全口義齒工藝技術(shù)試題及答案_第1頁
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全口義齒工藝技術(shù)試題及答案_第3頁
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文檔簡介

1、 101-79單項(xiàng)選擇題全口義齒工藝技術(shù)試題及答案修復(fù)應(yīng)在拔牙多長時(shí)間后進(jìn)展A一周B 三周C 一個(gè)月D 三個(gè)月E 六個(gè)月A主承托區(qū)B 副承托區(qū)C邊緣封閉區(qū)D緩沖區(qū)E 后堤區(qū)A 位于上下頜牙槽嵴頂B 外表有高度角化的復(fù)層鱗狀上皮C 上皮下有致密的粘膜下層D 位于上下頜后部牙槽嵴頂E 能承受咀嚼壓力4后堤區(qū)的作用A 基托后緣定位B 邊緣封閉C 支持D 排列后牙的標(biāo)志E 緩沖作用A 切牙乳突區(qū)B 磨牙后墊區(qū)C 后堤區(qū)D 牙槽嵴頂區(qū)E 頰棚區(qū)6-9題共用備選答案A上頜前部牙槽嵴頂B磨牙后墊C 切牙乳突D腭小凹E上頜后部牙槽嵴頂6屬于主承托區(qū)屬于副承托區(qū)屬于緩沖區(qū)屬于邊緣封閉區(qū)A應(yīng)是光滑的平面B應(yīng)是光滑

2、的突面C 應(yīng)是光滑的凹面D應(yīng)是光滑的斜面 A人工牙的排列B人工牙的咬合C 抱負(fù)的磨光面形態(tài)DE頜骨的解剖形態(tài)A B 磨光面C 咬合面D組織面E 印模面A 基托組織面與粘膜的密合程度B 唾液的質(zhì)和量C 是否用軟襯材料D 是否戴過舊義齒E 基托的厚度A 粘稠而量多B 粘稠而量少C 稀而量多D 稀而量少E 以上均可A組織要均勻受壓B應(yīng)用二次印模法取印模C 取功能性印模D取壓力性印模E 取印模要用個(gè)別托盤A下頜隆突B 顴突C頰棚區(qū)D切牙乳頭E 上頜結(jié)節(jié)的頰側(cè)A下頜隆突B 下頜舌骨嵴C 舌系帶區(qū)D 磨牙后墊E C.D都對A 腭小凹B 后堤區(qū)C 前抖動線D 后抖動線E 切牙乳突A 腭小凹B 上頜結(jié)節(jié)C 后

3、抖動線D 翼上頜切跡E 后堤區(qū)后緣A 前庭溝底移行皺襞B 遠(yuǎn)中頰角區(qū)C 磨牙后墊前緣D 舌側(cè)翼緣區(qū)E 腭小凹后 2mm AB息止頜位時(shí)鼻底到頦底的距離CD 息止頜位時(shí),上下牙槽嵴頂之間的距離E前伸頜時(shí),上下牙槽嵴頂之間的距離A 開口度B C 垂直距離D頜間距離E 1/3 距離A與上下頜牙槽嵴吸取的方向有關(guān)B與上下頜牙槽嵴吸取的方向無關(guān)C 與咀嚼壓力有關(guān)D與咀嚼無關(guān)E 與患者安康狀況有關(guān)A 向上、向后B 向上、向外C 向上、向內(nèi)D 向后、向外E 向上、向前A 向上、向后B 向下、向外C 向上、向內(nèi)D 向后、向外E 向下、向前A使組織均勻受壓B盡量擴(kuò)大印模的面積C 取功能性印模D取印模時(shí)要保持穩(wěn)定

4、的位置E取印模時(shí)要進(jìn)展功能整塑A 用印模膏取一次性印模B 用印模膏取初印模C 用印模膏做個(gè)別托盤D 用舊義齒做個(gè)別托盤E 用藻酸鹽印模材取終印模A 為了使義齒有良好的邊緣封閉B 取初印時(shí)重做肌功能整塑C 取終印時(shí)不需做肌功能整塑D 可由醫(yī)師牽拉患者臉蛋部進(jìn)展E 可以分區(qū)做A缺牙時(shí)間B 缺牙緣由C 骨的致密度D患者的年齡E全身因素A齲病B牙周病C 外傷D 不良修復(fù)體E口腔衛(wèi)生不良A印模比較準(zhǔn)確B 印模邊緣完整C印模組織面光滑D操作簡潔花時(shí)間少E需要制作個(gè)別托盤A面部和諧,肌張力正常B充分發(fā)揮咀嚼肌的力氣C 防止顳頜關(guān)節(jié)病變D防止咬舌、咬腮E防止牙槽骨吸取A與瞳孔連線平行B 與鼻翼耳屏連線平行C與

5、下頜兩側(cè)牙槽嵴平行D平分頜間距離E 在上唇下緣以下 2mm A2/3 與上唇線等高B顏色最好要白些C 形態(tài)與面型全都D顏色與膚色全都E形態(tài)與頜弓全都A人工牙排列不當(dāng)B病員下頜骨過于后退CD確定水平頜位關(guān)系時(shí),下頜前伸E確定水平頜位關(guān)系時(shí),下頜偏斜A影響全身安康B引起牙槽骨的吸取C 咬頰咬舌D發(fā)音障礙E舌體增大A鼻唇溝加深B 下頜習(xí)慣性前伸C 下頜習(xí)慣性后退 E口角下垂AB利用磨牙后墊可確定后牙頰舌向的位置C 下頜其次磨牙應(yīng)在磨牙后墊的前緣E磨牙后墊可以打算后牙的高度AB患者垂直距離的紀(jì)錄C患者面部中線的記錄D患者水平和垂直關(guān)系的記錄E A面積大B此處粘膜下層有大量疏松結(jié)締組織C 此處粘膜較厚D

6、此處粘膜上皮有角化層E 此處粘膜有彈性41頜位記錄是指A B正中關(guān)系記錄C 1/3 高度的記錄D垂直距離和下頜前伸頜記錄E垂直距離和正中關(guān)系記錄A面部距離均等測定法B 面部外形觀看法C息止頜間隙利用法D吞咽法E以舊義齒為參考A 上頜前部牙槽骨過突,影響排牙B 上頜結(jié)節(jié)過大,倒凹影響義齒戴入C 硬區(qū)過大,影響義齒的結(jié)實(shí)性D 牙槽嵴上具有影響義齒美觀的骨突美觀的A患者先自行按摩,使突出骨質(zhì)吸取B減小此處基托伸展范圍C 基托組織面緩沖E手術(shù)去除一側(cè)骨質(zhì)A上頜前突的位置B 下頜前突的位置C 3mmE 下頜弓與上頜弓前后相差 3mm 46確定正中關(guān)系臨床上最常用的方法是A面部外形觀看法B 面部距測量法C

7、 后牙咬合法E以上方法綜合應(yīng)用制作個(gè)別托盤的方法哪項(xiàng)是錯(cuò)誤的A 用紅膏制取初印模適當(dāng)修整后制作個(gè)別托盤B 可在初印模型上用自凝塑料制作個(gè)別托盤C 可在初印模上用光固化膜制作個(gè)別托盤D 可用經(jīng)過修改的舊義齒制作個(gè)別托盤E 可用未經(jīng)修改的舊義齒制作個(gè)別托盤A 印模準(zhǔn)確B邊緣伸展適宜C醫(yī)生簡潔把握D操作簡潔省時(shí)省材料E可用硅橡膠取終印A解剖式印模B功能性印模C 壓力印模D 微壓印模E無壓印模A2mm 前方與瞳孔連線平行前方與眶耳平面平行B2mm 前方與瞳孔連線平行前方與鼻翼耳屏連線平行C與上唇平齊,前方與瞳孔連線平行前方與鼻翼耳屏連線平行D與上唇平齊,前方與瞳孔連線平行前方與眶耳平面平行E2mm A

8、 1-4mmB 5-7mm C8-10mmD 11-15mmE 16-20mmA 患者的性別B 患者的年齡C 人工牙的大小形態(tài)和顏色D 人工牙是瓷牙還是塑料牙E 人工牙顏色要盡量白一些 A B下頜前伸C D 垂直距離過低E 垂直距離過高A 恢復(fù)面部外形飽滿度B 記錄頜間距離C 代表義齒基托及人工牙的位置D 記錄正中關(guān)系位E以上都對 工牙A 解剖式牙B半解剖式牙C非解剖式牙DE瓷牙A 基托面積B 牙槽嵴形態(tài)C 粘膜性質(zhì)D 唾液性質(zhì)E A 人工牙的排列B 基托與粘膜的接觸面積C 基托與粘膜的密合度D 唾液質(zhì)量E 以上都對A 基托與粘膜的接觸面積B 基托與粘膜的密合度C 義齒邊緣封閉效果D 后堤區(qū)的

9、范圍大小E基托的材料A 基托面積B 粘膜的厚度C 腭穹隆的高度D 后堤區(qū)寬度E 邊緣封閉A 盡量擴(kuò)大基托面積B 準(zhǔn)確的印模C 有利的磨光面形態(tài)D 合理的排牙E 指導(dǎo)患者正確使用義齒A 減小單位面積受力B 增加義齒強(qiáng)度C 增大義齒吸附力D 增大大氣壓力E利于組織保健A 面形蒼老B 口角下垂,頦部前突C 咀嚼時(shí)肌張力減低D 加速牙槽骨吸取E 以上都不是64確定頜位關(guān)系是確定A 上下頜的水平位置關(guān)系B上下頜的左右位置關(guān)系C 上下頜的水平與垂直位置關(guān)系D上下頜的前后位置關(guān)系E 以上都對A 1mmB 3mm C 5mm D 8mm E10mm以切牙乳突排列人工牙A 可以打算牙列中線的位置B 可以打算上中

10、切牙唇舌向的位置C 可以打算上尖牙的位置D 可以打算度E 以上均對全口義齒后牙選用非解剖式牙的優(yōu)點(diǎn)是A 側(cè)向力小B 有利于義齒的穩(wěn)定C D 對牙槽嵴損害小E 以上均對非解剖式人工牙的牙尖斜度為A 45B 40C 33D2013 14E0A45B 40C 33D 20E0A 美觀,功能和組織保健良好B 美觀,結(jié)實(shí)和舒適C 美觀,衛(wèi)生和舒適D 美觀,結(jié)實(shí)和組織保健好E 美觀,切割便利和舒適A美觀B排牙便利C 有利于組織保健D發(fā)音清楚E 與自然牙全都A中切牙=側(cè)切牙=尖牙B中切牙側(cè)切牙尖牙C 中切牙尖牙側(cè)切牙D側(cè)切牙尖牙中切牙E尖牙側(cè)切牙中切牙A 髁導(dǎo)斜度B 切導(dǎo)斜度C 補(bǔ)償曲線曲度D 牙尖斜度E

11、A 髁導(dǎo)斜度B 牙尖斜度C 定位平面斜度D E 以上個(gè)因素綜合考慮可同時(shí)轉(zhuǎn)變其中兩個(gè)因素A 面部外形觀看法B 咬合時(shí)觸摸髁突的撞擊感C 咬合時(shí)觸摸顳肌的鼓脹感D 讓患者反復(fù)咬合看是否咬于同一位置E 咬合時(shí)檢查髁突動度是否全都76臨床確定垂直距離的常用方法A 吞咽法B 卷舌后舔法C 后牙咬合法D E 以上均是A 基托磨光面的形態(tài)好B 基托磨光面高度磨光C D 義齒邊緣封閉良好E 粘膜組織均勻受壓A 唾液的性質(zhì)B 唾液的量C 基托的外形D 牙槽嵴的形態(tài)E 基托組織面與粘膜的密合A 閉口式印模法取印B 壓力式印模法取印C 二次印模法取印D 無壓印模法取印E 以上方法均可參考答案1.D 2.C3.A 4.B 5.A 6.E 7.A 8.C 9.B 10.E 11.E 12.B 13.A 14.A 15.D 16.C 17.D 18.E19.B 20.C 21.A 22.D 23.A 24.C 25.B 26.B 27.A 28.C 29.D 30.E 31.D 32.D 33.C 34.B35.E 36.C37.C 38.D 39.D 40.B 41.E 42.

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