標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 16595-2019 晶片通用網(wǎng)格規(guī)范》相比于《GB/T 16595-1996 晶片通用網(wǎng)格規(guī)范》,主要在以下幾個(gè)方面進(jìn)行了更新與調(diào)整:
-
技術(shù)內(nèi)容的更新:新版標(biāo)準(zhǔn)融入了近年來(lái)晶片制造技術(shù)和材料科學(xué)的最新進(jìn)展,對(duì)晶片網(wǎng)格設(shè)計(jì)、制備及檢測(cè)等方面的要求進(jìn)行了修訂,以適應(yīng)當(dāng)前半導(dǎo)體行業(yè)更高的精度和性能需求。
-
精度要求提升:鑒于集成電路特征尺寸的不斷縮小,2019版標(biāo)準(zhǔn)顯著提高了對(duì)晶片網(wǎng)格尺寸精度和一致性方面的要求,確保晶片在更小尺度上的可靠性和互操作性。
-
檢測(cè)方法與標(biāo)準(zhǔn):更新了晶片網(wǎng)格的檢測(cè)方法和評(píng)判標(biāo)準(zhǔn),引入了更先進(jìn)的測(cè)量技術(shù)和數(shù)據(jù)分析方法,以更準(zhǔn)確地評(píng)估晶片網(wǎng)格的質(zhì)量和符合性。
-
兼容性與標(biāo)準(zhǔn)化:為促進(jìn)國(guó)內(nèi)外晶片產(chǎn)業(yè)的交流與合作,新標(biāo)準(zhǔn)加強(qiáng)了與國(guó)際主流標(biāo)準(zhǔn)的接軌,增加了對(duì)國(guó)際上廣泛認(rèn)可的網(wǎng)格規(guī)范的引用和兼容性說(shuō)明,有助于提升中國(guó)晶片產(chǎn)品在全球市場(chǎng)的競(jìng)爭(zhēng)力。
-
環(huán)保與可持續(xù)性:考慮到環(huán)境保護(hù)和資源可持續(xù)利用的需求,2019版標(biāo)準(zhǔn)在某些條款中加入了關(guān)于生產(chǎn)過(guò)程中的環(huán)保要求,鼓勵(lì)采用環(huán)境友好型材料和技術(shù)。
-
術(shù)語(yǔ)與定義:根據(jù)技術(shù)發(fā)展,對(duì)部分專(zhuān)業(yè)術(shù)語(yǔ)進(jìn)行了新增或修訂,確保標(biāo)準(zhǔn)語(yǔ)言的準(zhǔn)確性和時(shí)代性,便于業(yè)界理解和執(zhí)行。
-
結(jié)構(gòu)與格式優(yōu)化:為了提高標(biāo)準(zhǔn)的可讀性和實(shí)用性,對(duì)標(biāo)準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)布局和表述方式進(jìn)行了優(yōu)化,使其更加清晰、邏輯性更強(qiáng),便于用戶(hù)快速查找和應(yīng)用相關(guān)信息。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2019-03-25 頒布
- 2020-02-01 實(shí)施
文檔簡(jiǎn)介
ICS29045
H80.
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T16595—2019
代替
GB/T16595—1996
晶片通用網(wǎng)格規(guī)范
Specificationforauniversalwafergrid
2019-03-25發(fā)布2020-02-01實(shí)施
國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
GB/T16595—2019
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)代替晶片通用網(wǎng)格規(guī)范與相比除編輯性修改
GB/T16595—1996《》。GB/T16595—1996,
外主要技術(shù)變化如下
:
增加了適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)適用于標(biāo)稱(chēng)直徑的硅片也適用于其他半導(dǎo)體材
———“100mm~200mm,
料晶片見(jiàn)第章
”(1);
將第章范圍中的部分內(nèi)容列入網(wǎng)格的應(yīng)用見(jiàn)第章年版的第章
———1“5”(5,19961);
刪除了規(guī)范性引用文件中的增加了
———GB/T1554、YS/T209、SEMIM1、SEMIM2、SEMIM11,
見(jiàn)第章年版的第章
GB/T30453(2,19962);
將網(wǎng)格單元平面圖的內(nèi)容修改為網(wǎng)格外徑的選擇應(yīng)考慮到晶片的邊緣去除直徑
———4.14.1.2“、
允許偏差和倒角通常選擇網(wǎng)格外徑為合格質(zhì)量區(qū)的直徑其中合格質(zhì)量區(qū)的半徑比晶片的
。,
標(biāo)稱(chēng)半徑小或?qū)?yīng)的網(wǎng)格圓直徑見(jiàn)表見(jiàn)年版的
3mm4mm,2”(4.1.2,19964.1.2);
增加了針對(duì)直徑和晶片合格質(zhì)量區(qū)半徑比晶片標(biāo)稱(chēng)半徑小的網(wǎng)格
———150mm200mm,4mm
圓直徑見(jiàn)表
(2);
將帶副參考面的晶片的內(nèi)容修改為當(dāng)使用半徑比晶片標(biāo)稱(chēng)半徑小的合格質(zhì)量區(qū)
———4.4“3mm
時(shí)網(wǎng)格都不會(huì)超過(guò)晶片副參考面區(qū)域的邊緣因此該網(wǎng)格忽略副參考面見(jiàn)年版
,,”(4.4,1996
的
4.4);
增加了網(wǎng)格的應(yīng)用見(jiàn)第章
———“5”(5)。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)與全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)
(SAC/TC203)
化技術(shù)委員會(huì)材料分技術(shù)委員會(huì)共同提出并歸口
(SAC/TC203/SC2)。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位浙江海納半導(dǎo)體有限公司有色金屬技術(shù)經(jīng)濟(jì)研究院有研半導(dǎo)體材料有限公司
:、、、
浙江省硅材料質(zhì)量檢驗(yàn)中心上海合晶硅材料有限公司
、。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人潘金平饒偉星楊素心盧立延樓春蘭徐新華吳雄杰高海軍王偉棱
:、、、、、、、、、
鄭歡欣余俊軍
、。
本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為
:
———GB/T16595—1996。
Ⅰ
GB/T16595—2019
晶片通用網(wǎng)格規(guī)范
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了可用于定量描述圓形半導(dǎo)體晶片表面缺陷的網(wǎng)格圖形
。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于標(biāo)稱(chēng)直徑的硅片也適用于其他半導(dǎo)體材料晶片
100mm~200mm,。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
硅拋光片表面質(zhì)量目測(cè)檢驗(yàn)方法
GB/T6624
硅單晶拋光片
GB/T12964
硅外延片
GB/T14139
硅外延層晶體完整性檢驗(yàn)方法腐蝕法
GB/T14142
半導(dǎo)體材料術(shù)語(yǔ)
GB/T14264
硅材料原生缺陷圖譜
GB/T30453
3術(shù)語(yǔ)和定義
界定的術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件
GB/T14264。
4網(wǎng)格單元布局
41網(wǎng)格單元平面圖
.
411網(wǎng)格以晶片中心定位規(guī)定兩種網(wǎng)格一種用于不帶主參考面的晶片即晶片的主定位基準(zhǔn)是切
..,:(
口另一種用于帶主參考面的晶片網(wǎng)格由個(gè)同心圓分割根據(jù)每個(gè)圓的直徑確定所包含的徑向分
),。18,
割單元數(shù)由各個(gè)圓面積確定同心圓的相對(duì)直徑用網(wǎng)格外徑乘以對(duì)應(yīng)的相對(duì)直徑可求出任一圓的實(shí)
,,,
際直徑具體見(jiàn)表
。1。
表1網(wǎng)格單元平面圖信息
分割單元數(shù)分割線夾角分割單元總數(shù)
圓序號(hào)所包含面積比相對(duì)直徑
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