標(biāo)準(zhǔn)解讀

GB/T 20176-2006 是一項(xiàng)由中國(guó)發(fā)布的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，全稱為《表面化學(xué)分析 二次離子質(zhì)譜 用均勻摻雜物質(zhì)測(cè)定硅中硼的原子濃度》。這項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)主要規(guī)定了使用二次離子質(zhì)譜（SIMS）技術(shù)來(lái)測(cè)定硅材料中硼元素原子濃度的方法，尤其適用于那些經(jīng)過(guò)均勻摻雜處理的樣品。下面是對(duì)該標(biāo)準(zhǔn)主要內(nèi)容的概述：

  1. 適用范圍：本標(biāo)準(zhǔn)明確了其適用對(duì)象為硅材料，特別是那些為了特定電子或光學(xué)性能而通過(guò)摻雜工藝引入硼元素的樣品。它提供了一套標(biāo)準(zhǔn)化流程來(lái)準(zhǔn)確測(cè)量硅基質(zhì)中硼的原子濃度。

  2. 術(shù)語(yǔ)和定義：標(biāo)準(zhǔn)首先對(duì)涉及的術(shù)語(yǔ)進(jìn)行了定義，包括二次離子質(zhì)譜的基本概念、分析過(guò)程中涉及的關(guān)鍵術(shù)語(yǔ)等，以確保使用者對(duì)整個(gè)測(cè)試過(guò)程有統(tǒng)一的理解基礎(chǔ)。

  3. 原理：詳細(xì)闡述了二次離子質(zhì)譜技術(shù)的原理，即利用高能粒子（如初級(jí)離子）轟擊樣品表面，使樣品表面的原子或分子電離并逸出成為二次離子，然后根據(jù)這些二次離子的質(zhì)量與電荷比進(jìn)行分析，以確定硼元素的存在及其相對(duì)含量。

  4. 儀器要求：規(guī)范了進(jìn)行此類分析所必需的二次離子質(zhì)譜儀的技術(shù)指標(biāo)和性能要求，包括分辨率、靈敏度、質(zhì)量精度等方面，確保分析結(jié)果的可靠性和準(zhǔn)確性。

  5. 樣品制備：說(shuō)明了如何準(zhǔn)備待測(cè)硅樣品，包括切割、清洗、干燥等預(yù)處理步驟，以及如何確保樣品表面的均勻性和無(wú)污染，以便獲得代表性的測(cè)試結(jié)果。

  6. 測(cè)定方法：詳細(xì)描述了測(cè)定過(guò)程的具體步驟，包括儀器參數(shù)設(shè)置、數(shù)據(jù)分析方法、校準(zhǔn)程序等，強(qiáng)調(diào)了使用已知硼濃度的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)進(jìn)行儀器校正的重要性，以實(shí)現(xiàn)對(duì)未知樣品中硼原子濃度的精確測(cè)定。

  7. 數(shù)據(jù)處理與表達(dá)：規(guī)定了如何處理實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，包括扣除背景信號(hào)、校正儀器偏差、計(jì)算硼濃度等，并對(duì)結(jié)果的表示形式和單位做出了具體要求，確保數(shù)據(jù)的可比性和一致性。

  8. 精密度和準(zhǔn)確度：提供了關(guān)于測(cè)定方法精密度和準(zhǔn)確度的評(píng)估方法，包括重復(fù)性限和再現(xiàn)性限的計(jì)算，以及與其它認(rèn)可方法比較的結(jié)果，用以驗(yàn)證此方法的有效性和可靠性。

  9. 試驗(yàn)報(bào)告：指出了試驗(yàn)報(bào)告應(yīng)包含的信息內(nèi)容，如樣品描述、測(cè)試條件、測(cè)定結(jié)果及必要的數(shù)據(jù)處理細(xì)節(jié)，確保測(cè)試結(jié)果的完整記錄和可追溯性。


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  • 2006-11-01 實(shí)施
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GB/T 20176-2006表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜用均勻摻雜物質(zhì)測(cè)定硅中硼的原子濃度_第1頁(yè)
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ICS71.040.40N33中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T20176—2006/ISO14237:2000表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜用均勻摻雜物質(zhì)測(cè)定硅中硼的原子濃度Surfacechemicalanalysis-Secondary-ionmassspectrometry-Determinationofboronatomicconcentrationinsiliconusinguniformlydopedmaterials（ISO14237:2000,IDT)2006-03-27發(fā)布2006-11-01實(shí)施中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局愛布中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T20176-2006/1S014237：2000三次前言引言1范圍2規(guī)范性引用文件3原理4參考物質(zhì)5儀器6祥品78結(jié)果表述9測(cè)試報(bào)告附錄A(資料性附錄)硅片中載流子濃度的確定附錄B(資料性附錄）用用SIMS測(cè)量硼同位素比·附錄C(規(guī)范性附錄）儀器性能的評(píng)估步驛附錄D(規(guī)范性附錄）NISTSRM2137深度部析步驛附錄E(資料性附錄）巡回測(cè)試統(tǒng)計(jì)報(bào)告

GB/T20176-2006/ISO14237:2000前本標(biāo)準(zhǔn)等同采用ISO14237:2000《表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜用均勺摻雜物質(zhì)測(cè)定硅中硼的原子濃度》。本標(biāo)準(zhǔn)附錄C、附錄D為規(guī)范性附錄.附錄A、附錄B、附錄E為資料性附錄。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出。本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)微束標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位：清華大學(xué)電子工程系。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：查良鎮(zhèn)、陳旭、黃雁華、王光普、黃天斌、劉林、葛欣、桂東

GB/T20176-2006/ISO14237:2000本標(biāo)準(zhǔn)為用二次離子質(zhì)譜（secondary-ionmassspeetrometry.SIMS)對(duì)均勻摻雜硅片中硼原子濃度的確定而制訂。SIMS的定量分析需要參考物質(zhì)。價(jià)格昂貴經(jīng)標(biāo)定的參考物質(zhì)僅適用于特定基體與雜質(zhì)的組合物。在每一次SIMS測(cè)量中都不可避免地要消耗這些參考物質(zhì)。每個(gè)實(shí)驗(yàn)室可制備標(biāo)定參考物質(zhì)校準(zhǔn)的二級(jí)參考物質(zhì),它們?cè)谌粘７治鲋泻苡杏帽緲?biāo)準(zhǔn)描述用二級(jí)參考物質(zhì)進(jìn)行單品硅中硼定量分析的標(biāo)準(zhǔn)步驛.該二級(jí)參考物質(zhì)經(jīng)已標(biāo)定注入硼參考物質(zhì)校準(zhǔn)

GB/T20176—2006/IS014237:2000表面化學(xué)分析二次離子質(zhì)譜用均勻摻雜物質(zhì)測(cè)定硅中硼的原子濃度范圍本標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)說(shuō)明了用標(biāo)定的均勾摻雜物質(zhì)(用注入硼的參考物質(zhì)校準(zhǔn))確定單品硅中硼的原子濃度的二次離子質(zhì)譜方法。它適用于均勾摻雜硼濃度范圍從1×10"atoms/cm2～1×10”atoms/cm2規(guī)范性引用文件下列文件中的條款通過(guò)本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。ISO5725-2：1994測(cè)量方法和結(jié)果的準(zhǔn)確度（真實(shí)性和精密度）第2部分：標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量方法重復(fù)性和再現(xiàn)性確定的基本方法3原理氧或絕離子束撞擊到樣品表面并對(duì)發(fā)射出的硼和硅的二次離子進(jìn)行質(zhì)量分析和檢測(cè)用均勾摻雜的二級(jí)參考物質(zhì)(經(jīng)離子注入原始參考物質(zhì)校準(zhǔn)過(guò)的)作為工作參考物質(zhì)參考物質(zhì)4.1原始參考物質(zhì)原始參考物質(zhì)用于確定二級(jí)參考物質(zhì)中硼的原子濃度。原始參考物質(zhì)應(yīng)是一種硅中注硼的已標(biāo)定參考物質(zhì)(certifiedreferencematerial,CRM)。?。好绹?guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和技術(shù)研究院（NationalnstituteofStandardsandTechnology.NIST）的標(biāo)準(zhǔn)參考物質(zhì)2137（NISTStandardReferenceMaterial2137,以下稱為NISTSRM）是當(dāng)前唯一指定的硅中硼已標(biāo)定參考物質(zhì)4.2二級(jí)參考物質(zhì)4.2.1二級(jí)參考物質(zhì)用于確定各測(cè)試樣品中硼的原子濃度。至少應(yīng)有一塊摻硼和一塊不摻硼的參考物質(zhì)用于日常分析。推薦用另兩塊不同硼摻雜水平的參考物質(zhì)來(lái)確定儀器的性能(見附錄C)。4.2.2二級(jí)參考物質(zhì)(以下稱為體參考物質(zhì))是單品硅片或外延層厚度約為100m的外延硅片,且應(yīng)該用具有天然同位素比的硼均勺摻雜。4.2.3應(yīng)該獲得具有硼原子濃度介于1×10"atoms/cm"～1×10”atoms/cm2間的硼摻雜晶片。推薦使用表1給出的3種摻雜水平。如果僅用一種水平,應(yīng)選擇RM-B或RM-C。還應(yīng)有一塊

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