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文檔簡介

排污許可證申請與核發(fā)技術規(guī)范電子工業(yè)ii目 次前言 ii適用范圍 1規(guī)范性引用文件 1術語和定義 2排污單位基本情況填報要求 3產排污環(huán)節(jié)對應排放口及許可排放限值確定方法 15污染防治可行技術要求 20自行監(jiān)測管理要求 21環(huán)境管理臺賬記錄與排污許可證執(zhí)行報告編制要求 25實際排放量核算方法 28合規(guī)判定方法 32附 錄 A(資料性附錄)電子工業(yè)產品名稱參考表 35附 錄 B(資料性附錄)廢氣和廢水防治可行技術參考表 39附 錄 C(資料性附錄)環(huán)境管理臺賬記錄參考表 43附 錄 D(資料性附錄)排污許可證年度執(zhí)行報告表格形式(重點管理) 48附 錄 E(資料性附錄)排污許可證年度執(zhí)行報告表格形式(簡化管理) 63附 錄 F(資料性附錄)揮發(fā)性有機物實際排放量計算推薦性方法 7311排污許可證申請與核發(fā)技術規(guī)范 電子工業(yè)適用范圍本標準規(guī)定了電子工業(yè)排污單位排污許可證申請與核發(fā)的基本情況填報要求、許可排放限值確定、實際排放量核算和合規(guī)判定的方法,以及自行監(jiān)測、環(huán)境管理臺賬與排污許可證執(zhí)行報告等環(huán)境管理要求,本標準適用于電子工業(yè)排污單位排放大氣污染物、水污染物的排污許可管理。有電鍍工序的電子工業(yè)排污單位,適用于本標準。電子工業(yè)排污單位中,執(zhí)行《鍋爐大氣污染物排放標準》(GB13271)的生產設施和排放口,適用于《排污許可證申請與核發(fā)技術規(guī)范(HJ95。本標準未做規(guī)定但排放工業(yè)廢水、廢氣或者國家規(guī)定的有毒有害污染物的電子工業(yè)排污單位其他產污設施和排放口,參照《排污許可證申請與核發(fā)技術規(guī)范總則》(HJ942)執(zhí)行。規(guī)范性引用文件本標準內容引用了下列文件或者其中的條款。凡是不注日期的引用文件,其有效版本適用于本標準。GB8978 污水綜合排放標準GB13271 鍋爐大氣污染物排放標準GB/T16157 固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法GB16297 大氣污染物綜合排放標準GB18597 危險廢物貯存污染控制標準GB37822 揮發(fā)性有機物無組織排放控制標準GB□□ 電子工業(yè)污染物排放標準HJ/T55 大氣污染物無組織排放監(jiān)測技術導則HJ/T91 地表水和污水監(jiān)測技術規(guī)范HJ/T298 危險廢物鑒別技術規(guī)范HJ/T353 水污染源在線監(jiān)測系統(tǒng)安裝技術規(guī)范(試行)HJ/T354 水污染源在線監(jiān)測系統(tǒng)驗收技術規(guī)范(試行)HJ/T355 水污染源在線監(jiān)測系統(tǒng)運行與考核技術規(guī)范(試行)HJ/T356 水污染源在線監(jiān)測系統(tǒng)數據有效性判別技術規(guī)范(試行)HJ/T373 固定污染源監(jiān)測質量保證與質量控制技術規(guī)范(試行)HJ/T397 固定源廢氣監(jiān)測技術規(guī)范22HJ493 HJ494 HJ495 HJ521 廢水排放規(guī)律代碼(試行)HJ608 排污單位編碼規(guī)則HJ732 HJ819 HJ942 排污許可證申請與核發(fā)技術規(guī)范總則HJ944 排污單位環(huán)境管理臺賬及排污許可證執(zhí)行報告技術規(guī)范總則(試行)HJ953 排污許可證申請與核發(fā)技術規(guī)范鍋爐《國務院關于印發(fā)打贏藍天保衛(wèi)戰(zhàn)三年行動計劃的通知》(國發(fā)〔2018〕22號)《國務院關于印發(fā)“十三五”生態(tài)環(huán)境保護規(guī)劃的通知》(國發(fā)〔2016〕65號))《國家危險廢物名錄》(環(huán)境保護部令第39號)《有毒有害大氣污染物名錄》(生態(tài)環(huán)境部公告2019年第4號)(環(huán)境保護部2018年第9號)《優(yōu)先控制化學品名錄(第一批(201783號)《關于執(zhí)行大氣污染物特別排放限值的公告》(環(huán)境保護部公告2013年第14號)《揮發(fā)性有機物(VOCs)污染防治技術政策》(環(huán)境保護部公告2013年第31號)《關于加強固定污染源氮磷污染防治的通知》(環(huán)水體〔2018〕16號)《關于執(zhí)行大氣污染物特別排放限值有關問題的復函》(環(huán)辦大氣函〔2016〕1087號)《污染源自動監(jiān)控設施運行管理辦法》(環(huán)發(fā)〔2008〕6號)《排污口規(guī)范化整治技術要求(試行(環(huán)監(jiān)〔1996〕470號)《固定污染源排污許可分類管理名錄》術語和定義下列術語和定義適用于本標準。electronicsindustrypollutantemissionunit指從事生產計算機、電子器件、電子元件及電子專用材料、其他電子設備的排污單位。computermanufacturingpollutantemissionunit指從事生產計算機整機、計算機零部件、計算機外圍設備、工業(yè)控制計算機及系統(tǒng)、信息安全設備以及其他計算機的排污單位。electronicdevicemanufacturingpollutantemissionunit指從事生產電子真空器件、半導體分立器件、集成電路、顯示器件、半導體照明器件、光電子器件以及其他電子器件的排污單位。electroniccomponentmanufacturingpollutantemissionunit指從事生產電阻電容電感元件、電子電路、敏感元件及傳感器、電聲器件及零件以及其他電子元件的排污單位。specialelectronicmaterialmanufacturingpollutantemissionunit指從事生產用于電子元器件、組件及系統(tǒng)制備的專用電子功能材料、互聯(lián)與封裝材料、工藝與輔助材料的排污單位。otherelectronicterminalmanufacturingpollutantemissionunit指從事生產電子(氣)物理設備以及其他未列明的電子設備的排污單位。permittedemissionlimits指排污許可證中規(guī)定的允許電子工業(yè)排污單位排放的污染物最大排放濃度(速率)和排放量。specialperiods指根據地方政府依法制定的環(huán)境質量限期達標規(guī)劃或者其他相關環(huán)境管理規(guī)定,對電子工業(yè)排污單位的污染物排放有特殊要求的時段,包括重污染天氣應對期間及冬防等。volatileorganiccompounds(VOCs)指參與大氣光化學反應的有機化合物,或者根據有關規(guī)定確定的有機化合物。本標準用非甲烷總烴作為揮發(fā)性有機物排放的綜合控制指標。待《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。排污單位基本情況填報要求基本原則電子工業(yè)排污單位應按照本標準要求,在全國排污許可證管理信息平臺申報系統(tǒng)填報相應信息表。填報系統(tǒng)未包括的、地方生態(tài)環(huán)境主管部門有規(guī)定需要填報或者電子工業(yè)排污單位認為需要填報的,可自行增加內容。設區(qū)的市級以上地方生態(tài)環(huán)境主管部門可以根據環(huán)境保護地方性法規(guī),增加需要在排污許可證中載明的內容,并填入全國排污許可證管理信息平臺申報系統(tǒng)中“有核發(fā)權的地方生態(tài)環(huán)境主管部門增加的管理內容”一欄。排污單位基本信息電子工業(yè)排污單位的基本信息應填報申報單位名稱、是否需要改正、排污許可證管理類別、郵政編碼、行業(yè)類別、是否投產及投產日期、生產經營場所中心經緯度、所在地是否屬于環(huán)境敏感區(qū)(如大氣重點控制區(qū)域、總磷總氮控制區(qū)等、是否位于工業(yè)園區(qū)及所屬工業(yè)園區(qū)名稱、環(huán)境影響評價審批文號(備案編號、地方政府對違規(guī)項目的認定或者備案文件文號、主要污染物總量控制指標分配計劃文件文號,顆粒物總量指標(a、二氧化硫總量指標(a、氮氧化物總量指標(a、揮發(fā)性有機物(VOs)總量指標(a、化學需氧量總量指標(a、氨氮總量指標(a、涉及的其他污染物總量指標等。344填報行業(yè)類別時,生產計算機整機、計算機零部件、計算機外圍設備、工業(yè)控制計算機及系統(tǒng)、信息安全設備、其他計算機等的電子工業(yè)排污單位應選擇計算機制造(國民經濟代碼391,生產電子真空器件、半導體分立器件、集成電路、顯示器件、半導體照明器件、光電子器件等的電子工業(yè)排污單位應選擇電子器件制造(國民經濟代碼397,生產電阻電容電感元件、電子電路、敏感元件及傳感器、電聲器件及零件、電子專用材料等的電子工業(yè)排污單位應選擇電子元件及電子專用材料制造(國民經濟代碼39,生產其他電子設備的電子工業(yè)排污單位應選擇其他電子設備制造(國民經濟代碼39。主要產品及產能一般原則電子工業(yè)排污單位在填報“主要產品及產能”時,按照所屬行業(yè)類別,填報主要生產單元名稱、主要工藝名稱、生產設施名稱、生產設施編號、設施參數、產品名稱、生產能力、計量單位、設計年生產時間及其他。以下“4.3.~4.364.3.”為選填項。主要生產單元、主要工藝及生產設施名稱1-1~1-5填報主要生產單元、主要工藝及生產設施名稱、設施參數等內容。同類型設施填報單臺設施參數及設施數量。1-1行業(yè)類別主要生產單元主要工藝生產設施設施參數單位計算機制造排污單位、其他電子設備制造排污單位電路板三防涂覆生產線涂覆涂覆機涂覆速度mm/min噴漆生產線噴漆噴漆設備噴漆量L/min烘干烘干設備烘干速度個/min注塑生產線注塑注塑機注塑量kg/min電鍍生產線電鍍電鍍設備電鍍速度m2/min注:表中未列明的主要生產單元、主要工藝、生產設施按實際生產自行填報,表中所列內容在實際生產中未涉及的可不填;設施參數按設計產能填報。表1-2電子器件制造排污單位主要生產單元、主要工藝及生產設施名稱一覽表行業(yè)類別主要生產單元主要工藝生產設施設施參數單位電子真空器件制造排污單位零件處理清洗清洗機清洗劑量L/h表面涂覆有機涂覆涂覆機鍍膜速度個/h電鍍電鍍設備電鍍速度個/h半導體分立器件制造、集成電路制造、半導體照明器件制造、光電子器件制造、其他電子器件制造排污單位清洗清洗清洗機清洗劑量L/h薄膜制備化學氣相沉積化學氣相沉積設備鍍膜速度片/h光刻涂布涂膠機涂膠速度片/h曝光光刻機光刻速度片/h顯影顯影機顯影速度片/h刻蝕濕法刻蝕濕法刻蝕機刻蝕速度片/h干法刻蝕干法刻蝕機刻蝕速度片/h銅制程銅制程銅制程機處理量片/h封裝引腳電鍍電鍍設備電鍍速度個/h55行業(yè)類別主要生產單元主要工藝生產設施設施參數單位塑封+烘烤塑封壓機、烤箱處理量個/h顯示器件制造排污單位陣列清洗清洗機清洗劑量L/h化學氣相沉積化學氣相沉積設備鍍膜速度片/h涂膠涂膠機涂膠速度片/h光刻光刻機光刻速度片/h顯影顯影機顯影速度片/h濕法刻蝕濕法刻蝕機刻蝕速度片/h干法刻蝕干法刻蝕機刻蝕速度片/h剝離剝離設備處理量片/h彩膜清洗清洗機清洗劑量L/h涂膠涂膠機涂膠速度片/h光刻光刻機光刻速度片/h顯影顯影機顯影速度片/h剝離ITO剝離設備、RGB剝離設備處理量片/h成盒清洗清洗機清洗劑量L/h封框涂膠封框涂膠機涂膠速度片/h蒸鍍掩模版清洗清洗機清洗劑量L/h化學氣相沉積化學氣相沉積設備鍍膜速度片/h注:表中未列明的主要生產單元、主要工藝、生產設施按實際生產自行填報,表中所列內容在實際生產中未涉及的可不填;設施參數按設計產能填報。表1-3電子元件制造排污單位主要生產單元、主要工藝及生產設施名稱一覽表行業(yè)類別主要生產單元主要工藝生產設施設施參數單位電阻電容電感元件制造、敏感元件及傳感器制造、電聲器件及零件制造、其他電子元件制造排污單位原料系統(tǒng)開料、修邊機床開料量m2/h混合混合混合機混合速度只/h成型成型成型機成型速度只/h印刷印刷印刷機印刷速度只/h研磨研磨研磨機研磨速度只/h清洗清洗清洗機清洗速度只/h烘干/燒成烘干/燒成烘干/燒成爐烘干/燒成速度只/h電鍍電鍍鍍鎳/鍍錫設備電鍍速度只/h涂覆涂覆涂覆機涂覆速度只/min點膠點膠點膠機點膠速度只/min電子電路制造排污單位原料系統(tǒng)開料剪板機開料量m2/h清洗表面清洗內層磨板機、噴砂機磨板速度m2/h化學清洗清洗機清洗速度m2/h線路制作底片制作底片制作設備底片制作速度m2/h涂膠涂膠機涂膠速度m2/h顯影顯影機顯影速度m2/h刻蝕刻蝕機刻蝕速度m2/h退膜退膜機退膜速度m2/h棕化氧化棕化線棕化速度m2/h鉆孔鉆孔鉆孔機鉆孔速度孔/h電鍍鍍銅/鍍錫鍍銅/鍍錫設備鍍銅/鍍錫速度m2/h退錫退錫設備退錫速度m2/h66行業(yè)類別主要生產單元主要工藝生產設施設施參數單位防焊印刷防焊印刷防焊印刷設備防焊印刷速度m2/h表面處理表面處理噴錫設備噴錫速度m2/h沉銅/銀/鎳/金設備沉銅/銀/鎳/度m2/h成型成型成型機成型速度m2/h有機涂覆有機涂覆涂覆機涂覆速度m2/h注:表中未列明的主要生產單元、主要工藝、生產設施,排污單位實際生產自行填報,表中所列內容在實際生產中未涉及的可不填;設施參數按設計產能填報。表1-4電子專用材料制造排污單位主要生產單元、主要工藝及生產設施名稱一覽表行業(yè)類別主要生產單元主要工藝生產設施設施參數單位電子功能材料制造排污單位刻蝕刻蝕刻蝕機刻蝕速度只/h電蝕電蝕腐蝕機電蝕速度m2/h互聯(lián)與封裝材料制造排污單位合成與配置合成與配置反應釜熟化時間h上膠上膠上膠機上膠速度m/min烘干烘干烘干機烘干速度臺/min清洗清洗清洗機清洗劑量kg/min表面處理電鍍鍍銅/鋅/鉻設備鍍銅/鋅/鉻速度m2/h有機涂覆有機涂覆涂覆機涂覆速度m2/h工藝與輔助材料制造排污單位配料投料、混合熔化坩堝處理量kg/h粉碎粉碎粉碎機處理量kg/h研磨研磨磨砂機、三輥研磨機處理量kg/h注:表中未列明的主要生產單元、主要工藝、生產設施按實際生產自行填報,表中所列內容在實際生產中未涉及的可不填;設施參數按設計產能填報。表1-5電子工業(yè)排污單位公用工程、環(huán)保工程設施及設施參數表主要單元生產設施設施參數單位公用工程供水系統(tǒng)純水制備與供應設施處理水量m3/h去離子水制備與供應設施超純水制備與供應設施軟化水制備與供應設施環(huán)保工程污水處理系統(tǒng)車間廢水處理設施設計處理能力m3/h廠區(qū)廢水處理設施廢氣處理系統(tǒng)酸/堿/有機/含塵廢氣處理系統(tǒng)注:表中未列明的主要單元、生產設施按實際生產自行填報,表中所列內容在實際生產中未涉及的可不填;設施參數按設計能力填報。生產設施編號電子工業(yè)排污單位填報內部生產設施編號,若排污單位無內部生產設施編號,則根據HJ608進行編號并填報。產品名稱產品名稱填報參見資料性附錄A。生產能力及計量單位生產能力為主要產品設計產能,不包括國家或者地方政府明確規(guī)定予以淘汰或者取締的產能。沒有設計產能數據時,以近三年實際產量均值計算。計算機整機、計算機零部件、計算機外圍設備、工業(yè)控制計算機及系統(tǒng)、信息安全設備、其他計算機的產能單位為臺(套、個)/a;電子真空器件、半導體分立器件、集成電路、顯示器件、半導體照明器件、光電子器件、其他電子器件的產能單位為片(m2、個)/a;電阻電容電感元件、敏感元件及傳感器、電聲器件及零件的產能單位為萬只/am2/akg(只)/a;其他電子設備的產能單位為臺(套、個)/a。設計年生產時間按環(huán)境影響評價文件及審批意見或者地方政府對違規(guī)項目的認定或者備案文件中的年生產時間填報。若無相關文件或者文件中未明確生產時間,則按實際生產時間填報。其他電子工業(yè)排污單位如有需要說明的內容,可填報。主要原輔材料及燃料一般原則主要原輔材料及燃料應填報與產排污相關的主要原輔材料及燃料種類、設計年使用量及計量單位;原輔材料中有毒有害成分及占比;燃料成分,包括灰分、硫分、揮發(fā)分、水分、熱值;其他。以下“.4.4.”為選填項。主要原輔料及燃料種類主要原輔料計算機制造排污單位、其他電子設備制造排污單位原料種類包括:HIPS(抗沖擊性聚苯乙烯)顆粒、ABS(丙烯腈-苯乙烯-丁二烯共聚物)顆粒、其他。輔料種類包括:油墨、油漆、固化劑、稀釋劑、化鍍劑、其他。電子器件制造排污單位原料種類包括:陰極貴金屬、熒光粉、襯底、金屬靶材、其他。輔料種類包括:光刻膠、清洗劑、稀釋劑、顯影液、刻蝕液、剝離液、特氣、其他。電子元件制造排污單位電阻電容電感元件、敏感元件及傳感器、電聲器件及零件、其他電子元件原料種類包括:鋁箔、其他。輔料種類包括:分散劑、電鍍液、環(huán)氧膠、清洗劑、其他。電子電路原料種類包括:覆銅板、銅箔、鎳片、錫條、撓性基材、其他。電子專用材料制造排污單位7原料種類包括:襯底、貴金屬、銅箔、環(huán)氧樹脂、石英、其他。輔料種類包括:研磨液、刻蝕液、電解液、清洗劑、其他。燃料種類燃料種類包括燃料油、天然氣、其他。設計年使用量及計量單位設計年使用量為與產能相匹配的原輔材料及燃料年使用量。主要原輔材料設計年使用量的計量單位包括:t/a、kg/a、m3/a、L/a、m2/a、片/a,燃料計量單位分別為t/a,萬t/a,Nm3/a,萬Nm3/a。主要原輔材料有毒有害成分及占比原輔材料中有毒有害成分根據GB8978中第一類污染物以及《優(yōu)先控制化學品名錄》、《有毒有害大氣污染物名錄》及其他有關文件規(guī)定確定,其占比即其在原輔材料中的含量。原輔材料中不含有毒有害物質或者元素的可不填報。其他電子工業(yè)排污單位如有需要說明的內容,可填報。產排污環(huán)節(jié)、污染物及污染治理設施一般原則廢氣產排污環(huán)節(jié)、污染物及污染防治設施包括生產設施對應的產排污環(huán)節(jié)名稱、主要污染物項目、排放形式(有組織、無組織、污染防治設施名稱及工藝、是否為可行技術、有組織排放口編號及名稱、排放口設置是否符合要求、排放口類型。廢水產排污環(huán)節(jié)、污染物及污染防治設施包括廢水類別、主要污染物項目、污染防治設施名稱及工藝、是否為可行技術、排放去向、排放方式、排放規(guī)律、排放口編號及名稱、排放口設置是否符合要求、排放口類型。廢氣廢氣主要產污環(huán)節(jié)、污染物項目、排放形式及污染防治設施電子工業(yè)排污單位的廢氣主要產污環(huán)節(jié)名稱、主要污染物項目、排放形式及污染防治設施填報內容見表2-1~表2-4。表中未列明的其他生產設施、廢氣產污環(huán)節(jié)、污染物項目、排放形式及污染防治設施由排污單位自行填報。電子工業(yè)排污單位污染控制項目依據GB16297確定,待《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。地方污染物排放標準有更嚴要求的,從其規(guī)定。899表2-1計算機制造排污單位、其他電子設備制造排污單位廢氣產污環(huán)節(jié)、污染物項目、排放形式及污染防治設施一覽表行業(yè)類別主要生產單元生產設施廢氣產污環(huán)節(jié)污染物項目排放形式污染防治設施排放口類型污染防治設施名稱及工藝是否為可行技術計算機制造排污單位、其他電子設備制造排污單位覆生產線、注塑生產線涂覆機、注塑機涂覆、注塑揮發(fā)性有機物a有組織有機廢氣處理系統(tǒng):活性炭吸附法、其他是否如采用不屬于“6污染防治可行技術要求”中的技術,應提供相關證明材料一般排放口噴漆生產線噴漆設備、烘干設備噴漆、烘干揮發(fā)性有機物a、苯、甲苯、二甲苯、顆粒物有組織有機廢氣處理系統(tǒng):水簾柜+噴淋塔、水簾柜+噴淋塔+吸附法、其他主要排放口b一般排放口電鍍生產線電鍍設備電鍍硫酸霧、氰化氫等c有組織酸性廢氣處理系統(tǒng):堿液噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口a待《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。b適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點管理的計算機制造或者其他電子設備制造排污單位的噴漆生產線有機廢氣排放口。c污染物項目依據GB16297確定,待《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。地方污染物排放標準有更嚴格要求的,從其規(guī)定。1010表2-2電子器件制造排污單位廢氣產污環(huán)節(jié)、污染物項目、排放形式及污染防治設施一覽表行業(yè)類別主要生產單元生產設施廢氣產污環(huán)節(jié)污染物項目排放方式污染防治設施排放口類型污染防治設施名稱及工藝是否為可行技術電子真空器件制造排污零件處理、表面涂覆清洗機、涂覆機有機溶劑清洗、有機涂覆揮發(fā)性有機物a有組織有機廢氣處理系統(tǒng):活性炭吸附法、燃燒法、濃縮+燃燒法、其他一般排放口單位表面涂覆電鍍設備電鍍硫酸霧、氰化氫有組織酸性廢氣處理系統(tǒng):一般排放口等d堿液噴淋洗滌吸收法、其他半導體分立器件制造、集成電路制清洗、光刻、封裝清洗機、光刻機、顯影機、涂膠機、塑封壓機、烤箱有機溶劑清洗、光刻、塑封+烘烤揮發(fā)性有機物a有組織有機廢氣處理系統(tǒng):活性炭吸附法、燃燒法、濃縮+燃燒法、其他主要排放口b一般排放口造、半導體照明器件制造、光電子器件制造、其他電子器件制造排污單位是否如采用不屬于“6污染防治可行技術要求”中的技術,應提供相關證明材料清洗、濕法刻蝕、薄膜制備清洗機、濕法刻蝕機、化學氣相沉積設備硝酸清洗、濕法刻蝕,化學氣相沉積氮氧化物有組織本地處理系統(tǒng)(POU)、酸性廢氣處理系統(tǒng):電熱/燃燒+水洗法、堿液噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口制備、刻蝕、封裝蝕設備、電鍍設備酸洗、堿洗、化學氣相沉積、干法刻蝕、引腳電鍍氟化物、氯化氫、氨、硫酸霧、氰化氫等d有組織本地處理系統(tǒng)(POU)、酸性處理系統(tǒng)、堿性處理系統(tǒng):酸堿噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口陣列、彩清洗機、光刻機、顯影機、涂膠機、剝離設備有機溶劑清洗、光刻、剝離、掩模版清洗揮發(fā)性有機物a有組織有機廢氣處理系統(tǒng):活性炭吸附法、燃燒法、濃縮+燃燒法、其他主要排放口c一般排放口顯示器件制造排污單位膜、成盒、模組、蒸鍍清洗機、濕法刻蝕機、化學氣相沉積設備硝酸清洗、濕法刻蝕、化學氣相沉積氮氧化物有組織本地處理系統(tǒng)(POU)、酸性廢氣處理系統(tǒng):電熱/燃燒+水洗法、堿液噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口陣列化學氣相沉積設備、濕法刻蝕機化學氣相沉積、濕法刻蝕氟化物、氯化d有組織本地處理系統(tǒng)(POU)、酸性處理系統(tǒng)、堿性處理系統(tǒng):酸堿噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口a待《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。b適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點管理的集成電路制造排污單位的有機廢氣排放口。c適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點管理的顯示器件制造排污單位的有機廢氣排放口。d污染物項目依據GB16297確定,待《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。地方污染物排放標準有更嚴格要求的,從其規(guī)定。1111表2-3電子元件制造排污單位廢氣產污環(huán)節(jié)、污染物項目、排放形式及污染防治設施一覽表行業(yè)類別主要生產單元生產設施廢氣產污環(huán)節(jié)污染物項目排放形式污染防治設施排放口類型污染防治設施名稱及工藝是否為可行性技術電阻電容電感元件制造、敏感元件及傳感器制造、電聲器件及零件制造、其他電子元件制造排污單位原料系統(tǒng)機床開料、修邊顆粒物有組織含塵廢氣處理系統(tǒng):袋式除塵法、其他是否如采用不屬于“6污染防治可行技術要求”中的技術,應提供相關證明材料一般排放口無組織密閉操作,廢氣收集,排至粉塵處理系統(tǒng):布袋除塵法、其他/電鍍電鍍設備電鍍氯化氫、氨等a有組織酸性廢氣處理系統(tǒng):堿液噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口混合、成型、印刷、清洗、烘干/燒成、涂覆、點膠混合機、成型機、印刷機、清洗機、烘干機/燒成爐、涂覆機、點膠機混合、成型、印刷、有機溶劑清洗、烘干/燒成、表面涂覆、點膠揮發(fā)性有機物b、甲苯有組織有機廢氣處理系統(tǒng):活性炭吸附法、燃燒法、濃縮+燃燒法、其他一般排放口電子電路制造排污單位原料系統(tǒng)、鉆孔、成型剪板機、鉆孔機、成型機開料、鉆孔、成型顆粒物有組織含塵廢氣處理系統(tǒng):袋式除塵、濾筒除塵、濾板式除塵、其他一般排放口無組織密閉操作,廢氣收集,排至粉塵處理系統(tǒng):布袋除塵法、其他/電鍍、表面處理、線路制作鍍銅/鍍錫設備、退錫設備、沉銅設備、蝕刻機鍍銅/鍍錫、退錫、沉銅、蝕刻氮氧化物氯化氫、氨、硫酸霧、甲醛、氰化氫等a有組織酸性廢氣處理系統(tǒng)、堿性廢氣處理系統(tǒng):酸堿噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口清洗、涂覆清洗機、涂膠機、防焊印刷機、涂覆機有機溶劑清涂覆揮發(fā)性有機物b、苯有組織有機廢氣處理系統(tǒng):活性炭吸附法、燃燒法、濃縮+燃燒法、其他一般排放口a污染物項目依據GB16297確定,待《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。地方污染物排放標準有更嚴格要求的,從其規(guī)定。b待《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。1212表2-4電子專用材料制造排污單位廢氣產污環(huán)節(jié)、污染物項目、排放形式及污染防治設施一覽表行業(yè)類別主要生產單元生產設施廢氣產污環(huán)節(jié)污染物項目排放形式污染防治設施排放口類型污染防治設施名稱及工藝是否為可行性技術電子專用材料制造排污單位電子功能材料刻蝕、電蝕刻蝕機、腐蝕機刻蝕、鋁箔腐蝕氮氧化物氟化物、氯化氫、硫酸霧等a有組織酸性廢氣處理系統(tǒng):堿液噴淋洗滌吸收法、其他是否如采用不屬于“6污染防治可行技術要求”中的技術,應提供相關證明材料一般排放口互聯(lián)與封裝材料合成與配涂覆反應釜、上膠覆機樹脂合成與膠液配機涂覆揮發(fā)性有機物b有組織有機廢氣處理系統(tǒng):活性炭吸附法、燃燒法、濃縮+燃燒法、其他一般排放口清洗、表面處理清洗機、鍍銅/鋅/鉻設備酸液清洗氮氧化物硫酸霧等a有組織酸性廢氣處理系統(tǒng):堿液噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口工藝與輔助材料配料、粉碎熔化坩堝、粉碎機投料、混合、粉碎顆粒物有組織含塵廢氣處理系統(tǒng):布袋除塵法、其他一般排放口無組織密閉操作,廢氣收集,排至粉塵處理系統(tǒng):布袋除塵法、其他/研磨磨砂機、三輥研磨機研磨揮發(fā)性有機物b有組織有機廢氣處理系統(tǒng):活性炭吸附法、燃燒法、其他一般排放口無組織密閉操作,廢氣收集,排至有機廢氣處理系統(tǒng):活性炭吸附法、燃燒法、其他/a污染物項目依據GB16297確定,待《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。地方污染物排放標準有更嚴格要求的,從其規(guī)定。b待《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。污染防治設施、有組織排放口編號HJ608進行編號并填報。HJ608進行編號后填報。排放口設置根據《排污口規(guī)范化整治技術要求(試行》、地方相關管理要求,以及電子工業(yè)排污單位執(zhí)行的污染物排放標準中有關排放口規(guī)范化設置的規(guī)定,填報廢氣排放口設置是否符合規(guī)范化要求。地方污染物排放標準有更嚴要求的,從其規(guī)定。排放口類型電子工業(yè)排污單位的廢氣排放口分為主要排放口和一般排放口。納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點管理排污單位的揮發(fā)性有機物產生量、排放量大的有機廢氣排放口為主要排放口。其他為一般排放口。主要排放口、一般排放口劃分詳見表2-1~表2-4。廢水廢水類別、污染物項目及污染防治設施3。污染物GB8978確定,待《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。地方污染物排放標準有更嚴格要求的,從其規(guī)定。133電子工業(yè)排污單位廢水類別、污染物項目及污染防治設施一覽表廢水類別a污染物項目a污染防治設施流向/排放去向對應排放口排放口類型污染防治設施名稱及工藝是否為可行技術含重金屬生產廢水六價鉻、總鉻、總鎘、總鎳、總銀、總砷、總鉛重金屬廢水處理設施:化學還原法、電解法;化學沉淀法、離子交換法、反滲透法、其他是否如采用不屬于“6污染防治可行技術要求”中的技術,應提供相關證明材料廠內綜合污水處理設施車間或者生產設施排放口主要排放口b一般排放口其他生產廢水含氰廢水總氰化物含氰廢水處理設施;堿性氯化法、臭氧氧化法、電解法、樹脂吸附法、其他//含銅廢水總銅含銅廢水處理設施:化學沉淀法、其他//含鋅廢水總鋅含鋅廢水處理設施:化學沉淀法、其他//絡合銅廢水總銅、氨氮、化學需氧量絡合銅廢水廢水處理設施:(破絡+沉淀)//銅氨廢水總銅、氨氮銅氨廢水處理設施:折點加氯法、選擇性離子交換法、磷酸銨鎂脫氮法、其他//含氨廢水氨氮、氟化物含氨廢水處理設施:吹脫法、生化法、其他//含氟廢水氟化物含氟廢水處理設施:化學沉淀法、其他//有機廢水化學需氧量、氨氮有機廢水處理設施:生化法、酸析法+Fenton氧化法、酸析法+微電解法、膜法、其他//含磷廢水總磷含磷廢水處理設施:化學沉淀法、生化法、其他//生活污水化學需氧量、氨氮等生活污水處理設施:隔油池+化糞池、其他//市政污水處理廠生活污水單獨排放口說明排放去向即可廠內綜合污水(生產廢水處理設施出水、生活污水處理設施出水)化學需氧量、氨氮、總銅、總鋅、氟化物、總氰化物、總磷廠內綜合污水處理設施:入江河等廢水總排口主要排放口b一般排放口公共污水處理設施a電子工業(yè)排污單位根據實際生產工藝填報廢水類別和污染物項目。b適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點管理排污單位。14排放去向及排放規(guī)律電子工業(yè)排污單位應明確廢水排放去向及排放規(guī)律。排放去向分為車間或者生產設施處理設施;生產廢水處理設施;廠內綜合污水處理設施;直接進入江河、湖、庫等水環(huán)境;直接進入海域;進入城市下水道(再進入江河、湖、庫;進入城市下水道(再進入海域;進入市政污水處理廠;進入公共污水處理設施;其他。當廢水直接或者間接進入環(huán)境水體時填報排放規(guī)律,不外排時不用填報。廢水排放規(guī)律類別參見HJ521。污染治理設施、排放口編號污染治理設施編號可填報電子工業(yè)排污單位內部編號。若排污單位無內部編號,則根據HJ608進行編號并填報。廢水排放口編號填報地方生態(tài)環(huán)境主管部門現有編號,或者由電子工業(yè)排污單位根據HJ608進行編號后填報。排放口設置要求根據《排污口規(guī)范化整治技術要求(試行排放口類型電子工業(yè)排污單位廢水主要排放口與一般排放口劃分如表3所示。納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點管理排污單位的廢水總排口、車間或者生產設施排放口為主要排放口。其他為一般排放口。圖件要求電子工業(yè)排污單位基本情況還應包括生產工藝流程圖(包括全廠及各工序、廠區(qū)總平面布置圖、雨水和污水管網平面布置圖。生產工藝流程圖應至少包括主要生產設施(設備、主要生產工藝流程、主要原輔材料和產排污節(jié)點等內容。廠區(qū)總平面布置圖應至少包括主體設施、公輔設施、廢氣處理設施、廢水處理設施等,并標注廢氣主要排放口、一般排放口和無組織排放的生產單元。雨水和污水管網平面布置圖應包括廠區(qū)雨水和污水集輸管線走向、排放口位置及排放去向等內容。產排污環(huán)節(jié)對應排放口及許可排放限值確定方法排放口及執(zhí)行標準廢氣排放口及執(zhí)行標準廢氣排放口應填報排放口地理坐標、排氣筒高度、國家或者地方污染物排放標準限值、環(huán)境影響評價審批意見及承諾更加嚴格的排放限值。15廢水排放口及執(zhí)行標準廢水直接排放口應填報排放口地理坐標、排放規(guī)律、對應入河排污口名稱及編碼、受納自然水體信息、匯入受納自然水體處的地理坐標及執(zhí)行的國家或者地方污染物排放標準;廢水間接排放口應填報排放口地理坐標、排放規(guī)律、受納污水處理廠信息及執(zhí)行的國家或者地方污染物排放標準,單獨排入城鎮(zhèn)污水集中處理設施的生活污水僅說明去向。廢水間歇式排放的,應當載明排放污染物的時段。廢水向海洋排放的,還應說明岸邊排放或者深海排放。深海排放的,還應說明排污口的深度、與岸線直線距離。許可排放限值一般原則電子工業(yè)排污單位許可排放限值包括污染物許可排放濃度(速率)和許可排放量。許可排放量包括年許可排放量和特殊時段許可排放量。年許可排放量是指允許排污單位連續(xù)生產12對于大氣污染物,以排放口為單位確定主要排放口和一般排放口的許可排放濃度(速率,廠界監(jiān)控點確定無組織許可排放濃度。廢氣排放口和無組織廢氣原則上不許可排放量。對于水污染物,以排放口為單位確定主要排放口的許可排放濃度和排放量,一般排放口僅許可排放濃度。單獨排入市政污水處理廠的生活污水僅說明排放去向,不許可濃度和排放量。根據國家或者地方污染物排放標準,按從嚴原則確定許可排放濃度。按照本標準5.2.3規(guī)定的許可排放量核算方法和依法分解落實到電子工業(yè)排污單位的重點污染物排放總量控制指標,從嚴確定許可排放量。2015年1月1日及以后取得環(huán)境影響評價審批意見的電子工業(yè)排污單位,許可排放量還應同時滿足環(huán)境影響評價文件和審批意見確定的排放量的要求。電子工業(yè)排污單位填報許可排放量時,應在全國排污許可證管理信息平臺申報系統(tǒng)中寫明許可排放量計算過程。電子工業(yè)排污單位承諾的排放濃度嚴于本標準要求的,應在排污許可證中載明。許可排放濃度廢氣電子工業(yè)排污單位依據GB16297確定廢氣有組織和無組織的許可排放濃度(速率)及無組織排放管控位置。有組織排放廢氣許可排放濃度的污染物項目包括揮發(fā)性有機物、苯、甲苯、二甲苯、顆粒物、氮氧化物、二氧化硫、其他污染物(氟化物、氯化氫、硫酸霧、氨、氰化氫、甲醛等);無組織廢氣許可排放濃度的污染物包括揮發(fā)性有機物、苯、甲醛?!峨娮庸I(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。地方污染物排放標準有更嚴要求的,從其規(guī)定。大氣污染防治重點控制區(qū)按照《關于執(zhí)行大氣污染物特別排放限值的公告》《關于執(zhí)行大氣污染物特別排放限值有關問題的復函》和《關于京津冀大氣污染傳輸通道城市執(zhí)行大氣污染物特別排放限值的公告》等要求執(zhí)行。其他執(zhí)行大氣污染物特別排放限值的地域范圍、時間,由國務院生態(tài)環(huán)境主管部門或者省級人民政府規(guī)定。161717若執(zhí)行不同許可排放濃度的多臺生產設施或者排放口采用混合方式排放廢氣,且選擇的監(jiān)控位置只能監(jiān)測混合廢氣中的大氣污染物濃度,則應執(zhí)行各許可排放限值要求中最嚴格限值。廢水GB8978確定廢水許可排放濃度限值,許可排放濃度為日均濃度。廢水許可排放濃度的污染物項目包括化學需氧量、氨氮、總磷、總鉛、總砷、六價鉻、總鉻、總鎘、總鎳、總銀、總銅、總鋅、氟化物、總氰化物等?!峨娮庸I(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定。地方污染物排放標準有更嚴要求的,從其規(guī)定。若電子工業(yè)排污單位同時生產兩種以上產品,且可適用不同排放控制要求或者不同行業(yè)污染物排放標準時,應執(zhí)行排放標準中規(guī)定的最嚴格的濃度限值。按照國務院生態(tài)環(huán)境主管部門或者省級人民政府規(guī)定執(zhí)行水污染物特別排放限值的區(qū)域,應按照規(guī)定的行政區(qū)域范圍、時間,執(zhí)行相關排放標準的污染物特別排放限值。許可排放量廢氣地方生態(tài)環(huán)境主管部門對重點管理的電子工業(yè)排污單位廢氣污染物排放量有許可要求的,許可排放量的核算方法見公式(1)~(3)。廢氣許可排放量包括年許可排放量和特殊時段許可排放量。排污單位的廢氣年許可排放量為各廢氣主要排放口許可排放量之和。年許可排放量年許可排放量按照許可排放濃度、風量、年生產時間確定,核算方法見公式(1)和公式(2)。Mi=Qi

×C×

×

(1)E年許可

nn=∑i=1

(2)——i個主要排放口某項污染物年許可排放量,t/a;Qi——第i個主要排放口風量(標態(tài)),m3/h;C——某項污染物許可排放濃度限值(標態(tài)),mg/m3;——i個主要排放口對應生產單元設計年生產時間,h;年許可——廢氣中某項污染物年許可排放量,t/a。特殊時段許可排放量特殊時段電子工業(yè)排污單位應按照國家或者所在地區(qū)人民政府制定的重污染天氣應急預案等文件,根據停產、減產、減排等要求,確定特殊時段許可排放量要求。國家和地方生態(tài)環(huán)境主管部門依法規(guī)定的其他特殊時段許可排放量應當在排污許可證中明確。在排污許可證有效期內,國家或者排污單位所在地區(qū)人民政府發(fā)布新的特殊時段要求的,電子工業(yè)排污單位應當按照新的停產、減產、減排等要求進行排放。特殊時段日(月)許可排放量根據電子工業(yè)排污單位前一年實際排放量折算的日(月)均值、特殊時段產量或者排放量削減比例核算,核算方法見公式3。1818式中:

E日(月)許可

=E前一年日(月)實際排放量

-

E日(月)許可——特殊時段日(月)許可排放量,t;E前一年日(月)實際排放量——排污單位前一年實際排放量折算的日(月)均值,t;α——特殊時段日(月)產量或者排放量削減比例。廢水納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點管理排污單位的廢水總排口應申請化學需氧量、氨氮的年許可排放量,車間或者生產設施排放口應申請六價鉻、總鉻、總鎳、總鎘、總銀、總砷、總鉛的年許可排放量;半導體液晶面板制造(有表面涂裝工序的)的排污單位,其廢水總排口應申請總年許可排放量依據許可排放濃度、單位產品基準排水量、主要產品產能確定,污染物年許可排放量按照公式(4)計算。nE =∑(Q×S×10?6n

年許可

i ii=1——某項污染物年許可排放量,t/a;產品種類數,無量綱。當只生產一種產品時,n=1;i種產品的單位產品基準排水量;Si——第i種產品的設計產能;Ci——第i種產品產生某項污染物執(zhí)行的許可排放濃度限值,mg/L。電鍍產品設計產能可按照公式(5)計算。 g × η S = (5)ρ × h × 10 ?6式中:S——產品設計產能,m2/a;金屬離子的年消耗量,kg/a;鍍層金屬利用率,%;金屬離子的密度,kg/m3;金屬鍍層的厚度,μm。電子工業(yè)排污單位的單位產品基準排水量見表4,《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后從其規(guī)定。1919表4電子工業(yè)排污單位基準排水量序號行業(yè)類別產品規(guī)格單位單位產品基準排水量a排水量計量位置1計算機制造排污單位、其他電子設備制造排污單位含電鍍工藝的m3/m2(鍍件鍍層)0.2與污染物排放監(jiān)控位置一致2電子器件制造排污單位半導體器件制造排污單位6英寸及以下芯片m3/片3.28英寸芯片m3/片6.012英寸芯片掩膜層數35層及以下m3/片11掩膜層數35層以上20封裝產品傳統(tǒng)封裝產品m3/千塊產品2.0圓片級封裝產品m3/片11分立器件m3/萬塊產品3.53顯示器件及光電子器件制造排污單位薄膜晶體管液晶顯示器件(TFT-LCD)bm3/m21.8c/3.5d/6.2e有源矩陣有機發(fā)光二極管顯示器件(AMOLED)m3/m2(以陣列玻璃基板投入面積計)12發(fā)光二極管(LED)m3/萬粒0.5其他m3/只0.54電子元件制造排污單位電子電路制造排污單位單面板m3/m20.225雙面板m3/m20.786多層板((2+n)層)m3/m2(0.78+0.39n)f7HDI板((2+n)層)m3/m2(0.85+0.59n)f8IC載板m3/m25.09電阻電容電感元件制造、敏感元件及傳感器制造、電聲器件及零件制造、其他電子元件制造排污單位壓電晶體元器件m3/萬只產品3.510其他m3/萬只產品0.211電子專用材料制造排污單位硅單晶材料、壓電晶體材料、藍寶石基片m3/t產品220012電子銅箔m3/t產品10013鋁電解電容器電極箔m3/m20.1514其他m3/t產品5.0a本表中規(guī)定的單位產品基準排水量值應按照滿產情況進行測算。b本限值對應的工藝過程包括:陣列-彩膜-成盒-模組。以彩膜玻璃基板或者陣列玻璃基板投入面積大的計算。c本限值對應6代以上a-Si-TFT-LCD和Oxide-TFT-LCD企業(yè)。d本限值對應6代及以下a-Si-TFT-LCD企業(yè)。e本限值對應6代及以下LTPS-TFT-LCD企業(yè)。fn為正整數,2n6層多層板是(2,n4。I35%。2020污染防治可行技術要求一般原則本標準中所列污染防治可行技術及運行管理要求可作為生態(tài)環(huán)境主管部門對電子工業(yè)排污單位排污許可證申請材料審核時參考。待電子工業(yè)相關污染防治可行技術指南發(fā)布后,從其規(guī)定。廢氣污染防治可行技術要求電子工業(yè)排污單位廢氣防治可行技術可參考資料性附錄B中表B.1。廢水污染防治可行技術要求電子工業(yè)排污單位廢水防治可行技術可參考資料性附錄B中表B.2。運行管理要求廢氣有組織排放廢氣污染治理設施應依據國家和地方規(guī)范進行設計。污染治理設施應與產生廢氣的生產設施同步運行。由于事故或者設備維修等原因造成污染治理設施停止運行時,應立即報告當地生態(tài)環(huán)境主管部門。污染治理設施應在滿足設計工況的條件下運行,并根據工藝要求,定期對設備、電氣、自控儀表及構筑物進行檢查維護,確保污染治理設施可靠運行。污染治理設施正常運行中廢氣的排放在《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施前應符合GB16297的規(guī)定,發(fā)布實施后從其規(guī)定;地方污染物排放標準有更嚴要求的,從其規(guī)定。無組織排放電子工業(yè)排污單位的揮發(fā)性有機物物料儲存無組織排放控制要求、揮發(fā)性有機物物料轉移和輸送無組織排放控制要求、設備與管線組件揮發(fā)性有機物泄漏控制要求、敞開液面揮發(fā)性有機物無組織排放控制要求、揮發(fā)性有機物無組織排放廢氣收集處理系統(tǒng)要求,應符合GB37822規(guī)定。溶劑復配、噴涂、光刻、研磨、清洗等使用含揮發(fā)性有機物原輔材料(VOCs質量占比大于等10%)的工序,在使用過程(設備維護中的使用過程除外)應采用密閉設備或者在密閉空間內操作,廢氣應排至揮發(fā)性有機物廢氣收集處理系統(tǒng);無法密閉的,應采取局部氣體收集措施,且廢氣應排至揮發(fā)性有機物廢氣收集處理系統(tǒng)。通風生產設備、操作工位、車間廠房等應在符合安全生產、職業(yè)衛(wèi)生相關規(guī)定的前提下,根據行業(yè)作業(yè)規(guī)程與標準、工業(yè)建筑及潔凈廠房通風設計規(guī)范等的要求,采用合理的通風量。VOCs物料的設備及其管道在開停工(車)、檢維修和清洗時,應在退料階段將殘存物料退凈,并用密閉容器盛裝,退料過程廢氣應排至VOCs廢氣收集處理系統(tǒng);清洗及吹掃過程排氣應VOCs廢氣收集處理系統(tǒng)。VOCs廢料(渣、液)GB37822要求進行儲存、轉移和輸送。盛裝過VOCs物料的廢包裝容器應加蓋密閉。重點地區(qū)的實驗室,若涉及使用含揮發(fā)性有機物的化學品進行實驗,應使用通風櫥(柜)或者進行局部氣體收集,廢氣應排至揮發(fā)性有機物廢氣收集處理系統(tǒng)。g)開料、修邊、鉆孔、成型、粉碎及粉狀物料投料混合等產生含顆粒物廢氣的工序,應采用密閉設備或者在密閉空間內操作,廢氣收集排至粉塵處理系統(tǒng);無法密閉的,應安裝粉塵收集設施,排至粉塵處理系統(tǒng)。廢水廢水污染治理設施應按照國家和地方規(guī)范進行設計。由于事故或者設備維修等原因造成污染治理設施停止運行時,應立即報告當地生態(tài)環(huán)境主管部門。污水處理設施應在滿足設計工況的條件下運行,并根據工藝要求,定期對設備、電氣、自控儀表及構筑物進行檢查維護,確保污染治理設施可靠運行。污染治理設施正常運行中廢水的排放在《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施前應符合GB8978的規(guī)定,發(fā)布后從其規(guī)定;地方污染物排放標準有更嚴要求的,從其規(guī)定。工業(yè)固體廢物一般工業(yè)固體廢物和危險廢物在專門區(qū)域分隔存放,減少固體廢物的轉移次數,防止發(fā)生撒落和混入的情況。一般工業(yè)固體廢物暫存間應設置防滲、防風、防曬、防雨措施,設置環(huán)境保護圖形標志。GB18597相關要求執(zhí)行,有效防止臨時存放過程中二次污染。土壤污染預防源頭控制:對有毒有害物質特別是液體或者粉狀固體物質的儲存及輸送、生產加工,污水治理、固體廢物堆放,采取相應的防滲漏、泄漏措施。分區(qū)防控:原輔料及燃料儲存區(qū)、生產裝置區(qū)、輸送管道、污水治理設施、固體廢物堆存區(qū)的防滲要求,應滿足國家和地方標準、防滲技術規(guī)范要求。滲漏、泄漏檢測:對管道、儲罐等配置泄漏、滲漏檢測裝置,對陰極保護系統(tǒng)等配置防泄漏、滲漏裝置并配套相應措施。自行監(jiān)測管理要求一般原則電子工業(yè)排污單位在申請排污許可證時,應按照本標準確定的產排污環(huán)節(jié)、排放口、污染物項目及許可限值等要求,制定自行監(jiān)測方案,并在全國排污許可證管理信息平臺填報。本標準未規(guī)定的其他監(jiān)測因子指標按照HJ819等標準規(guī)范執(zhí)行。電子工業(yè)排污單位自行監(jiān)測技術指南發(fā)布后,排污單位自行監(jiān)測管理要求從其規(guī)定。有核發(fā)權的地方生態(tài)環(huán)境主管部門可根據環(huán)境質量改善需求,增加自行監(jiān)測管理要求。21《國務院關于印發(fā)打贏藍天保衛(wèi)戰(zhàn)三年行動計劃的通知》(國發(fā)〔2018〕22號)規(guī)定,排氣口高度超過45米的高架源,以及石化、化工、包裝印刷、工業(yè)涂裝等VOCs的排放重點源,納入重點排污單位名錄,督促企業(yè)安裝煙氣排放自動監(jiān)控設施,2019年底前,重點區(qū)域基本完成;2020年底前,全國基本完成。設區(qū)的市級以上生態(tài)環(huán)境主管部門納入重點排污單位名錄的電子工業(yè)排污單位,應當按期落實國發(fā)〔2018〕22號相關要求。自行監(jiān)測方案電子工業(yè)排污單位應在自行監(jiān)測方案中明確排污單位基本情況、監(jiān)測點位及示意圖、監(jiān)測指標、執(zhí)行排放標準及其限值、監(jiān)測頻次、采樣和樣品保存方法、監(jiān)測分析方法和儀器、質量保證與質量控制、自行監(jiān)測信息公開等。對于采用自動監(jiān)測的電子工業(yè)排污單位,應如實填報采用自動監(jiān)測的污染物指標、自動監(jiān)測系統(tǒng)聯(lián)網情況、自動監(jiān)測系統(tǒng)的運行維護情況等;對于未要求開展自動監(jiān)測的污染物指標,電子工業(yè)排污單位應填報開展手工監(jiān)測的污染物排放口和監(jiān)測點位、監(jiān)測方法、監(jiān)測頻次。自行監(jiān)測要求一般原則電子工業(yè)排污單位應開展自行監(jiān)測的污染源包括產生有組織廢氣、無組織廢氣、生產廢水等主要污染源,污染源的監(jiān)測點位、指標、頻次具體見表5-1~表5-2。監(jiān)測點位、指標及頻次電子工業(yè)排污單位監(jiān)測點位包括廢氣有組織排放口、無組織排放監(jiān)測點、廢水排放口、內部監(jiān)測點等。廢氣排放口各類廢氣污染源通過排氣筒等方式排放至外環(huán)境的廢氣,應在排氣筒上設置廢氣排放口監(jiān)測點位。點位設置應滿足GB/T16157等技術規(guī)范的要求。廢氣監(jiān)測平臺、監(jiān)測斷面和監(jiān)測孔的設置應符合HJ/T397等的要求。電子工業(yè)排污單位有組織廢氣監(jiān)測指標及最低監(jiān)測頻次見表5-1。廢氣無組織排放《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施前,應根據GB16297的相關規(guī)定設置廢氣無組織排放監(jiān)測點位,該標準發(fā)布實施后從其規(guī)定。電子工業(yè)排污單位無組織廢氣監(jiān)測指標及最低監(jiān)測頻次見表5-1。表5-1電子工業(yè)排污單位廢氣污染源監(jiān)測點位、監(jiān)測指標及最低監(jiān)測頻次一覽表有組織排放行業(yè)類別監(jiān)測點位監(jiān)測指標最低監(jiān)測頻次重點管理簡化管理主要排放口一般排放口一般排放口計算機制造排污單位、其他電子設備制造排污單位有機廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機物a自動監(jiān)測b次/半年次/年苯、甲苯、二甲苯次/季度顆粒物次/半年22有組織排放行業(yè)類別監(jiān)測點位監(jiān)測指標最低監(jiān)測頻次重點管理簡化管理主要排放口一般排放口一般排放口電子真空器件制造排污單位有機廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機物a/次/半年次/年半導體分立器件制造、集成電路制造、半導體照明器件制造、光電子器件制造、其他電子器件制造排污單位酸性廢氣處理系統(tǒng)排放口氮氧化物、氟化物、氯化氫、硫酸霧/次/半年次/年有機廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機物a自動監(jiān)測c次/半年次/年堿性廢氣處理系統(tǒng)排放口氨/次/半年次/年顯示器件制造排污單位酸性廢氣處理系統(tǒng)排放口氮氧化物、氟化物、氯化氫、硫酸霧/次/半年次/年有機廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機物a自動監(jiān)測d次/半年次/年堿性廢氣處理系統(tǒng)排放口氨/次/半年次/年電阻電容電感元件制造、敏感元件及傳感器制造、電聲器件及零件制造、其他電子元件制造排污單位含塵廢氣處理系統(tǒng)排放口顆粒物/次/半年次/年有機廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機物a/次/半年次/年甲苯/電子電路制造排污單位含塵廢氣處理系統(tǒng)排放口顆粒物/次/半年次/年酸性廢氣處理系統(tǒng)排放口氮氧化物、甲醛氰化氫/次/半年次/年有機廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機物a/次/半年次/年苯/堿性廢氣處理系統(tǒng)排放口氨/次/半年次/年電子專用材料制造排污單位電子功能材料排污單位酸性廢氣處理系統(tǒng)排放口氮氧化物/次/半年次/年互聯(lián)與封裝材料排污單位酸性廢氣處理系統(tǒng)排放口氮氧化物/次/半年次/年有機廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機物a/次/半年次/年工藝與輔助材料排污單位含塵廢氣處理系統(tǒng)排放口顆粒物/次/半年次/年有機廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機物a/次/半年次/年涉及揮發(fā)性有機物燃燒(焚燒、氧化)處理的電子工業(yè)排污單位揮發(fā)性有機物燃燒(焚燒、氧化)裝置排氣筒揮發(fā)性有機物a自動監(jiān)測e次/半年次/年顆粒物、二氧化硫、氮氧化物次/半年次/年二噁英類f次/年無組織排放監(jiān)測點位監(jiān)測指標最低監(jiān)測頻次重點管理簡化管理廠界g揮發(fā)性有機物a、苯、甲醛次/年次/年ab適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點管理排污單位的噴漆生產線有機廢氣排放口。cde適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點管理排污單位的有機廢氣主要排放口。f適用于燃燒含氯有機廢氣的排污單位。g廠界監(jiān)測污染物項目根據排污單位的生產工藝填報。23廢水排放口按照排放標準規(guī)定的監(jiān)控位置設置廢水排放口監(jiān)測點位,廢水排放口應符合《排污口規(guī)范化整治技術要求(試行)》、HJ/T91和地方相關標準等的要求,單獨排向市政污水處理廠的生活污水不要求開展自行監(jiān)測。電子工業(yè)排污單位廢水監(jiān)測指標及最低監(jiān)測頻次見表5-2。表5-2電子工業(yè)排污單位廢水監(jiān)測點位、監(jiān)測指標及最低監(jiān)測頻次一覽表監(jiān)測點位監(jiān)測指標a最低監(jiān)測頻次重點管理簡化管理直接排放間接排放直接排放間接排放車間或者生產設施排放口流量自動監(jiān)測自動監(jiān)測次/月次/年總鉻、六價鉻、總鎳、總鎘、總銀、總鉛、總砷次/日次/日生產廢水總排口流量自動監(jiān)測自動監(jiān)測次/季度次/年化學需氧量、氨氮自動監(jiān)測自動監(jiān)測總銅、總鋅、總氰化物、總磷、氟化物次/月次/月a電子工業(yè)排污單位根據實際生產工藝,確定監(jiān)測污染物指標。內部監(jiān)測點位當排放標準中有污染物去除效率要求時,應在相應污染物處理設施單元的進出口設置監(jiān)測點。當環(huán)境管理有要求,或者電子工業(yè)排污單位認為有必要的,可以在電子工業(yè)排污單位內部設置監(jiān)測點,監(jiān)測與污染物濃度密切相關的關鍵工藝參數等。監(jiān)測技術手段自行監(jiān)測的技術手段包括手工監(jiān)測和自動監(jiān)測。對于相關管理規(guī)定要求采用自動監(jiān)測的指標,應采用自動監(jiān)測技術;對于監(jiān)測頻次高、自動監(jiān)測技術成熟的監(jiān)測指標,應優(yōu)先選用自動監(jiān)測技術;其他監(jiān)測指標,可選用手工監(jiān)測技術。采樣和測定方法自動監(jiān)測廢水自動監(jiān)測參照HJ/T353、HJ/T354、HJ/T355、HJ/T356執(zhí)行。手工采樣有組織廢氣手工采樣方法參照GB/T16157、HJ/T397、HJ732執(zhí)行,單次監(jiān)測中,氣態(tài)污染物采樣,應獲得小時均值濃度。無組織廢氣手工采樣方法參照HJ/T55執(zhí)行。廢水手工采樣方法的選擇參照HJ494、HJ495和HJ/T91執(zhí)行。樣品的保存、管理參照HJ493。測定方法GB8978、GB16297中規(guī)定的污染物濃度測定方法標準執(zhí)行;《電子工業(yè)污染物排放標準》發(fā)布實施后,從其規(guī)定;國家或者地方法律法規(guī)等另有規(guī)定的,從其規(guī)定。24數據記錄要求監(jiān)測期間,手工監(jiān)測的記錄和自動監(jiān)測運行維護記錄按照HJ819執(zhí)行。應同步記錄監(jiān)測期間的生產工況。監(jiān)測質量保證與質量控制按照HJ819、HJ/T373的要求,電子工業(yè)排污單位應根據自行監(jiān)測方案及開展狀況,梳理全過程監(jiān)測質控要求,建立自行監(jiān)測質量保證與質量控制體系。自行監(jiān)測信息公開電子工業(yè)排污單位應按照HJ819要求進行自行監(jiān)測信息公開。環(huán)境管理臺賬記錄與排污許可證執(zhí)行報告編制要求環(huán)境管理臺賬記錄要求一般原則電子工業(yè)排污單位在申請排污許可證時,應按本標準規(guī)定,在《排污許可證申請表》中明確環(huán)境管理臺賬記錄要求。有核發(fā)權的地方生態(tài)環(huán)境主管部門可以依據法律法規(guī)、標準規(guī)范增加和加嚴記錄要求。排污單位也可自行增加和加嚴記錄要求。電子工業(yè)排污單位應建立環(huán)境管理臺賬記錄制度,落實環(huán)境管理臺賬記錄的責任部門和責任人,明確工作職責,并對環(huán)境管理臺賬的真實性、完整性和規(guī)范性負責。電子工業(yè)排污單位生產設施、污染防治設施、排放口編碼應與排污許可證副本中載明的編碼一致。記錄形式分為電子臺賬和紙質臺賬兩種形式。記錄內容包括排污單位基本信息、生產設施運行管理信息、污染防治設施運行管理信息、監(jiān)測記錄信息及其他環(huán)境管理信息等,參見資料性附錄C。生產設施、污染防治設施、排放口編碼應與排污許可證副本中載明的編碼一致?;拘畔⑴盼蹎挝换拘畔ⅲ簡挝幻Q、生產經營場所地址、行業(yè)類別、法定代表人、統(tǒng)一社會信用代碼、主要產品名稱、生產工藝、生產規(guī)模、環(huán)保投資、環(huán)評批復文號、排污權交易文件、排污許可證編號等。記錄內容參見附錄C中表C.1。生產設施運行管理信息a)生產設施正常工況信息:主要生產設施名稱及對應的產品名稱、主要生產工藝、設施數量、編碼、設施規(guī)格參數、累計生產時間、對應產品或半成品的實際產量等。參見附錄C中表C.2。主要原輔料信息:產品名稱、生產該產品使用的原輔材料名稱、累計用量、有毒有害成分及CC.3。燃料信息:燃料名稱、累計用量、品質等。參見附錄CC.4。25生產設施非正常工況信息:生產設施名稱、編號、非正常情況起止時間、產品名稱、使用原輔料及燃料名稱、起因、應對措施、是否報告等。參見附錄CC.5。污染治理設施運行管理信息正常工況:廢氣、廢水污染防治設施名稱、編號、規(guī)格參數、控制污染物因子及其排放情CC.6~C.7。非正常情況:發(fā)生非正常情況的設施名稱、編號、起止時間、污染物排放情況、原因、應對CC.8。監(jiān)測記錄信息監(jiān)測記錄信息包括有組織廢氣、無組織廢氣、廢水污染物監(jiān)測原始結果,參見附錄C中表C.9~C.11。監(jiān)測記錄按照HJ819執(zhí)行,待電子工業(yè)排污單位自行監(jiān)測技術指南發(fā)布后,從其規(guī)定。監(jiān)測質量控制按照HJ/T373和HJ819等規(guī)定執(zhí)行。其他環(huán)境管理信息無組織廢氣污染防治措施管理維護信息:管理維護時間及主要內容等。特殊時段環(huán)境管理信息:具體管理要求及其執(zhí)行情況。企業(yè)自主記錄的環(huán)境管理信息:污染治理設施檢查、維護記錄情況等。其他信息:法律法規(guī)、標準規(guī)范確定的其他信息。記錄頻次基本信息對于未發(fā)生變化的基本信息,按年記錄,1次/年;對于發(fā)生變化的基本信息,在發(fā)生變化時記錄1次。生產設施運行管理信息正常工況:1次。主要產品或半成品實際產量:連續(xù)生產的,按月記錄,1次/月。非連續(xù)生產的,按照生產周期記錄,1次/周期。1次。1次。非正常工況:按照工況期記錄,1次/工況期。污染治理設施運行管理信息1次。非正常工況:按照工況期記錄,1次/工況期。監(jiān)測記錄信息7.3中所確定的監(jiān)測頻次要求記錄。26其他環(huán)境管理信息廢氣無組織污染防治措施管理信息:按月記錄,1次/月。具體內容見和。特殊時段環(huán)境管理信息:按照~規(guī)定頻次記錄;對于停產或者錯峰生產的,原則上僅對停產或者錯峰生產的起止日期各記錄1次。企業(yè)自主記錄的環(huán)境管理信息:每日記錄1次。具體內容見。其他信息:依據法律法規(guī)、標準規(guī)范或者實際生產運行規(guī)律等確定記錄頻次。記錄存儲及保存紙質存儲:應將紙質臺賬存放于保護袋、卷夾或者保護盒等保存介質中;由專人簽字、定點保存;應采取防光、防熱、防潮、防細菌及防污染等措施;如有破損應及時修補,并留存?zhèn)?年。電子化存儲:應存放于電子存儲介質中,并進行數據備份;可在全國排污許可證管理信息平臺填報并保存;由專人定期維護管理;保存時間原則上不低于3年。簡化管理要求實施簡化管理的電子工業(yè)排污單位,可依據本標準及地方生態(tài)環(huán)境主管部門對環(huán)境管理臺賬的簡化要求,適當簡化臺賬記錄,僅記錄污染治理設施運行管理信息和監(jiān)測記錄信息。記錄內容參見附錄C中表C.6~表C.11。污染治理設施運行管理信息的記錄頻次為每季度1次,監(jiān)測記錄信息按照本標準7.3中所確定的監(jiān)測頻次要求記錄。排污許可證執(zhí)行報告編制要求一般原則電子工業(yè)排污單位應按照排污許可證中規(guī)定的內容和頻次定期提交執(zhí)行報告,排污單位可參照本標準,根據環(huán)境管理臺賬記錄等歸納總結報告期內排污許可證執(zhí)行情況,按照執(zhí)行報告提綱編寫執(zhí)行報告,保證執(zhí)行報告的規(guī)范性和真實性,按時提交至有核發(fā)權的生態(tài)環(huán)境主管部門,臺賬記錄留存?zhèn)洳椤<夹g負責人發(fā)生變化時,應當在年度執(zhí)行報告中及時報告。報告分類及周期報告分類電子工業(yè)排污許可證執(zhí)行報告分為年度執(zhí)行報告、季度執(zhí)行報告和月度執(zhí)行報告。電子工業(yè)排污單位應當按照排污許可證規(guī)定的時間提交執(zhí)行報告。實行重點管理的電子工業(yè)排污單位應提交年度執(zhí)行報告和季度執(zhí)行報告,實行簡化管理的電子工業(yè)排污單位應提交年度執(zhí)行報告。地方生態(tài)環(huán)境主管部門根據環(huán)境管理需求,可要求排污單位提交季度/月度執(zhí)行報告,并在排污許可證中明確。報告周期年度執(zhí)行報告對于持證時間超過三個月的年度,報告周期為當年全年(自然年);對于持證時間不足三個月的27年度,當年可不提交年度執(zhí)行報告,排污許可證執(zhí)行情況納入下一年度執(zhí)行報告。季度執(zhí)行報告對于持證時間超過一個月的季度,報告周期為當季全季(自然季度);對于持證時間不足一個月的季度,該報告周期內可不提交季度執(zhí)行報告,排污許可證執(zhí)行情況納入下一季度執(zhí)行報告。編制流程包括資料收集與分析、編制、質量控制、提交四個階段,具體要求按照HJ944執(zhí)行。編制內容一般要求電子工業(yè)排污單位應對提交的排污許可證執(zhí)行報告中各項內容和數據的真實性、有效性負責,并自愿承擔相應法律責任;應自覺接受生態(tài)環(huán)境主管部門監(jiān)管和社會公眾監(jiān)督,如提交的內容和數據與實際情況不符,應積極配合調查,并依法接受處罰。電子工業(yè)排污單位應對上述要求作出承諾,并將承諾書納入執(zhí)行報告中。執(zhí)行報告封面格式、編寫提綱參見HJ944。年度執(zhí)行報告年度執(zhí)行報告應包括排污單位基本情況、污染防治設施運行情況、自行監(jiān)測執(zhí)行情況、環(huán)境管理臺賬記錄執(zhí)行情況、實際排放情況及合規(guī)判定分析、信息公開情況、排污單位內部環(huán)境管理體系建設與運行情況、其他排污許可證規(guī)定的內容執(zhí)行情況、其他需要說明的問題、結論、附圖附件等。具體內容要求參見HJ944的5.3.1,實際排放量核算按照本標準規(guī)定方法進行。表格形式參見本標準附錄D。季度/月執(zhí)行報告季度/月執(zhí)行報告應包括污染物實際排放濃度和排放量、合規(guī)判定分析、超標排放或者污染防治設施異常情況說明等內容,其中季度執(zhí)行報告還應包括各月度生產小時數、主要產品及其產量、主要原料及其消耗量、新水用量及廢水排放量、主要污染物排放量等信息。簡化管理要求實行簡化管理的電子工業(yè)排污單位應提交年度執(zhí)行報告,年度執(zhí)行報告內容至少包括排污單位基本情況、污染防治設施運行情況、自行監(jiān)測執(zhí)行情況、環(huán)境管理臺賬執(zhí)行情況、實際排放情況及合規(guī)判定分析、結論等內容。表格形式參見本標準附錄E。實際排放量核算方法一般原則電子工業(yè)排污單位的污染物在核算時段內的實際排放量等于正常情況與非正常情況實際排放量之和。核算時段根據管理需求,可以是季度、年或者特殊時段等。核算廢氣中苯、甲苯、二甲苯的實際排放量采用實測法;地方生態(tài)環(huán)境主管部門對電子工業(yè)排污單位揮發(fā)性有機物實際排放量有核算要求的,核算方法參見附錄F。核算廢水污染物的實際排放量采用實測法,實測法包括自動監(jiān)測法和手工監(jiān)測法。排污許可證中28要求采用自動監(jiān)測而未采用的排放口或者污染物,采用產污系數法核算污染物實際排放量,且按直排進行核算。對于排污許可證要求采用自動監(jiān)測的污染物項目,按照優(yōu)先順序依次選取自動監(jiān)測數據、執(zhí)法和手工監(jiān)測數據核算實際排放量。對于未要求采用自動監(jiān)測的污染物,可采用自動監(jiān)測數據或者手工監(jiān)測數據核算污染物實際排放量。采用自動監(jiān)測的污染物,若同一時段的手工監(jiān)測數據與自動監(jiān)測數據不一致,手工監(jiān)測數據符合法定的監(jiān)測標準和監(jiān)測方法的,以手工監(jiān)測數據為準。若同一時段的手工監(jiān)測數據與執(zhí)法監(jiān)測數據不一致,以執(zhí)法監(jiān)測數據為準。監(jiān)測數據應符合國家環(huán)境監(jiān)測相關標準技術規(guī)范要求。廢氣污染物實際排放量核算方法電子工業(yè)排污單位的廢氣污染物如需核算實際排放量,可以參照公式(6)~(9)進行核算。正常情況采用自動監(jiān)測數據核算自動監(jiān)測實測法是指根據符合監(jiān)測規(guī)范的有效自動監(jiān)測數據污染物的小時平均排放濃度、平均排氣量、運行時間核算污染物年排放量,某主要排放口某項大氣污染物實際排放量的核算方法見公式(6)和公式(7)。=

mm∑kk=1

×qk

×10?9

(6)E排放量

nn=∑i=1

(7)式中:Mi——核算時段內第i個主要排放口某項污染物的實際排放量,t;ck——第i個主要排放口某項污染物在第k小時的自動實測平均排放濃度(標態(tài)),mg/m3;qk——第i個主要排放口某項污染物在第k小時的干排氣量(標態(tài)),m3;m——核算時段內某項污染物的排放時間,h;n——排污單位主要排放口編號;E排放量——核算時段內排污單位某項污染物的實際排放量,t。對于出現自動監(jiān)測數據缺失或者數據異常等情況的排污單位,若排污單位能提供材料充分證明不是其責任的,可按照排污單位提供的手工監(jiān)測數據等核算實際排放量,或者按照上一個半年申報期間的穩(wěn)定運行期間自動監(jiān)測數據的小時濃度均值和半年平均排氣量,核算數據缺失時段的實際排放量。手工監(jiān)測手工監(jiān)測實測法應采用每次手工監(jiān)測時段內污染物的平均排放濃度、平均排氣量、運行時間核算污染物實際排放量,核算方法見公式(8)和公式(9)。排污單位應將手工監(jiān)測時段內生產負荷與核算時段內的平均生產負荷進行對比,并給出對比結果。29Mi=

mm∑kk=1

×qk

×10?9

×

(8)E排放量

nn=∑Mii=1

(9)式中:Mi——核算時段內第i個主要排放口某項污染物的實際排放量,t;ck——第i個主要排放口某項污染物在第k個監(jiān)測時段的實測平均排放濃度(標態(tài)),mg/m3;qk——第i個主要排放口某項污染物在第k個監(jiān)測時段的平均干排氣量(標態(tài)),m3/h;t——第k個監(jiān)測時段內第i個主要排放口累計運行時間,h;m——核算時段內某項污染物的總監(jiān)測時段,h;n——排污單位主要排放口編號;E排放量——核算時段內排污單位某項污染物的實際排放量,t。非正常情況非正常情況下污染物實際排放量優(yōu)先采用實測法核定,其次采用物料衡算法。廢水污染物實際排放量核算方法正常情況電子工業(yè)排污單位廢水主要排放口污染物實際排放量的核算方法包括實測法和產污系數法等。實測法采用自動監(jiān)測數據核算廢水自動監(jiān)測實測法是指根據符合監(jiān)測規(guī)范的有效自動監(jiān)測數據,按照公式(10)核算污染物排放量。ttE=∑i

×qi

×10?6

(10)i=1E——核算時段內廢水主要排放口某項污染物的實際排放量,t;ci——核算時段內廢水主要排放口某項污染物在第i日的實測平均排放濃度,mg/L;qi——核算時段內廢水主要排放口第i日的流量,m3/d;t——核算時段內廢水主要排放口的污染物排放時間,d。對要求采用自動監(jiān)測的排放口或者污染因子,在自動監(jiān)測數據由于某種原因出現中斷或者其他情況下,應按照HJ/T356補遺。排污許可證中要求采用自動監(jiān)測而未采用的排放口或者污染物,采用產污系數法核算污染物實際排放量,且按直排進行核算。30采用手工監(jiān)測數據核算手工監(jiān)測實測法是指根據每次手工監(jiān)測時段內的監(jiān)測數據,按照公式(11)~(13)核算污染物排放量。E=c×q×t×10?6

(11)nn∑i×i)nc=i=1 n∑i=1

(12)nn∑iq=i=1 (13)n式中:E——核算時段內廢水主要排放口某項污染物的實際排放量,t;c——核算時段內廢水主要排放口某項污染物的實測日加權平均排放濃度,mg/L;q——核算時段內廢水主要排放口的日平均排水量,m3/d;ci——核算時段內某項污染物第i次監(jiān)測的日監(jiān)測濃度,mg/L;qi——核算時段內第i次監(jiān)測的日排水量,m3/d;n——核算時段內取樣監(jiān)測次數,無量綱;t——核算時段內廢水主要排放口某項污染物排放時間,d。手工監(jiān)測數據包括核算時間內的所有執(zhí)法監(jiān)測數據和排污單位自行或者委托其他有資質的檢(監(jiān))測機構的有效手工監(jiān)測數據,若同一時段既有執(zhí)法監(jiān)測數據又有手工監(jiān)測數據,優(yōu)先使用執(zhí)法監(jiān)測數據。排污單位自行或者委托的手工監(jiān)測頻次、監(jiān)測期間生產工況、數據有效性等須符合相關規(guī)范文件等要求。b)產污系數法采用產污系數法核算污染物實際排放量的,按照公式(14)進行核算。E=Q×β×10?3

(14)式中:E——核算時段內廢水主要排放口某項污染物的實際排放量,t;Q——4;β——廢水中某項污染物的產污系數,kg/單位產品。見《全國污染源普查工業(yè)污染源產排污系數手冊》。9.3.2非正常情況廢水處理設施非正常情況下的排水,如無法滿足排放標準要求時,不應直接排入外環(huán)境,待廢水處理設施恢復正常運行且滿足排放標準要求后方可排放。如因特殊原因造成污染治理設施未正常運行超標排放污染物的或者偷排偷放污染物的,采用產污系數法核算污染物實際排放量,且按直排進行核算,核算時段為非正常運行時段(或者偷排偷放時段)。313232合規(guī)判定方法一般原則合規(guī)是指電子工業(yè)排污單位許可事項和環(huán)境管理要求符合排污許可證規(guī)定。許可事項合規(guī)是指電子工業(yè)排污單位排污口位置和數量、排放方式、排放去向、排放污染物項目、排放限值符合排污許可證規(guī)定。其中,排放限值合規(guī)是指電子工業(yè)排污單位污染物實際排放濃度(速率)和排放量滿足許可排放限值要求。環(huán)境管理要求合規(guī)是指電子工業(yè)排污單位按排污許可證規(guī)定落實自行監(jiān)測、臺賬記錄、執(zhí)行報告、信息公開等環(huán)境管理要求。電子工業(yè)排污單位可通過臺賬記錄、按時上報執(zhí)行報告和開展自行監(jiān)測、信息公開,自證其依證排污,滿足排污許可證要求。生態(tài)環(huán)境主管部門可依據電子工業(yè)排污單位環(huán)境管理臺賬、執(zhí)行報告、自行監(jiān)測記錄中的內容,判斷其污染物排放濃度(速率)和排放量是否滿足許可排放限值要求,也可通過執(zhí)法監(jiān)測判斷其污染物排放濃度(速率)是否滿足許可排放限值要求。產排污環(huán)節(jié)、污染治理設施及排放口符合許可證規(guī)定電子工業(yè)排污單位實際的生產地點、主要生產單元、生產工藝、生產設施、污染治理設施的位置、編號與排污許可證相符,實際情況與排污許可證載明的規(guī)模、參數等信息基本相符。所有有組織排放口和各類廢水排放口的個數、類別、排放方式和去向等與排污許可證載明信息一致。廢氣排放濃度合規(guī)判定電子工業(yè)排污單位有組織排放口廢氣污染物和企業(yè)邊界無組織排放廢氣污染物排放濃度達標均是指“任一小時濃度均值均滿足許可排放濃度要求”。廢氣污染物小時濃度均值

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