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微電子學(xué)馮辰亮12341010

TFT-LCD課程第二次作業(yè)TFT-LCD制作流程共分為四個(gè)部分：1、陣列工藝；2、彩膜工藝；3、成盒工藝；4、模組工藝；

陣列工藝：即在玻璃基板上制作出數(shù)百萬(wàn)個(gè)薄膜晶體管其內(nèi)容主要包括：1、玻璃清洗2、鍍膜（包括金屬、半導(dǎo)體和絕緣體薄膜）3、光刻過(guò)程濺射淀積形成金屬層：將金屬材料放在真空室內(nèi),用電場(chǎng)加速惰性元素粒子轟擊金屬板,金屬上的原子就會(huì)被撞向玻璃,然后就形成金屬薄膜。

光刻過(guò)程：在金屬板上涂光刻膠，曝光后，曝光部分被顯影液溶解，放入腐蝕液或腐蝕氣體中，對(duì)應(yīng)薄膜會(huì)被腐蝕。最后用化學(xué)剝離液去除光刻膠即可。PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)--

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法:借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。

制作過(guò)程中以此形成半導(dǎo)體和絕緣體薄膜。彩膜工藝：即彩色濾光片的制作流程。

通過(guò)顯影、曝光，依次形成黑矩陣和RGB濾光層，再在其上覆蓋一層有機(jī)保護(hù)層和透明導(dǎo)電膜（ITO）

成盒工藝：即將陣列基板和彩盒基板精確對(duì)合，形成液晶盒的過(guò)程。1、清洗2、取向過(guò)程3、滴注液晶4、涂封邊框膠5、壓縮成盒液晶取向技術(shù)：液晶的取向技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)整個(gè)基板表面液晶分子相對(duì)基板形成整齊的排列并具有最佳的夾角,并且有足夠的穩(wěn)定性。只有這樣,液晶分子才會(huì)在宏觀上表現(xiàn)出來(lái)其長(zhǎng)程有序性。模組工藝：1、貼附偏光片；2、將液晶屏引線外聯(lián)，配外圍電路；3、和背光源組裝并機(jī)械加固；各向異性導(dǎo)電膠黏劑（ACA）

由粘料、

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