典型國(guó)產(chǎn)集成電路生產(chǎn)設(shè)備單機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)及驗(yàn)收范例

1、典型國(guó)產(chǎn)集成電路生產(chǎn)設(shè)備單機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)及驗(yàn)收范例1光刻機(jī)1.1試運(yùn)轉(zhuǎn)前應(yīng)檢查以下工程，并應(yīng)在符合要求后進(jìn)行單機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)；1環(huán)境溫度應(yīng)為22，crc,相對(duì)濕度應(yīng)為40%60%,潔凈度等級(jí)應(yīng)為5級(jí)，室內(nèi)光線應(yīng) 為黃色。2三相交流電源電壓應(yīng)為220V10%,頻率應(yīng)為50lIIz。3機(jī)殼應(yīng)有良好的接地。4壓縮空氣壓力應(yīng)為0. 50. 7MPa。5真空壓力應(yīng)為-0.055-0.08MPa。6安裝間內(nèi)不得有腐蝕性氣體、電磁輻射，振動(dòng)頻率大于等于10Hz時(shí)，安裝機(jī)器周?chē)?振動(dòng)幅度應(yīng)小于3 um,振動(dòng)頻率小于10Hz時(shí)，安裝機(jī)器周?chē)恼駝?dòng)幅度應(yīng)小于1.5山7開(kāi)機(jī)前按鈕均應(yīng)處在關(guān)閉狀態(tài)。1.2驗(yàn)收工程應(yīng)符合以下要求

2、：1設(shè)備驗(yàn)收應(yīng)符合表1.2的規(guī)定。序號(hào)工程規(guī)范驗(yàn)收條件測(cè)試數(shù)據(jù)1分辨率0. 4 pm L&S鏡頭5個(gè)點(diǎn)位測(cè)試2公共焦深=0. 6um鏡頭5個(gè)點(diǎn)位的0. 4um分 辨率的測(cè)試條測(cè)試3總體焦點(diǎn)偏差WO. 40pm鏡頭5個(gè)點(diǎn)位的0. 4um分 辨率的測(cè)試條測(cè)試4像面傾斜WithinO. 35 u m鏡頭5個(gè)點(diǎn)位測(cè)試5彎曲WithinO. 2um鏡頭5個(gè)點(diǎn)位測(cè)試7鏡頭畸變Wi thin 50nm標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試方式8焦點(diǎn)測(cè)量重復(fù)性3o WlOOnm20次測(cè)量9長(zhǎng)期焦點(diǎn)穩(wěn)定性測(cè)試Within 0. 3pm一周測(cè)試10鏡頭控制精度1）倍率控制精度2）焦點(diǎn)控制精度Within 20nmWithin 0. 15um鏡

3、頭加熱lOOmin,冷卻 180min測(cè)試11最大曝光區(qū)域22. 0mm (hor.) x22. 0mm (ver.)顯微鏡下觀察12光罩擋板精度+0. 4mm +0. 8mm (on reticle)顯微鏡下觀察13曝光能量三620mW/cm2使用照度計(jì)測(cè)量14光強(qiáng)均勻性Within 1.5%5次測(cè)試15積分曝光控制精度 50 mJ/cm2 ormoreWithin 1.0%使用照度計(jì)測(cè)量2) 100 mJ/cm2Within 0. 5%氣系統(tǒng)等均可正常運(yùn)行；5二次配管系統(tǒng)的連接、標(biāo)識(shí)、壓力、閥門(mén)狀態(tài)等檢查正常；6驅(qū)動(dòng)氮?dú)鈮毫?yīng)為0. 50. 7MPa；7普通氮?dú)鈮毫?yīng)為0.61.2 MPa

4、；8工藝?yán)鋮s水進(jìn)回水壓差應(yīng)大于0.3Mpa,單腔合計(jì)水流量應(yīng)大于83LPM。Bubbler水流量 正常，溫度1820,控溫精度0.1。干泵水流量2.53.0SLM；9所有安全互鎖功能正常開(kāi)啟；10正常上電開(kāi)機(jī)后無(wú)故障報(bào)警。7.2驗(yàn)收工程應(yīng)符合以下要求：氣柜氮檢漏率lE-8mbar-L/s,正壓漏率0. l%/h（12h,20psi）；2工藝腔、傳輸腔均保壓合格，氫檢合格；3額定風(fēng)速時(shí)，上風(fēng)壓和下風(fēng)壓都應(yīng)大于lOOPa；4反響腔室工藝溫度控制精度滿(mǎn)足設(shè)計(jì)要求；5傳輸系統(tǒng)穩(wěn)定可靠，連續(xù)500片傳送無(wú)故障，晶圓外表無(wú)劃傷；6整機(jī)系統(tǒng)控制正常，安全防護(hù)功能正常。9腐蝕清洗機(jī)（槽式）9. 1試運(yùn)轉(zhuǎn)前應(yīng)檢

5、查以下工程，并應(yīng)在符合要求后進(jìn)行單機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)：1環(huán)境潔凈度等級(jí)應(yīng)為5級(jí)，環(huán)境溫度應(yīng)為22（土0.5；2三相交流電源：AC380V10%,頻率50lHz；3設(shè)備本體接地良好，接地電阻W1Q；4系統(tǒng)控制柜、化學(xué)藥液供給系統(tǒng)、傳輸移載系統(tǒng)、加熱控制系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、快速排 氣系統(tǒng)、排風(fēng)裝置等均可正常運(yùn)行。5去離子水管路應(yīng)采用PFA管，去離子水壓力范圍0.250.4即a,流量不小于35L/min；6化學(xué)藥液管路應(yīng)采用PFA管，手閥開(kāi)關(guān)位置檢查正常；7排水管路應(yīng)采用PFA管，管徑不小于50mni；8氮?dú)夤苈窇?yīng)采用PFA管或316Ap管，接口形式為卡套，氮?dú)鈮毫Ψ秶?.250.7Mpa；9去離子水自動(dòng)注入功能

6、正常；10漏液檢測(cè)功能正常;11廢液排放功能正常；12排風(fēng)裝置運(yùn)行正常；13所有安全互鎖功能正常開(kāi)啟；14正常上電開(kāi)機(jī)后無(wú)故障報(bào)警。9.2驗(yàn)收工程應(yīng)符合以下要求：1排風(fēng)口直徑應(yīng)為50200mni,每個(gè)排風(fēng)口排風(fēng)量不應(yīng)小于8500L/min；2傳送移載系統(tǒng)工作正常，機(jī)械手抖動(dòng)頻率應(yīng)為3060次/min,可設(shè)定，抖動(dòng)行程宜為 10mm；3去離子水快速注入，注入完成時(shí)間不應(yīng)大于150s；4去離子水快速排放，排放完成時(shí)間不應(yīng)大于6s；5清洗槽加熱控制系統(tǒng)滿(mǎn)足設(shè)計(jì)要求；6氮?dú)飧稍锵到y(tǒng)性能滿(mǎn)足設(shè)計(jì)要求；7整機(jī)系統(tǒng)控制正常，安全防護(hù)功能正常。10氧化/擴(kuò)散/退火設(shè)備試運(yùn)轉(zhuǎn)前應(yīng)檢查以下工程，并應(yīng)在符合要求后進(jìn)

7、行單機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)：1環(huán)境潔凈度等級(jí)應(yīng)為5級(jí)，環(huán)境溫度應(yīng)為220.5。（2,相對(duì)濕度應(yīng)為45%5%；2三相交流電源：AC380V10%,頻率50lHz；3設(shè)備本體接地良好，接地電阻不應(yīng)大于1Q；4系統(tǒng)控制柜、氣路柜、硅片移載系統(tǒng)、功率控制系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、凈化工作臺(tái)、排毒 箱、排氣系統(tǒng)等均可正常運(yùn)行；5二次配管系統(tǒng)的連接、標(biāo)識(shí)、壓力、閥門(mén)狀態(tài)等檢查正常；6濕度傳感器、室內(nèi)溫度傳感器、風(fēng)壓傳感器、空氣質(zhì)量傳感器應(yīng)設(shè)置合理，工作正常；7工藝?yán)鋮s水壓力應(yīng)為0. 5MPa,流量應(yīng)為510L/min；8壓縮空氣壓力應(yīng)為0.40.7MPa,流量應(yīng)為1020L/min；9設(shè)備氣路柜風(fēng)量應(yīng)為1015m3/min,排毒

8、箱排風(fēng)量應(yīng)為812m3/min；10所有安全互鎖功能正常開(kāi)啟；11正常上電開(kāi)機(jī)后無(wú)故障報(bào)警。驗(yàn)收工程應(yīng)符合以下要求：1設(shè)備的溫度傳感器、壓力傳感器、水流開(kāi)關(guān)、水流量計(jì)、真空規(guī)管工作應(yīng)顯示正常。2反響室/爐體溫度控制性能和升降溫速度滿(mǎn)足設(shè)計(jì)要求；3設(shè)備晶舟移載系統(tǒng)、推拉舟裝置應(yīng)工作正常；4整機(jī)系統(tǒng)控制正常，安全防護(hù)功能正常。JPECVD （單片式）試運(yùn)轉(zhuǎn)前應(yīng)檢查以下工程，并應(yīng)在符合要求后進(jìn)行單機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)；1環(huán)境潔凈度等級(jí)應(yīng)為5級(jí)，環(huán)境溫度應(yīng)為22寸0.5。（2,相對(duì)濕度應(yīng)為45%5%；2 三相交流電源：AC380V10%,頻率50 1Hz。AC208V10%,頻率50相z；3設(shè)備機(jī)殼應(yīng)有良好的接地

9、，接地電阻W1Q；4系統(tǒng)控制柜、傳送系統(tǒng)、工藝腔室系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、射頻系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng) 等均可正常運(yùn)行；5二次配管系統(tǒng)的連接、標(biāo)識(shí)、壓力、閥門(mén)狀態(tài)等檢查正常；4驅(qū)動(dòng)氮?dú)鈮毫Γ?.5-0. 7MPa；6真空本底壓力：8E-8 Torr；7工藝?yán)鋮s水壓力應(yīng)為0. 5MPa；8射頻電源頻率13. 56MHz,負(fù)載匹配良好；9所有安全互鎖功能正常開(kāi)啟；10正常上電開(kāi)機(jī)后無(wú)故障報(bào)警。驗(yàn)收工程應(yīng)符合以下要求：1整機(jī)系統(tǒng)上電后，系統(tǒng)界面顯示各模塊在線，系統(tǒng)及各模塊運(yùn)行正常；2傳輸模塊和工藝模塊工作正常，無(wú)異常報(bào)警；3 EMO功能正常，且安全互鎖工作正常；4系統(tǒng)傳片測(cè)試，連續(xù)傳片500片無(wú)報(bào)警，晶圓外

10、表無(wú)劃傷；5整機(jī)系統(tǒng)控制正常，安全防護(hù)功能正常。HPVD （濺射）試運(yùn)轉(zhuǎn)前應(yīng)檢查以下工程，并應(yīng)在符合要求后進(jìn)行單機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)：1環(huán)境潔凈度等級(jí)應(yīng)為5級(jí)，環(huán)境溫度應(yīng)為22（0.5。（2,相對(duì)濕度應(yīng)為45%5版2 三相交流電源：AC380v10%,頻率50lHz。AC208V10%,頻率50lHz；3設(shè)備機(jī)殼應(yīng)有良好的接地，接地電阻W1Q；4系統(tǒng)控制柜、硅片傳送系統(tǒng)、工藝腔室系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、抽真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、排 氣系統(tǒng)等均可正常運(yùn)行；5二次配管系統(tǒng)的連接、標(biāo)識(shí)、壓力、閥門(mén)狀態(tài)等檢查正常；6壓縮空氣壓力：0.50. 7MPa；7真空本底壓力：8E-8 Torr；8工藝?yán)鋮s水壓力：0. 220. 25

11、MPa；9氮?dú)鈮毫Γ红o態(tài)壓力應(yīng)為2.32.35MPa,動(dòng)態(tài)壓力應(yīng)為2. 93. 2MPa；10安裝間內(nèi)不得有腐蝕性氣體、電磁輻射，振動(dòng)頻率大于等于10Hz時(shí)，安裝機(jī)器周?chē)?的振動(dòng)幅度應(yīng)小于3um,振動(dòng)頻率小于10Hz時(shí)，安裝機(jī)器周?chē)恼駝?dòng)幅度應(yīng)小于1.5口口；11所有安全互鎖功能正常開(kāi)啟；11正常上電開(kāi)機(jī)后無(wú)故障報(bào)警。12.2驗(yàn)收工程應(yīng)符合以下要求：1整機(jī)系統(tǒng)組裝調(diào)整無(wú)誤，各電纜接線連接正確、可靠，系統(tǒng)上電后無(wú)故障；2上位機(jī)圖形用戶(hù)界面顯示各模塊在線，系統(tǒng)及各模塊運(yùn)行正常；3傳輸模塊和工藝模塊的真空度、漏率指標(biāo)：真空度8E-8Torr,壓升率：10000nTorr/min；EMO功能正常，且安

12、全互鎖工作正常；5整機(jī)馬拉松傳片測(cè)試，連續(xù)傳片500片無(wú)報(bào)警，晶圓外表無(wú)劃傷，AWC數(shù)據(jù)至少3mm。2設(shè)備自動(dòng)化要求16光罩旋轉(zhuǎn)測(cè)試精度IM | +3q 20nm測(cè)試值比照目標(biāo)值17套刻精度1) FIA-EGAIM | +3ct 75nm鏡頭5點(diǎn)測(cè)試2) LSA-EGA *IM | +3q 75nm18正交性測(cè)試Within 0.Isec.3個(gè)晶圓的平均值19步進(jìn)精度3o 45nm鏡頭22點(diǎn)測(cè)試，2個(gè)晶圓20預(yù)對(duì)位精度3o 15|nni統(tǒng)一晶圓6()次測(cè)量，包括 x、y、0 o21傳送測(cè)試1)晶圓傳輸系統(tǒng)成功率：三99%500個(gè)一組測(cè)試2)十字傳輸系統(tǒng)成功率：100%10個(gè)一組測(cè)試設(shè)備需具備S

13、MIF INTERFACE功能，設(shè)備需要支持SECS協(xié)議通訊，通訊方式需支持RS232 或HSMS(TCP/IP),且硬件和軟件功能都必須完好可用，提供對(duì)應(yīng)SECS Manual,提供對(duì)設(shè)備 工作流的說(shuō)明，提供機(jī)臺(tái)對(duì)應(yīng)VID LIST, SVTD LIST, ECID LIST, CETD LIST說(shuō)明，提供解 析Recipe Body的對(duì)應(yīng)說(shuō)明。3設(shè)備安全測(cè)試測(cè)試根據(jù)國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備暨材料SEMI-S93a準(zhǔn)那么。對(duì)該設(shè)備的EMO按鈕和安全聯(lián)鎖進(jìn)行逐 一測(cè)試：激活時(shí)設(shè)備能夠進(jìn)行下一步運(yùn)行功能，如果一旦失效，設(shè)備不能進(jìn)行下一步操作。4防火測(cè)試測(cè)試方式：主要調(diào)查的是設(shè)備建造材料、煙霧探測(cè)系統(tǒng)，利用

14、手持煙霧系統(tǒng)進(jìn)行測(cè)試, 一旦激活系統(tǒng)煙霧傳感器，整機(jī)自行關(guān)電。2涂膠機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)前應(yīng)檢查以下工程，并應(yīng)在符合要求后進(jìn)行單機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)：1環(huán)境溫度應(yīng)為233。(2,相對(duì)濕度應(yīng)為30%70斬 潔凈度等級(jí)應(yīng)不低于IS07級(jí)，室 內(nèi)燈光應(yīng)為黃色；2電源供電電壓允許偏差應(yīng)為額定電壓(380V)的10%,電源頻率偏差允許應(yīng)為標(biāo)準(zhǔn) 頻率(50 Hz)的2%；3壓縮空氣進(jìn)氣壓力應(yīng)為(0.50.7) MPa,進(jìn)氣流量不小于500 L/min；4氮?dú)夤鈮毫?yīng)為(0.30.4) MPa；5排氣通道應(yīng)通暢，管道直徑應(yīng)不小于10 mm；6接地引出端應(yīng)與廠房接地系統(tǒng)穩(wěn)固連接，接地電阻小于4 C。驗(yàn)收工程應(yīng)符合以下要求：1壓縮空

15、氣氣源接口應(yīng)能承受不小于0.7 MPa的氣源壓力；2氮?dú)鈿庠唇涌趹?yīng)能承受不小于0.5MPa的氣源壓力；3自動(dòng)狀態(tài)下設(shè)備能進(jìn)行晶片涂膠前清洗，涂膠后去邊動(dòng)作；4選6英寸圓片2片，8英寸圓片2片，基片上旋涂膜厚3Hm他m光刻膠，待基片 干燥后，測(cè)量基片厚度。按照?qǐng)D2所示在基片的上、下、左、右、中五個(gè)區(qū)域中隨機(jī)各取一 點(diǎn)，利用臺(tái)階儀對(duì)其厚度進(jìn)行測(cè)量，記錄測(cè)量值，并計(jì)算出它們的平均值。取基片厚度中的 最大值和最小值，使用公式1A.2-1得出膜厚均勻性應(yīng)不大于3%;/ 產(chǎn)(Hn - Hain) / 2P(1A.2-1)式中： 小一一基片膜厚均勻性；基片厚度最大值：ILn基片厚度最小值；P一一基片厚度平均

16、值。圖LA.2-1涂層厚度均勻性測(cè)量點(diǎn)示意圖5選25片8英寸圓片進(jìn)行膜厚3 口 m4四m光刻膠旋涂，按測(cè)試膜厚均勻性的方法，取 得各片的膜厚平均值，計(jì)算出本組25片的平均值P AVG。取膜厚最大值和最小值，使用公 式1A.2-1計(jì)算本組晶片的片間均勻性應(yīng)在3%之間；/ 2 =(Pa - Pain )/ 2Phg(1A.2-1)式中： A,-基片片間均勻性；凡,基片膜厚最大值；凡,一一基片膜厚最小值；外一一基片膜厚平均值。6使用轉(zhuǎn)速儀測(cè)量設(shè)備最高轉(zhuǎn)速應(yīng)符合指標(biāo)要求，測(cè)量值與設(shè)定值之間的差值應(yīng)在1 rpm 內(nèi)；7按常用工藝溫度要求分別設(shè)置溫控溫度，開(kāi)啟加熱，待溫度穩(wěn)定后，使用外表溫度計(jì) 測(cè)量熱板工

17、位區(qū)域上下左右四個(gè)點(diǎn)溫度記錄測(cè)量值，測(cè)量值與溫控儀顯示值之差不超過(guò)土 1 ；8設(shè)備正常運(yùn)行時(shí)，用聲級(jí)計(jì)在其水平面四個(gè)方向上，離地高度1.2m,距離機(jī)殼1m處 測(cè)量噪聲，以每天暴露時(shí)間8 h計(jì)，其等效連續(xù)A聲級(jí)噪聲不應(yīng)大于85 dB(A)。3去膠機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)前應(yīng)檢查以下工程，并應(yīng)在符合要求后進(jìn)行單機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)：1環(huán)境溫度應(yīng)為233,相對(duì)濕度應(yīng)為30%70%,潔凈度等級(jí)應(yīng)不低于IS08級(jí)；2電源供電電壓允許偏差應(yīng)為額定電壓(380V)的10%,電源頻率偏差允許應(yīng)為標(biāo)準(zhǔn)頻 率(50 Hz)的2%；3壓縮空氣進(jìn)氣壓力應(yīng)為(0.40.6) MPa；4氮?dú)夤鈮毫?yīng)為(0.40.6) MPa；5氧氣供氣壓力應(yīng)為(

18、0.30.45) MPa；6接地引出端應(yīng)與廠房接地系統(tǒng)穩(wěn)固連接，接地電阻小于4。驗(yàn)收工程應(yīng)符合以下要求：1壓縮空氣氣源接口應(yīng)能承受不小于0. 7MPa的氣源壓力；2氮?dú)鈿庠唇涌趹?yīng)能承受不小于0.7MPa的氣源壓力；3氧氣氣源接口應(yīng)能承受不小于0. 5 MPa的氣源壓力，最大流量不應(yīng)超過(guò)1000 seem；4射頻電源功率應(yīng)在(30150) W范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)；5使用6寸和8寸的硅片各5片，外表涂覆厚度為山m5H m微米的光刻膠，用輪廓測(cè) 試儀測(cè)量得出厚度，在規(guī)定的去膠時(shí)間3min30min內(nèi)去膠結(jié)束后，利用輪廓測(cè)試儀測(cè)量 剩余膠的厚度，通過(guò)公式1B.21得出去膠速率，應(yīng)滿(mǎn)足指標(biāo)要求；v = (B-

19、A) / t(1B.2-1)式中：v去膠速率；B去膠前光刻膠厚度；A去膠后剩余光刻膠厚度；t一一規(guī)定去膠時(shí)間。6使用6寸和8寸的硅片各3片，外表涂覆一定厚度山m5H m的膠，在圖2所示位 置用輪廓測(cè)試儀測(cè)量得出片內(nèi)每點(diǎn)的厚度，在去膠工藝結(jié)束后，再次測(cè)量片內(nèi)每個(gè)測(cè)試點(diǎn)剩 余膠的厚度，通過(guò)公式1B.2 2計(jì)算平均去膠厚度，通過(guò)公式1B.2 3計(jì)算每一張硅片的片 內(nèi)去膠均勻性，每一張硅片的片內(nèi)去膠均勻性均應(yīng)不大于10%;C = E (Bi-Ai) / 9(1B.2-2)式中：C去膠厚度；Bi去膠前硅片厚度；Ai去膠后硅片厚度。P = (MAX(Bi-Ai)-MIN(Bi-Ai) )/2C(1B.2-

20、3)式中：P去膠均勻性。圖IB. 21硅片測(cè)試點(diǎn)示意圖7取6寸和8寸的硅片各5片，根據(jù)硅片尺寸大小分為兩組，按1B. 2 (6)提供的方法， 算出各組中每一張硅片的平均去膠厚度，通過(guò)公式(1B.24)計(jì)算出本組5片硅片的平均 去膠厚度，再用公式(1B.2 5)計(jì)算出每一組硅片的片間去膠均勻性，每一組硅片的片間 去膠均勻性均應(yīng)不大于12%：D = ECi / 5(1B.2-4)式中：D去膠厚度；Ci乎均去膠厚度。E = (MAX Ci -MIN Ci ) /2D (IB. 2-5)式中：E片間去膠均勻性。8設(shè)備正常運(yùn)行時(shí)，用聲級(jí)計(jì)在其水平面四個(gè)方向上，離地高度1.2m,距離機(jī)殼1m 處測(cè)量噪聲，

21、以每天暴露時(shí)間8h計(jì)，其等效連續(xù)A聲級(jí)噪聲不應(yīng)大于70dB(A)。4化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)前應(yīng)檢查以下工程，并應(yīng)在符合要求后進(jìn)行單機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)：1環(huán)境溫度應(yīng)為232C,相對(duì)濕度應(yīng)為30%70%,潔凈度等級(jí)應(yīng)不低于ISO7級(jí)；2電源供電電壓允許偏差應(yīng)為額定電壓(380V)的10%,電源頻率偏差允許應(yīng)為標(biāo)準(zhǔn)頻 率(50 Hz)的2%；3壓縮空氣進(jìn)氣壓力應(yīng)為(0.50.7) MPa,進(jìn)氣流量不小于60 L/min；4接地引出端應(yīng)與廠房接地系統(tǒng)穩(wěn)固連接，接地電阻小于4 Q。3.2驗(yàn)收工程應(yīng)符合以下要求：1壓縮空氣氣源接口應(yīng)能承受不小于0.7 MPa的氣源壓力；2在設(shè)備完成一個(gè)拋光工藝周期后，采用相應(yīng)的清洗工

22、藝清洗磨拋的產(chǎn)品，用自動(dòng)非接觸式平整度測(cè)試儀測(cè)試產(chǎn)品5點(diǎn)的平整度，5個(gè)點(diǎn)的取樣方法見(jiàn)圖1C.2-1。磨拋產(chǎn)品的平 整度值應(yīng)滿(mǎn)足指標(biāo)要求；0.25B + O.25A00.25A0.258I圖1C.21樣片采樣點(diǎn)示意圖3設(shè)備正常運(yùn)行時(shí)，壓力以0. 005MPa為一檔，依次將拋光頭壓力從0. 003Mpa調(diào)到 0. 05MPa,觀測(cè)壓力傳感器測(cè)量值應(yīng)滿(mǎn)足指標(biāo)要求；4設(shè)備正常運(yùn)行時(shí)，翻開(kāi)拋光液系統(tǒng)，以50ml/min為一檔，依次將拋光液系統(tǒng)流量從 50ml/min調(diào)到500ml/min,用量杯進(jìn)行檢測(cè)應(yīng)滿(mǎn)足指標(biāo)要求；5在拋光頭或拋光臺(tái)相應(yīng)位置粘上反射薄膜，用非接觸式轉(zhuǎn)速表對(duì)準(zhǔn)反射薄膜，調(diào)節(jié)拋 光頭或拋

23、光臺(tái)轉(zhuǎn)速，讀取轉(zhuǎn)速表上的數(shù)據(jù)，測(cè)量結(jié)果應(yīng)滿(mǎn)足指標(biāo)要求；6設(shè)備正常運(yùn)行時(shí)，用聲級(jí)計(jì)在其水平面四個(gè)方向上，離地高度1.2m,距離機(jī)殼1m 處測(cè)量噪聲，以每天暴露時(shí)間8h計(jì)，其等效連續(xù)A聲級(jí)噪聲不應(yīng)大于70dB(A)。5顯影清洗機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)前應(yīng)檢查以下工程，并應(yīng)在符合要求后進(jìn)行單機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)：1環(huán)境溫度應(yīng)為222C,相對(duì)濕度應(yīng)為30%70%,潔凈度等級(jí)應(yīng)不低于ISO7級(jí)，室內(nèi) 燈光應(yīng)為黃色；2電源供電電壓允許偏差應(yīng)為額定電壓(380V)的10%,電源頻率偏差允許應(yīng)為標(biāo)準(zhǔn)頻 率(50 Hz)的2版3壓縮空氣進(jìn)氣壓力應(yīng)為(0.30.6) MPa,進(jìn)氣流量不小于60 L/min；4氮?dú)夤鈮毫?yīng)為(0.30.5)

24、 MPa,進(jìn)氣流量不小于30 L/min；5去離子水壓力應(yīng)為(0. 250. 4) MPa,流量不小于10 L/min,電阻率不小于16MQcm；6接地引出端應(yīng)與廠房接地系統(tǒng)穩(wěn)固連接，接地電阻小于4 Q。4.2驗(yàn)收工程應(yīng)符合以下要求：1壓縮空氣氣源接口應(yīng)能承受不小于0.7MPa的氣源壓力;2氮?dú)鈿庠唇涌趹?yīng)能承受不小于0.5MPa的氣源壓力；3去離子水接口應(yīng)能承受不小于0.5MPa的壓力；4可實(shí)現(xiàn)上下片、中心定位和顯影腔體三工位傳送晶片，R向傳送精度平均值應(yīng)不大于 0. 1mm；5承片臺(tái)可真空吸附定位晶片，連續(xù)運(yùn)行不掉片；6主軸轉(zhuǎn)速范圍應(yīng)在50rpm5000rpm之間，速度增量應(yīng)為Irpm,速度

25、精度應(yīng)為5rpm；7顯影單元應(yīng)具備柱狀/霧狀兩種噴嘴可選，顯影液溫度范圍應(yīng)在1530之間，控 溫精度應(yīng)為0.5；8干燥單元應(yīng)在室溫80之間，過(guò)濾精度應(yīng)為0.02“ m；9去離子水沖洗壓力范圍應(yīng)在0. 15 MPa0.30MPa之間，流量范圍應(yīng)在2L/min6L/min 之間；10設(shè)備正常運(yùn)行時(shí)，用聲級(jí)計(jì)在其水平面四個(gè)方向上，離地高度1.2m,距離機(jī)殼1m處 測(cè)量噪聲，以每天暴露時(shí)間8h計(jì)，其等效連續(xù)A聲級(jí)噪聲不應(yīng)大于70 dB（A）。6刻蝕機(jī)1試運(yùn)轉(zhuǎn)前應(yīng)檢查以下工程，并應(yīng)在符合要求后進(jìn)行單機(jī)試運(yùn)轉(zhuǎn)：1環(huán)境應(yīng)符合以下規(guī)定：1）潔凈度等級(jí)應(yīng)為6級(jí)，溫度應(yīng)為22.5（2.5（，濕度不應(yīng)大于60初2）

26、地面應(yīng)有防靜電措施。2動(dòng)力系統(tǒng)應(yīng)符合以下規(guī)定：1）三相交流電源電壓應(yīng)為20010%,頻率應(yīng)為50Hz；2）冷卻水壓力應(yīng)為0. 350. 5MPa,流量應(yīng)為58L/min；3）壓縮空氣壓力應(yīng)為0.40. 5MPa,流量應(yīng)為5L/min；4）排風(fēng)管接口直徑應(yīng)為150nmi250mm,風(fēng)量應(yīng)為510L/min,對(duì)于酸堿排設(shè)備接口銜 接材質(zhì)需要耐酸堿，接口收邊防毛刺等現(xiàn)象。3設(shè)備系統(tǒng)內(nèi)部檢查應(yīng)符合以下規(guī)定：1）片盒位置對(duì)外接口正確；2）機(jī)械手運(yùn)動(dòng)范圍無(wú)異物；3）反響室內(nèi)對(duì)外連接管道（包括真空、化學(xué)氣體）和電路應(yīng)連接無(wú)誤。4設(shè)備系統(tǒng)檢查應(yīng)符合以下規(guī)定：1）電纜接線應(yīng)正確、可靠；對(duì)應(yīng)相線色標(biāo)標(biāo)記完成，掛牌

27、信息清晰完整。2）絕緣電阻不應(yīng)小于4MC；3）接地應(yīng)正確可靠；設(shè)備需要獨(dú)立接地4） 4RF接入檢查；工藝?yán)鋮s水是否遺漏，供電電源是否完成，管線完整無(wú)誤。5）真空泵運(yùn)轉(zhuǎn)方向應(yīng)正確；真空管路角度是否合理。6）所有運(yùn)動(dòng)部件的動(dòng)作確認(rèn)；7）檢查冷卻水、高壓空氣、保護(hù)氮?dú)忾y門(mén)應(yīng)開(kāi)啟。8）氣體管路連接完成，管路標(biāo)簽及易碎標(biāo)簽粘貼完整，各系統(tǒng)測(cè)試完整。5設(shè)備腳柱安裝穩(wěn)固，增加分壓板，真空泵類(lèi)設(shè)備需要安裝固定腳。6.2驗(yàn)收工程應(yīng)符合以下要求：1接通電源主機(jī)應(yīng)顯示電源接通。2反響室門(mén)應(yīng)關(guān)閉并有返回信號(hào)。3應(yīng)檢查各安全聯(lián)鎖是否工作正常。3. 1控制盤(pán)及機(jī)臺(tái)應(yīng)設(shè)EMO并已測(cè)試功能正常。3. 2所有門(mén)應(yīng)設(shè)連鎖裝置INTERLOCK并與EMO相串連。3. 3電氣及加熱設(shè)備箱外應(yīng)裝感溫警報(bào)。4翻開(kāi)冷卻水閥門(mén)時(shí)，水流開(kāi)關(guān)應(yīng)開(kāi)。5翻開(kāi)壓縮空氣閥門(mén)時(shí)，減壓器應(yīng)顯示氣體壓力