃描系統(tǒng)無輸出偏轉(zhuǎn)線圈接線脫落關(guān)蒸發(fā)室門前檢查接線保險(xiǎn)管燒壞更換保險(xiǎn)管有電流無輸出幅度調(diào)節(jié)電位器損壞檢查幅度調(diào)節(jié)電位器及相關(guān)連線有輸出但調(diào)節(jié)范圍小偏轉(zhuǎn)線圈接線接觸不良（清洗時(shí)碰 松接線）關(guān)蒸發(fā)室門前檢查接線束流光斑偏出偏轉(zhuǎn)線圈接線錯(cuò)誤檢查并調(diào)整偏轉(zhuǎn)線圈接線烘烤系統(tǒng)烘烤恒溫不準(zhǔn)熱電偶位置不對關(guān)蒸發(fā)室門前檢查熱電偶位置9.3.其他故障部件問題點(diǎn)原因分析處理辦法其他部件晶振失效晶振臟污，晶振片質(zhì)量不好，晶振 片未上到位

32、清理好晶振探頭并裝好晶振片光控信號不穩(wěn)或無信號光信號被異物遮?。ㄈ玟X紙等）或 接收窗的玻璃片臟污經(jīng)常檢查光信號通路是否被遮住光控未開或上部光源接線不良檢查光源接線后打開光控上部光源未對準(zhǔn)接收窗調(diào)整上部光源程序運(yùn)行異常程序設(shè)定錯(cuò)誤檢查程序，做正確的更改電腦開啟的程序太多，開啟時(shí)間過 長電腦進(jìn)行重啟，清洗設(shè)備時(shí)電腦停機(jī)休息鍍膜過程中擴(kuò)散泵顯示加熱傳感器（顯示溫度正常）檢查傳感器并清洗傳感器探頭加熱絲故障（油溫在下降）:報(bào)設(shè)備修理，更換加熱絲1光控信號突然亂跳后 又回到原來穩(wěn)定狀態(tài)可能是高壓打火或其它用電設(shè)備干擾檢查電子槍94設(shè)備異常情況下產(chǎn)品處理方法：9.4.1鍍膜過程中設(shè)備故障停止鍍膜的產(chǎn)品：A

33、、光柵：記錄已鍍膜層厚度，下次安排進(jìn)行補(bǔ)鍍處理，補(bǔ)鍍后確認(rèn)特性B、AR/光柵增透：記錄已鍍膜層厚度，下次安排進(jìn)行補(bǔ)鍍處理，補(bǔ)鍍后確認(rèn)特性；未記錄 異常情況時(shí)鍍膜的厚度，則報(bào)廢。C、分光鏡/IR :設(shè)備故障時(shí)膜層沒鍍完時(shí)此罩產(chǎn)品直接報(bào)廢D反射鏡：記錄已鍍膜層厚度，下次安排進(jìn)行補(bǔ)鍍處理，補(bǔ)鍍后確認(rèn)特性/水煮測試;未記錄異常情況時(shí)鍍膜的厚度，則報(bào)廢。9.4.2 鍍膜后產(chǎn)品曲線處于規(guī)定值邊緣的產(chǎn)品：交由項(xiàng)目負(fù)責(zé)人確認(rèn)產(chǎn)品處理辦法以及后續(xù)鍍 膜的數(shù)據(jù)調(diào)整！十、4M變更10.1. 人10.1.1 交接班后的第一罩產(chǎn)品光學(xué)特性需全面檢查 （ 角度特性需確認(rèn) ）10.1.2 新入職鍍膜員工需在組長的帶領(lǐng)下才可進(jìn)行鍍膜操作 . 鍍膜操作資格考試合格后方可獨(dú) 立進(jìn)行機(jī)臺操作 （各型號鍍膜機(jī)對應(yīng)不同的鍍膜資格操作試題 :筆試+現(xiàn)場操作 ）10.2. 機(jī)10.2.1 正常清洗設(shè)備后，按要求進(jìn)行設(shè)備烘烤 1 小時(shí)以上后再投入生產(chǎn) （設(shè)備需要使用離子源 時(shí)需空鍍幾分鐘測試離子源是否正常工作 ）10.2.2 設(shè)備清洗后鍍膜狀態(tài)需保持清洗設(shè)備前的狀態(tài) （ 高真空狀態(tài)下清洗設(shè)備前后同圈溫度差異不超過10C ,內(nèi)外循環(huán)水溫變化土 5C），如果超過要求