GB/T 29557-2013表面化學(xué)分析深度剖析濺射深度測量

ICS7104040

G04..

中華人民共和國國家標準

GB/T29557—2013/ISO/TR159692001

:

表面化學(xué)分析深度剖析

濺射深度測量

Surfacechemicalanalysis—DepthProfiling—Measurmentofsputtereddepth

(ISO/TR15969:2001,IDT)

2013-07-19發(fā)布2014-03-01實施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布

中國國家標準化管理委員會

中華人民共和國

國家標準

表面化學(xué)分析深度剖析

濺射深度測量

GB/T29557—2013/ISO/TR15969:2001

*

中國標準出版社出版發(fā)行

北京市朝陽區(qū)和平里西街甲號

2(100013)

北京市西城區(qū)三里河北街號

16(100045)

網(wǎng)址

:

服務(wù)熱線

/p>

年月第一版

201311

*

書號

:155066·1-47504

版權(quán)專有侵權(quán)必究

GB/T29557—2013/ISO/TR159692001

:

前言

本標準按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標準使用翻譯法等同采用表面化學(xué)分析深度剖析濺射深度測量

ISO/TR15969:2001《》。

本標準由全國微束標準化技術(shù)委員會提出并歸口

(SAC/TC38)。

本標準負責(zé)起草單位中山大學(xué)浙江大學(xué)中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所

:、、。

本標準主要起草人陳建張訓(xùn)生謝方艷龔力張衛(wèi)紅盛世善

:、、、、、。

Ⅰ

GB/T29557—2013/ISO/TR159692001

:

引言

本標準適用于以下三個方面

:

當(dāng)檢測信號強度為濺射時間或離子劑量密度的函數(shù)時確定濺射剖析的深度標尺單位時

a)(),。

間的濺射深度為濺射速率通常以為單位

(nm/s)。

增強用不同儀器得到深度剖析數(shù)據(jù)的可比性提高深度剖析的可靠性并促進其在工業(yè)中的

b),

應(yīng)用

。

作為濺射深度測量國際標準發(fā)展的基礎(chǔ)

c)。

Ⅱ

GB/T29557—2013/ISO/TR159692001

:

表面化學(xué)分析深度剖析

濺射深度測量

1范圍

本標準規(guī)定了濺射深度剖析中測量濺射深度的準則

。

本標準適用于結(jié)合離子轟擊剝離部分固體樣品的表面化學(xué)分析技術(shù)通常濺射深度可達幾微米

,。

2術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本文件

。

注本標準使用的術(shù)語基本上遵循[1]的定義為了與制定的定義在術(shù)語上一

:ASTME673-95c。ISO/TC201/SC1

致這些定義應(yīng)作一定修改見參考文獻和

,,[2][3]。

21

.

濺射深度sputtereddepth

濺射剖析剝離一定量的物質(zhì)濺射后的樣品表面與樣品原始表面之間的距離z與表面垂

,(m)(

直定義為

),:

m

z=

A…………(1)

·ρ

式中

:

m剝離的樣品量單位為千克

———,(kg);

A濺射面積單位為平方米2

———,(m);

ρ樣品密度單位為千克每立方米3

———,(kg/m)。

22

.

弧坑深度craterdepth

原始表面與產(chǎn)生被測信號的弧坑底部區(qū)域的平均距離垂直于表面

()。

注假定入射離子注入與殘留在垂直于表面方向引起樣品的膨脹隆起可以忽略[5]則弧坑深度等于濺射深度

:(“”),。

如果在分析室外通過測量弧坑深度來測定濺射深度表面反應(yīng)如氧化會增加弧坑底部隆起即通常測量的弧

,(),

坑深度小于濺射深度

。

3縮略語

俄歇電子能譜

AESAugerelectronspectroscopy

原子力顯微術(shù)

AFMAtomicforcemicroscopy

能