SEZ單晶圓清洗解決方案的創(chuàng)新者

1、SEZ 單晶圓清洗解決方案的創(chuàng)新者在半導體制造過程中，晶圓的清洗是很重要的一個 環(huán)節(jié)。目前器件規(guī)格的持續(xù)緊縮以及銅和低介電常數(shù)絕緣體 等新材料的應(yīng)用使半導體芯片的功能更強大，同時也對制造 工藝提出挑戰(zhàn)，芯片制造商需要更先進的工藝解決方案。SEZ 是一家服務(wù)于全球行業(yè)領(lǐng)先的單晶圓濕式處理解 決方案供應(yīng)商，業(yè)務(wù)范圍幾乎覆蓋了包括中國在內(nèi)的全球主 要地區(qū)。隨著半導體行業(yè)繼續(xù)向更微細的工藝技術(shù)發(fā)展，單 晶圓濕式處理已經(jīng)成為確保成品率的關(guān)鍵因素。由于晶圓變 得越來越薄、越來越昂貴，因此其表面則需要更為特殊的處 理，以降低交叉污染的風險。目前，芯片制造商們需要更有 效的技術(shù)來確保能夠以最大程度的控制和最高

2、的精度處理 每一片晶圓，同時又要維持在比較低的設(shè)備占用成本 （COO）。過去的噴淋法清洗是多個晶圓一起操作，這樣產(chǎn)量雖高 但效果差， SEZ 公司的單晶圓旋轉(zhuǎn)處理技術(shù)由于對每一片晶 圓單獨加工，清洗質(zhì)量高，化學試劑用量少，循環(huán)周期快， 大大改進了生產(chǎn)力，降低了成本。 SEZ 的這種晶圓處理系統(tǒng) 滿足了 200mm 和 300mm 晶圓制造對單晶圓濕式處理應(yīng)用的 多元化需求。SEZ 亞太區(qū)技術(shù)和行銷副總裁陳溪新博士表示，目前中 國市場對單晶圓濕式處理技術(shù)的吸納速度是最快的，這也進 一步證明了中國在半導體制造行業(yè)的迅猛發(fā)展勢頭。在利用 銅連線和低介電值絕緣體等新材料的新型器件制造過程中， SEZ

3、在聚合物殘渣后去除洗凈應(yīng)用以及背面凈化、斜面清洗 等晶圓處理工藝市場處在領(lǐng)先位置。隨著半導體向 65nm 和 45nm 工藝發(fā)展，前段和后段晶 片清洗技術(shù)都面臨著新的挑戰(zhàn)。 SEZ 亞太區(qū)技術(shù)行銷副總裁 陳溪新認為，半導體結(jié)構(gòu)材料變得越來越脆弱，而清洗效果 和材料損失的要求卻變得越來越嚴格。特別是對于關(guān)鍵層而 言，更需要革新技術(shù)加以應(yīng)對，而這正是SEZ 的優(yōu)勢所在。陳溪新介紹說，目前 SEZ 已經(jīng)占單晶圓濕式處理市場 65%的份額，在新的一年里， SEZ 將繼續(xù)完善 Da Vinci 產(chǎn)品 系列，而且在過去的幾個月里，公司已經(jīng)在競爭激勵的單晶 圓濕式處理市場取得了長足的進步。談到半導體設(shè)備在中國市場的需求時，陳先生談到了未 來的三個特點：一是 SEZ 著眼于 300mm 晶圓的市場，我們 非常欣喜的看到在不久的將來中國至少還會有兩至三座 300mm 的晶圓廠要建造，這將給設(shè)備供應(yīng)商帶來巨大的商 機；二是現(xiàn)有 200mm 的晶圓廠因產(chǎn)能的需要，將會不斷擴 產(chǎn)，隨著產(chǎn)品的不斷升級，他們需要繼續(xù)購買新的設(shè)備；三 是國內(nèi)的二手設(shè)備市場潛力比較大，為降低成本，許多晶圓廠都會用二手設(shè)備來擴產(chǎn)和建新的生產(chǎn)線。陳溪新強調(diào)， SEZ 自 2000 年正式進入中國以來，非常 注重人才的培養(yǎng)，已在硬件、工藝、軟件等方面重點進行