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1、武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,1,第三部分電子顯微鏡分析,武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,2,第二章電子顯微鏡圖像形成原理,1儀器配置2圖像形成,武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,3,1儀器配置(1),武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳1儀器配置(3),武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,6,2圖像形成(1), 武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,7,2圖像形成(2),electronmicroscopesusesomethingsimilartoalightbulbtoproduceelectrons.thisiscalledthefilament.thefilamentisapieceofwire electrons 關(guān)閉不
2、在線的燈光, but also electrons.theseelectronsarefocusedbyaseriesofmagnets.themagnetsaremademagneticbyelectricityandarecalledelectromets eelectromets ampleandwhentheyhitthesampleasignalisgivenoff .武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,8, 2圖像化aspecialtypeofdetectoractslikeatvcameraandtheimageofthesampleisdisplayedonatvscreen.bych
3、anginghowtheelectronsarebentandho w esthesample,youcanchangethemagnificationandfocusofthetvimage .武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,9,2成像(4) The meaning of “SCANNING”,武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,10,2圖像we get the “Image 1概要2次電子(Secondary Electron) 3后向散射電子(Backscattered Electron) 4透射電子(Transmitted Electron) 5吸收電子(Absorption Electron)
4、6 X射線7俄歇電子8陰極發(fā)光1概述(1)高速運(yùn)動(dòng)的電子束與樣品碰撞時(shí),產(chǎn)生許多物理信息,主要是二次電子背散射電子(back scatteron ) 有透射電子(Transmitted Electron )吸收電子(Absorption Electron) X的陰極發(fā)光(Cathodoluminescence ),武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,13,1概要(2),武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,14,1概要(3) 只知道上述物理信息的產(chǎn)生原理和代表意義的掃描電子顯微鏡(SEM )透射電子顯微鏡(tem )電子探針(electronp 武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,15,2二次電子(Secondary
5、Electron)(1),二次電子是指入射電子碰撞樣品中原子的核外電子。 原子核外側(cè)的價(jià)電子間的結(jié)合能小,所以原子的核外電子從入射電子得到比相應(yīng)的結(jié)合能大的能量時(shí),離開原子核變成自由電子。 這種散射過程在比較接近試料表層的地方發(fā)生時(shí),能量比材料的逸出功大的自由電子從試料表面逸出,成為真空中的自由電子,即二次電子。 武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,16,2次電子(Secondary Electron)(2),武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,17,2次電子(Secondary Electron)(3)對(duì)試樣表面的狀態(tài)非常敏感,能夠有效地顯示試樣表面的微觀形態(tài)。 由于從試料表層產(chǎn)生,入射電子還沒有多次反射,
6、產(chǎn)生的二次電子的面積與入射電子的照射面積沒有大的差別,因此二次電子的分辨率高達(dá)5-10nm。 掃描電子顯微鏡的分辨率一般為二次電子分辨率。武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,18,2二次電子(Secondary Electron)(4),二次電子產(chǎn)值不太隨原子序數(shù)變化,它主要取決于表面形態(tài)。 因此,一般而言,電子顯微鏡照片是對(duì)收集到的二次電子信號(hào)進(jìn)行轉(zhuǎn)換而得到的圖像。 簡(jiǎn)稱形態(tài)像。 武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,19,3背散射電子(Backscattered Electron)(1),背散射電子是指由固體樣品原子反射的入射電子的一部分,其中包括彈性背散射電子和非彈性背散射電子。 所謂彈性背散射電子是指被
7、試料中的原子核反彈,散射角超過90度的入射電子,其能量幾乎不變化(數(shù)至數(shù)十KeV )。 非彈性背反射電子的入射電子和核外電子碰撞產(chǎn)生非彈性散射,不僅能量變化,方向也變化。 能量的范圍從數(shù)十eV到數(shù)千eV很廣。 武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,20,3背散射電子(Backscattered Electron)(2),從數(shù)量上看,彈性背散射電子所占的份額遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于非彈性背散射電子。 背向散射電子的發(fā)生范圍為樣品深度100nm-1m m,能量數(shù)十幾千eV。 背散射電子成像的分辨率一般為50-200nm (相當(dāng)于電子束斑點(diǎn)直徑)。 武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,21,3背散射電子(Backscattered
8、Electron)(3)、背散射電子和二次電子的產(chǎn)值隨原子序數(shù)的增加而增加,而二次電子的增加不明顯。 另一方面,背向散射電子作為成像信號(hào)不僅具有形態(tài)特征,還呈現(xiàn)原子序號(hào)對(duì)比度,可定性地用于成分分析。 武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,22,3背散射電子(Backscattered Electron)(4),原子序數(shù)高的元素,背散射能力強(qiáng)。 例如SiO2和SnO2,由于前者的平均原子序號(hào)為15.3,后者為27.3,因此后者的后向散射能明顯大于前者。 因此,根據(jù)物相的不同,后向散射能力也不同,即使是后向散射電子的測(cè)定,也能夠大致確定材料中的物相狀態(tài)的差。 背向散射電子像也被稱為成分像。 武漢理工大學(xué)資環(huán)
9、學(xué)院管俊芳,23、二次電子和后向散射電子能量比較,武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,24,4透射電子(Transmitted Electron ),如果樣品的厚度遠(yuǎn)小于入射電子的有效透射深度,相當(dāng)數(shù)量的電子透射樣品可以檢測(cè)到該信號(hào)用于觀察高倍形態(tài)、晶格條紋圖像、及電子衍射、微觀區(qū)域的晶體結(jié)構(gòu)分析。 武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,25,5吸收電子,隨著入射電子與樣品中原子核或核外電子非彈性碰撞的次數(shù)增加,電子的能量和活動(dòng)能力降低,最后全部被樣品吸收。 通過檢測(cè)電流可以吸收電子得到信號(hào)像,它是后向散射電子像和二次電子像的負(fù)像。 目前,通過這種方式獲得照片已經(jīng)很少見了。 武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,26,6
10、 x射線(X ray) (1),發(fā)生原理與XRD和XRF描述的相似。 XRD :高速電子撞擊陽極,得到特征性的x射線,其波長(zhǎng)取決于陽極材料的原子種類。 XRF :連續(xù)的x射線照射試料,從試料產(chǎn)生二次x射線,波長(zhǎng)取決于試料中的原子的種類。 EM :高速電子照射樣品從樣品產(chǎn)生特征x射線,波長(zhǎng)取決于樣品中原子的種類。 武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,27,6 x射線(X ray) (2),武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,28,7俄歇電子(Auger Electron) (1),在電子過渡過程中俄歇電子所具有的能量是: EE1E2E3 E1:激發(fā)態(tài)空穴E2:過渡電子E3:射出原子核的電子、武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院
11、管俊芳、29,7俄歇電子(Auger Electron)(2)、武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳在可檢測(cè)的能量范圍內(nèi),對(duì)于Z=3-14的元素最顯著的俄歇效應(yīng)由KLL轉(zhuǎn)變形成,對(duì)于Z=14-40的元素為L(zhǎng)MM轉(zhuǎn)變,對(duì)于Z=40-79的元素為MNN轉(zhuǎn)變。 武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,31,7俄歇電子(Auger Electron)(4),Auger電子的平均自由程小(1nm左右),深處產(chǎn)生的俄歇電子,在向表面運(yùn)動(dòng)時(shí),必然會(huì)因碰撞而失去能量。 只有在距表面1nm左右的范圍內(nèi)脫離的俄歇電子具有分析意義。 因此,俄歇電子特別適用于表面層的成分分析。 武漢理工大學(xué)資環(huán)學(xué)院管俊芳,32,8陰極發(fā)光(Cathodoluminescence ),一些非導(dǎo)電樣品在高能電子的作用下能發(fā)射可見光信號(hào),被稱為陰極熒光。 這是這些物質(zhì)的價(jià)電子,從激發(fā)態(tài)和基態(tài)之間的能級(jí)轉(zhuǎn)變直接發(fā)射的波長(zhǎng)比較長(zhǎng),能量比較低的光波,波長(zhǎng)在可見光范圍內(nèi)。 主要用于物質(zhì)的陰極熒光特性分析,如分析物質(zhì)晶體的生長(zhǎng)過
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