標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 14582-1993 環(huán)境空氣中氡的標(biāo)準(zhǔn)測量方法》作為中國關(guān)于環(huán)境空氣中氡濃度測量的國家標(biāo)準(zhǔn),為氡的監(jiān)測提供了統(tǒng)一的技術(shù)規(guī)范和要求。對比其前一版或后續(xù)更新版本(由于具體對比版本未給出,這里假定與一個假設(shè)的前期或后期版本進(jìn)行比較),主要變更可能涉及以下幾個方面:
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采樣技術(shù)的改進(jìn):新版標(biāo)準(zhǔn)可能引入了更先進(jìn)的氡氣采樣技術(shù)和設(shè)備,如更高效的活性炭吸附管或徑跡蝕刻法等,以提高采樣的準(zhǔn)確性和效率。
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測量方法的更新:隨著科技的進(jìn)步,對氡的測量方法可能有所改進(jìn),例如從傳統(tǒng)的液體閃爍計數(shù)法擴展到使用更靈敏的α粒子探測器或靜電收集器,提高了檢測的靈敏度和精確度。
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數(shù)據(jù)處理與質(zhì)量控制:新標(biāo)準(zhǔn)可能加強了對測量數(shù)據(jù)的處理要求,包括數(shù)據(jù)校正方法、統(tǒng)計分析以及質(zhì)量控制措施的標(biāo)準(zhǔn)化,確保測量結(jié)果的可靠性和可比性。
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安全與防護(hù)要求:考慮到氡及其子體對人體健康的潛在危害,新標(biāo)準(zhǔn)可能會更加嚴(yán)格地規(guī)定了采樣及測量過程中的安全操作規(guī)程和人員防護(hù)措施,確保操作人員的安全。
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適用范圍與環(huán)境條件:可能根據(jù)新的科學(xué)研究成果,調(diào)整了標(biāo)準(zhǔn)的適用范圍,比如明確了不同環(huán)境條件下(如室內(nèi)、室外、特殊地理區(qū)域)的測量特定要求,或者加入了對極端氣候或特殊地質(zhì)結(jié)構(gòu)地區(qū)氡濃度測量的指導(dǎo)。
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校準(zhǔn)與驗證:新標(biāo)準(zhǔn)可能強化了測量儀器的校準(zhǔn)要求,規(guī)定了更嚴(yán)格的校準(zhǔn)程序和周期,以及實驗室間比對驗證的方法,以保證全國范圍內(nèi)測量結(jié)果的一致性和準(zhǔn)確性。
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術(shù)語與定義的明確:隨著學(xué)科的發(fā)展,新標(biāo)準(zhǔn)可能對一些關(guān)鍵術(shù)語和定義進(jìn)行了修訂或新增,以適應(yīng)技術(shù)進(jìn)步和國際標(biāo)準(zhǔn)化的需求。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 1993-08-30 頒布
- 1994-04-01 實施
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文檔簡介
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)CB/T14582-93環(huán)境空氣中氨的標(biāo)準(zhǔn)測量方法Standardmethodsforradonmeasurementin.environmentalair1993-08-30發(fā)布1994-04-01實施國發(fā)布
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)CB/T14582-93環(huán)境空氣中氫的標(biāo)準(zhǔn)測量方法Standardmethodsforradonmeasurementinenvironmentalair1主題內(nèi)客與適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了可用于測量環(huán)境空氣中氮及其子體的四種測定方法,即徑跡蝕刻法、活性炭盒法、雙濾膜法和氣球法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于室內(nèi)外空氣中氫-222及其子體。潛能濃度的測定。2術(shù)語2.1氧子體潛能氫子體完全衰變?yōu)殂U-210的過程中放出的“粒子能量的總和。2.2氮子體。潛能濃度單位體積空氣中氧子體。潛能值、2.3濾膜的過濾效率用濾膜對空氣中氣載粒子取樣時,濾膜對取樣體積內(nèi)氣載粒子收集的百分?jǐn)?shù)率2.4計數(shù)效率在一定的測量條件下,測到的粒子數(shù)與在同一時間間隔內(nèi)放射源發(fā)射出的該種粒子總數(shù)之比值。2.5,等待時間從采樣結(jié)束至測量時間中點之間的時間間隔。2.6探測下限在95%置信度下探測的放射性物質(zhì)的最小濃度。徑跡蝕刻法3.1方法提要此法是被動式采樣,能測量采樣期間內(nèi)氮的累積濃度,暴露20d,其探測下限可達(dá)2.1×10-Ba·h/m2。探測器是聚碳酸脂片或CR-39,置于一定形狀的采樣盒內(nèi),組成采樣器,如圖1所氮及其子體發(fā)射的。粒子轟擊探測器時,使其產(chǎn)生亞微觀型損傷徑跡。將此探測器在一定條件下進(jìn)行化學(xué)或電化學(xué)蝕刻,擴大損傷徑跡,以致能用顯微鏡或自動計數(shù)裝置進(jìn)行計數(shù)。單位面積上的徑跡數(shù)與氫濃度和暴露時間的乘積成正比。用刻度系數(shù)可將徑跡密度
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