湯有綸-20121027-淺談電子特氣發(fā)展趨勢totzbg20121026

1、 綠菱電子材料（天津）有限公司綠菱電子材料（天津）有限公司2012/10/283/11/2022前言 電子氣體經(jīng)過幾十年的發(fā)展，已經(jīng)成為一個重要的氣體分支，它在發(fā)展電子信息產(chǎn)業(yè)起著至關(guān)重要的支撐作用。隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展，它不僅廣泛的應(yīng)用于IC，LED，PV，TFT-LCD，光纖等工藝制程中。它還廣泛的應(yīng)用于核電，航天，電力，醫(yī)藥，建材，國防等領(lǐng)域中。據(jù)不完全按統(tǒng)計，電子氣體和金屬有機(jī)化合物僅半導(dǎo)體制造業(yè)采用的各類氣體和金屬有機(jī)化合物共計150多種，約占半導(dǎo)體制造企業(yè)原材料采購成本的20%左右?？梢灶A(yù)見我國電子特氣的前途無量。 本報告就有關(guān)電子特氣的目前的發(fā)展趨勢，談?wù)勎覀兊囊恍┱J(rèn)識，意在為

2、振興我國電子信息產(chǎn)業(yè)和民族工業(yè)與同行攜手開拓我國電子特氣產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，使我國電子特氣不斷的有所發(fā)現(xiàn)，有所創(chuàng)造，有所前進(jìn)！3/11/2022電子特氣應(yīng)用分類按應(yīng)用領(lǐng)域按應(yīng)用領(lǐng)域TFT/LCD ICPVLED光纖光纖鋰電池鋰電池按工藝用途按工藝用途編號編號品名品名在電子行業(yè)主要用途在電子行業(yè)主要用途全球需求量全球需求量備注備注1CF4刻蝕刻蝕/清洗清洗2SF6清洗清洗/刻蝕刻蝕3C4F8刻蝕刻蝕/清洗清洗4CHF3刻蝕刻蝕5CH2F2刻蝕刻蝕6C2HF5刻蝕刻蝕7SiF4成膜成膜8C2F6刻蝕刻蝕/清洗清洗9C3F8刻蝕刻蝕/清洗清洗10C4F6刻蝕刻蝕11CH3F刻蝕刻蝕12C3F6刻蝕刻蝕/清洗

3、清洗13C5F8刻蝕刻蝕14WF6CVD15NF3清洗清洗/刻蝕刻蝕電子特氣總攬氟化物系列1編號編號品名品名用途用途需求需求備注備注1C4F10 刻蝕刻蝕2C2H5F 乙基氟乙基氟刻蝕刻蝕 3C2ClF3 三氟三氟氯氯乙乙烯烯 前體前體4C2BrF3 三氟溴乙稀三氟溴乙稀 制冷制冷5C2H2F4 R134a 制冷制冷6C3HF7 R227a滅火滅火7 C4F8O刻蝕刻蝕8CF3I制冷制冷/滅火滅火9C2H3F3 R143制冷制冷10CHClF2 R22制冷制冷11C2H4F2 R152刻蝕刻蝕121,1,1,3,3-五氟丙烷五氟丙烷(HFC-245fa)以及它們的混合物以及它們的混合物替代替代

4、SF6,減少溫室氣減少溫室氣體排放體排放131,3,3,3-四氟丙烯四氟丙烯(OHFC-1234ze)141,1,2,2-四氟乙基醚四氟乙基醚(HFE-254pc)15 電子特氣總攬氟化物系列2編號編號品名品名用途用途需求需求備注備注1F2清洗清洗替代NF32HF刻蝕刻蝕/清洗清洗15COF2清洗清洗/刻蝕刻蝕替代替代NF34Si2F6成膜成膜5ClF3清洗清洗6ClF5清洗清洗7BF3參雜參雜8B11F3參雜參雜9PF3參雜參雜10PF5鋰離子電池鋰離子電池/參雜參雜11AsF3參雜參雜12AsF5參雜參雜13GeF4參雜參雜 電子特氣總攬氟化物系列3編號編號品名品名用途用途需求需求備注備注

5、1MoF6CVD 2BrF3刻蝕刻蝕 3BrF5刻蝕刻蝕 4IF5前體前體 5SF4刻蝕刻蝕 6TiF4CVD 7TaF5CVD 8SbF5參雜參雜 9SeF6CVD 10TeF6CVD 11IrF6CVD 12OF2清洗清洗 13C2H3F制冷制冷14C3F6O清洗清洗電子特氣總攬氟化物系列4編號編號品名品名用途用途需求需求備注備注1SiH4CVD2Si2H6CVD3Si3H8CVD4SiH3CH3CVD5SiH2(CH3)2CVD6SiH(CH3)3CVD7Si(CH3)4CVD8SiHF3CVD9SiH2Cl2CVD10SiHCl3Crystal Si/CVD11SiCl4Crystal

6、 Si/CVD/Fiber12Si2Cl6CVD131415電子特氣總攬硅烷系列編號編號品名品名用途用途需求需求備注備注1B2H6參雜參雜2TMB參雜參雜3TEB參雜參雜4TBB參雜參雜5PH3參雜參雜6AsH3參雜參雜7SbH3參雜參雜8H2S參雜參雜9H2Se參雜參雜10H2Te參雜參雜11GeH4 參雜參雜12Ge2H6參雜參雜13GeH(CH3)3參雜參雜14Ge(CH3)4參雜參雜15SnH4 參雜參雜電子特氣縱覽電子特氣縱覽B/P/As/Ge/Se等烷類化合物等烷類化合物編號編號品名品名用途用途需求需求備注備注1Cl2刻蝕刻蝕2HCl外延外延3BCl3刻蝕刻蝕4HBr刻蝕刻蝕5HI

7、6NH3CVD7D2CVD8B2D6參雜參雜9B(CD3)3參雜參雜10GeD4參雜參雜11Ge2D6參雜參雜12 NOIC，MD，PV13NO214N2OIC，MD15SO2刻蝕刻蝕16COS刻蝕刻蝕電子特氣縱覽電子特氣縱覽其它氣體其它氣體編號編號品名品名用途用途需求需求備注備注1CH4CVD2C2H2CVD3C2H4CVD4C2H6CVD5C3H6CVD6C3H8CVD7n-C4H108iso-C4H109n-C4H810iso-C4H8111,3-C4H612C3H4(丙炔丙炔)醫(yī)藥醫(yī)藥13C2H2Cl2清洗清洗1415電子特氣縱覽電子特氣縱覽有機(jī)氣體有機(jī)氣體電子特氣縱覽電子特氣縱覽其它

8、氣體其它氣體編號編號品名品名用途用途需求需求備注備注1COIC/PV/TFT2CO2TFT/IC3COCl2醫(yī)藥醫(yī)藥/化工化工4C2N2醫(yī)藥醫(yī)藥/農(nóng)藥農(nóng)藥5BiH3參雜參雜6ClO3F醫(yī)藥醫(yī)藥7ClO28BBr3參雜參雜/刻蝕刻蝕9HCN10POCl3參雜參雜11POF3參雜參雜12131415編號編號品名品名用途用途需求需求備注備注1N22O23Ar4H25He6Ne7Ar8Kr9Xe10Rn1112131415電子特氣縱覽電子特氣縱覽高純氣體高純氣體/稀有氣體稀有氣體序號序號英文名稱英文名稱分子式分子式純度（純度（%）1 1TMGa (Trimethylgallium)TMGa (Trim

9、ethylgallium)Ga (CHGa (CH3 3) )3 3 99.999999.99992 2TMIn (Trimethylindium)TMIn (Trimethylindium)In (CHIn (CH3 3) )3 3 99.999999.99993 3TMAl (Trimethylaluminium)TMAl (Trimethylaluminium)Al (CHAl (CH3 3) )3 3 99.999999.99994 4TEGa (Triethylgallium)TEGa (Triethylgallium)Ga (CGa (C2 2H H5 5) )3 3 99.999

10、999.99995 5TEIn (Triethylindium)TEIn (Triethylindium)In (CIn (C2 2H H5 5) )3 3 99.999999.99996 6DEZn (Diethylzinc)DEZn (Diethylzinc)Zn (CZn (C2 2H H5 5) )2 2 99.999999.99997 7DMZn (Dimethylzinc)DMZn (Dimethylzinc)Zn (CHZn (CH3 3) )2 2 99.999999.99998 8Cp2Mg (Magnesocene)Cp2Mg (Magnesocene)Mg (CMg (C

11、5 5H H5 5) )2 2 99.999899.99989 9DMCd (Dimethylcadmium)DMCd (Dimethylcadmium)Cd (CHCd (CH3 3) )2 2 99.999899.99981010DETe (Diethyltelluride)DETe (Diethyltelluride)Te (CTe (C2 2H H5 5) )2 2 99.999899.99981111TMSb (Trimethylantimony)TMSb (Trimethylantimony)Sb (CHSb (CH3 3) )3 3 99.999599.99951212TEAl

12、(Triethylaluminium)TEAl (Triethylaluminium)Al (CAl (C2 2H H5 5) )3 3 99.99999.999131314141515電子特氣縱覽電子特氣縱覽MO源源3/11/2022應(yīng)對45nm以下制程技術(shù)的材料創(chuàng)新Product NameState at room temperatureBoiling point CCAS No.ApplicationsZrN(C2H5)24(TDEAZ) Liquid79C/0.1Torr13801-49-5CVD High-kmaterialZrN(CH3)(C2H5)4(TEMAZ) Liquid6

13、5C/0.1Torr175923-04-3SiN(CH3)23H(3DMAS) Liquid33C/1Torr15112-89-7SiN(CH3)(C2H5)3H(3EMAS)Liquid25C/0.2Torr496864-53-0TiN(CH3)24(TDMAT) Liquid50 C/0.5Torr3275-24-9CVD TiN layer materialTiN(CH3)(C2H5)4(TEMAT)Liquid80C/0.1Torr308103-54-0TiN(C2H5)24(TDEAT) Liquid112C/0.1Torr4419-47-0Ge(CH3)3H(3MGE)Liquid

14、27C1449-63-4Implantation material SiGe materialGe(CH3)4(4MGE)Liquid44C865-52-1Organic Metallic CompoundsOther Precursors Product NameState at room temperatureBoiling point CPurityCAS No.ApplicationsHfN(CH3)24TDMAHSolid (melting point is 28C)40C/0.1Torr99.999%*（* Zr Excluding densityStandard Grade: Z

15、r100 wt.ppmHigh Pure Grade: Zr10 wt.ppmUltra High Pure Grade: Zr99.999%*（* Zr Excluding densityStandard Grade: Zr100 wt.ppmHigh Pure Grade: Zr10 wt.ppmUltra High Pure Grade: Zr1 wt.ppm）19782-68-4HfO2 ,HfAlON, HfSiON layer materialsHfN(CH3)(C2H5)4TEMAHLiquid62C/0.1Torr352535-01-4HfN(C2H5)24TDEAHLiqui

16、d84C/0.1Torr19824-55-6HfOt-(C4H9)4HTTB Liquid61C/1Torr2172-02-03CentraL Glass（中央硝子)相關(guān)產(chǎn)品Organic Metallic CompoundsOther Precursors Other PrecursorsOther PrecursorsProduct NameState at room temperatureBoiling point CCAS No.ApplicationsZrN(C2H5)24(TDEAZ) Liquid79C/0.1Torr13801-49-5CVD High-kmaterialZrN

17、(CH3)(C2H5)4(TEMAZ) Liquid65C/0.1Torr175923-04-3SiN(CH3)23H(3DMAS) Liquid33C/1Torr15112-89-7SiN(CH3)(C2H5)3H(3EMAS)Liquid25C/0.2Torr496864-53-0TiN(CH3)24(TDMAT) Liquid50 C/0.5Torr3275-24-9CVD TiN layer materialTiN(CH3)(C2H5)4(TEMAT)Liquid80C/0.1Torr308103-54-0TiN(C2H5)24(TDEAT) Liquid112C/0.1Torr441

18、9-47-0Ge(CH3)3H(3MGE)Liquid27C1449-63-4Implantation material SiGe materialGe(CH3)4(4MGE)Liquid44C865-52-1Protective gas composition for magnesium & magnesium alloy production含氟有機(jī)化合物：含氟有機(jī)化合物：1，1，1，3，3-五氟丙烷五氟丙烷(HFC-245fa)1，3，3，3-四氟丙烯四氟丙烯(OHFC-1234ze)1，1，2，2-四氟乙基醚四氟乙基醚(HFE-254pc)以及它們的混合物以及它們的混合物 替代替代SF

19、6,減少溫室氣體排放減少溫室氣體排放CentraL Glass（中央硝子（中央硝子)相關(guān)產(chǎn)品相關(guān)產(chǎn)品3/11/2022值得關(guān)注的氣體動向氟化物系列 C4F6， C3F6，BrF3，ClF3，PF5，XeF2，COF2，B11F3，SiF4硅系列 SiH4，Si2H6，Si2Cl6B/P/As/Ge/Se系列 B2H6，TMB（三甲基硼），PH3，AsH3，GeH4，B11F3，H2Se其它氣體 NO，COS，C3H8，n-C4H10，i-C4H10，CO，Cl2高K的金屬有機(jī)化合物 TMA, TDEAA, HTB, TDEAH, TEMAH, TAETO, Star-Ti, Yttrium,

20、TEMAZ, ZyALD, Hexane , Octane, Pyridine 3/11/2022綠菱電子材料（天津）有限公司簡介3/11/2022綠菱電子材料（天津）有限公司綠菱電子材料（天津）有限公司1綠菱電子天津工廠緊急集合點緊急集合點一期用地消防泵房| |消防通道消防通道消防通道消防通道消防通道正門正門側(cè)門側(cè)門事故水池消防水池緊急集合點緊急集合點易燃易爆車間有毒有害車間惰性氣體車間天津武清天津武清工廠布局工廠布局辦公區(qū) 生活區(qū)精餾塔分析室精餾塔潔凈車間原料庫成品庫配電室門衛(wèi)室接待室發(fā)電房二期用地二期用地天津武清天津武清工廠實景工廠實景3/11/2022綠菱電子天津工廠1綠菱電子天津工廠

21、綠菱電子天津工廠3/11/2022天津工廠現(xiàn)有生產(chǎn)天津工廠現(xiàn)有生產(chǎn)/提純提純/分裝產(chǎn)品分裝產(chǎn)品序號序號產(chǎn)品產(chǎn)品規(guī)格規(guī)格生產(chǎn)生產(chǎn)/ /純化純化1 1CF4CF45N5N提純提純2 2CF4/O2CF4/O2訂制訂制提純提純/ /混合混合3 3SF6SF65N5N提純提純4 4C4F8C4F83 35N5N提純提純5 5CH2F2CH2F25N5N提純提純6 6CHF3CHF33 35N5N提純提純7 7CH4 CH4 3N3N5N5N提純提純8 8C3H8 C3H8 3N3N5N5N提純提純9 9R125R1255N5N提純提純1010F2/N2 F2/N2 混和氣混和氣F2 1.8NF2 1.

22、8N合作生產(chǎn)合作生產(chǎn)1111COSCOS3 3N N4 4N N生產(chǎn)生產(chǎn)/ /提純提純1212COCO3 34.4.8 8N N生產(chǎn)生產(chǎn)/ /提純提純1313SiH4SiH4及其混和氣及其混和氣6N6N，5 520%20%進(jìn)口分裝進(jìn)口分裝/ /混合混合/AP,OCIM/AP,OCIM1414NH3NH35N5N6N6N進(jìn)口分裝進(jìn)口分裝1515HClHCl5N5N進(jìn)口分裝進(jìn)口分裝16 16 N2 N25N5N充裝充裝3/11/2022序號序號產(chǎn)品產(chǎn)品規(guī)格規(guī)格生產(chǎn)商生產(chǎn)商1 1HClHCl3N3N合作定制合作定制2 2H2SH2S4.5N4.5N合作定制合作定制3 3H2SeH2Se4 44.5N4.5N合作定制合作定制4 4Cl2Cl25N5N合作定制合作定制5 5ArAr