《光學(xué)測量與光學(xué)工藝》

1、光學(xué)測量與光學(xué)工藝課程代碼：課程名稱：光學(xué)測量與光學(xué)工藝，Optical Test and Optical Process學(xué)分：2 學(xué)時(shí):32 (其中實(shí)驗(yàn)學(xué)時(shí)：0)先修課程：應(yīng)用光學(xué)、波動(dòng)光學(xué)、誤差理論與數(shù)據(jù)處理一、目的與任務(wù)本課程是一門專業(yè)基礎(chǔ)課，適合于光信息科學(xué)與技術(shù)、光學(xué)工程、測控技術(shù)與儀器等專業(yè)。本課程的目的是通過光學(xué)測量、工藝課程的學(xué)習(xí)，使學(xué)生熟悉基本光學(xué)測量方法、相關(guān)技術(shù)及基本光學(xué)加工工藝。本課程的任務(wù)是培養(yǎng)學(xué)生在光學(xué)儀器設(shè)計(jì)、加工裝調(diào)中對(duì)光學(xué)量和非光學(xué)量的光學(xué)測試能力，并使學(xué)生掌握在本專業(yè)領(lǐng)域正確使用標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范、圖冊、手冊和查閱有關(guān)光學(xué)測量、光學(xué)工藝資料的能力；為后續(xù)課程的學(xué)習(xí)和

2、工程設(shè)計(jì)奠定理論基礎(chǔ)。二、教學(xué)內(nèi)容及學(xué)時(shí)分配第一章 基本光學(xué)測量技術(shù)（12學(xué)時(shí)）1.光學(xué)測量技術(shù)中的對(duì)準(zhǔn)與調(diào)焦技術(shù)2.光學(xué)測試裝置的基本部件及其組合3.測角技術(shù)4.準(zhǔn)直與自準(zhǔn)直技術(shù)5.光學(xué)元件參數(shù)測量6.光學(xué)系統(tǒng)成像性能評(píng)測第二章 干涉測量（6學(xué)時(shí)）1.干涉測量基礎(chǔ)2.泰曼干涉測量和菲索干涉測量3.移相干涉測量4.激光干涉測長第三章 偏振測量(4學(xué)時(shí))1.偏振分析基礎(chǔ)2.光學(xué)玻璃應(yīng)力雙折射測量3.光學(xué)薄膜厚度和折射率測量第四章 最新光學(xué)測量進(jìn)展（2學(xué)時(shí)）第五章 光學(xué)零件加工工藝（8學(xué)時(shí)）1.光學(xué)材料的特性2.光學(xué)零件的技術(shù)要求及加工技術(shù)3.拋光工藝與技術(shù)三、考核與成績評(píng)定考核：采用統(tǒng)一命題，微

3、機(jī)試題庫輔助，統(tǒng)一閱卷，集體復(fù)查,嚴(yán)把質(zhì)量關(guān)。成績評(píng)定：考試占70%，平時(shí)考核、質(zhì)疑等占30%，按百分制給出最終成績。四、大綱說明1. 本大綱適合光信息科學(xué)與技術(shù)、光學(xué)工程、測控技術(shù)與儀器等專業(yè)。2. 在保證基本教學(xué)要求的前提下，教師可以根據(jù)課程及學(xué)生掌握的實(shí)際情況，對(duì)內(nèi)容進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整和刪節(jié)。五、教材、參考書選用教材：沙定國主編、蘇大圖主審，光學(xué)測試技術(shù)（第2版）M，北京:北京理工大學(xué)出版社,2010.參考書：1 蘇大圖.光學(xué)測試技術(shù)M.北京:北京理工大學(xué)出版社，1996.2 楊國光，近代光學(xué)測試技術(shù)M.杭州:浙江大學(xué)出版社，1997.3 安連生.應(yīng)用光學(xué)（第三版）M.北京: 北京理工大學(xué)出

4、版社,2003.4 謝敬輝、趙達(dá)尊等.物理光學(xué)教程M.北京:北京理工大學(xué)出版社,2005.編寫教師：張旭升、何川、王平責(zé)任教授簽字：教學(xué)院長簽字：Optical Test and Optical ProcessCourse Code: Course Name: Optical Test and Optical ProcessClass Hour: 32Credit: 2Course Description: The objective of this course is to familiarize students with foundations of optical test and g

5、et an elementary knowledge about optical measurement and process. This course includes the foundations of optical measurement(error analysis, focusing and autofocusing, alignment, angle measurement, focal length measurement, radius measurement, refractive index measurement), image quality assessment

6、(star test, resolution and optical transfer function measurement), interferometry (Twyman-Green, Fizeau interferometer, phase shifting interferometer), polarimetry(elements, stress induced birefringence measurement and ellipsometry), the new progress in optical metrology, and the optical process techniques.The purpose of the course is to train students to apply thes