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文檔簡介

1、    一種基于相位差濾波過程的新型連續(xù)相位板設(shè)計方法    李福建【摘 要】連續(xù)相位板是高強(qiáng)度激光系統(tǒng)束勻滑技術(shù)中的關(guān)鍵一環(huán),其作用是改變激光聚焦焦斑的形態(tài)?;趃erchberg-saxton算法,本文提出了一種新的連續(xù)相位板設(shè)計方法,通過對相位差進(jìn)行濾波,避免了傳統(tǒng)設(shè)計方法中遠(yuǎn)場緩變的要求及復(fù)雜的解相過程,從而達(dá)到節(jié)約計算時間,簡化編程的目的。同時通過控制相位差濾波參數(shù),能夠?qū)λO(shè)計的連續(xù)相位板形態(tài)進(jìn)行一定調(diào)控?!娟P(guān)鍵詞】束勻滑技術(shù);連續(xù)相位板設(shè)計;g-s算法: p228.4 : a : 2095-2457(2018)13-0001-002doi:

2、10.19694/ki.issn2095-2457.2018.13.0011 相位板設(shè)計簡介受控核聚變是人類解決能源問題的一大方向。為了利用聚變能,人們設(shè)計了不同類型的聚變裝置,其中慣性約束核聚變由于其技術(shù)的可行性,一直被寄予重望。在激光驅(qū)動的慣性約束核聚變裝置中,束勻滑裝置必不可少。束勻滑技術(shù)是實現(xiàn)聚變?nèi)剂蟽?nèi)爆過程的關(guān)鍵之一,對于控制激光等離子體作用影響很大。而束勻滑技術(shù)中,相位板的使用是焦斑形態(tài)的關(guān)鍵。相位板用于改變焦斑形態(tài),自從隨機(jī)相位板整型方法由kato于1983年提出1,相位板便被廣泛應(yīng)用于高強(qiáng)激光器中。而后人們又提出了相息相位板,連續(xù)相位板。根據(jù)光束傳播的菲涅爾衍射理論,對于波長的

3、光,用k表示其波矢,入射光場u(,)傳播距離z后所得到的u(x, y)有如下表達(dá)式:在經(jīng)過透鏡聚焦的情況下,有:焦斑與入射場間通過傅里葉變換聯(lián)系。所以在入射場函數(shù)u(,)上增加相位因子能改變焦斑形態(tài)。為了獲得特定形態(tài)的焦斑,相位板分布需特殊設(shè)計。g-s算法2因其快速便捷的特點,被廣泛應(yīng)用,g-s算法由gerchberg與saxton于1972年提出。g-s算法設(shè)計獲得的相位板存在不連續(xù)線,不連續(xù)線兩邊相位相差2。不連續(xù)線可以分為開環(huán)與閉環(huán)兩種,閉環(huán)來自于算法中取相位值的步驟,可通過解相消除。而開環(huán)來自于近場場強(qiáng)奇點3,無法消除。在高強(qiáng)度激光裝置中,相位板的不連續(xù)點容易被高強(qiáng)激光損壞,同時不連續(xù)

4、的邊緣也會將小部分光折射至大角度,從而損失能量。連續(xù)相位板由lin.y于1996年提出4,連續(xù)相位板(continuous phase plate,cpp)的使用避免了不連續(xù)結(jié)構(gòu),從而增大了能量利用率,延長了器件使用壽命。為了獲得連續(xù)相位板,人們提出了一些相應(yīng)的設(shè)計方法然而這些方法往往包括繁雜的解相位過程,效率較低。2 相位差濾波cpp設(shè)計方法2.1 相位差濾波cpp設(shè)計方法簡介相位差濾波cpp設(shè)計方法是一種新的改進(jìn)g-s算法,與傳統(tǒng)cpp算法相比,相位差濾波算法將濾波過程加在相位差上而不是相位上,由此避免了對相位濾波導(dǎo)致的相位分布大幅度變化,從而更容易達(dá)到收斂。給定入射場ein,目標(biāo)場eou

5、t,其過程如下:1.生成連續(xù)相位作為近場相位分布?漬1。其生成方法為對隨機(jī)矩陣以寬度d1濾波后乘以幅度常數(shù)a1。2.對近場分布enf=ein*exp(i*?漬1)作傅里葉變換,獲得遠(yuǎn)場分布eff。3.對eff卷積獲得遠(yuǎn)場分布包絡(luò)eev。4.通過比較遠(yuǎn)場包絡(luò)與目標(biāo)場分布,獲得變換矩陣t=eout/eev。5.在t上進(jìn)行寬度為dt的濾波過程。6.將t作用在遠(yuǎn)場分布eff上,得到新的遠(yuǎn)場分布e。7.對eff作逆傅里葉變換,獲得近場分布enf。8.取enf的相位分布?漬2,求出在0-2?仔范圍內(nèi)的相位差?漬d=?漬2-?漬1。9.對?漬d進(jìn)行寬度為dd的濾波得到?漬d,獲得新的近場相位分布?漬1=?漬

6、1+?漬d。10.比較遠(yuǎn)場eff與目標(biāo)場eout,如果遠(yuǎn)場沒達(dá)到要求且迭代次數(shù)沒達(dá)到限制次數(shù),重復(fù)2-9步驟;反之,結(jié)束迭代,???漬1為設(shè)計結(jié)果。為了使用相位差濾波算法設(shè)計cpp,需要確定的參數(shù)有:ein,eout,d1,a1,dt,dd。根據(jù)g-s算法的研究結(jié)果,a1選取為6?仔是合適的,所以固定a1為6?仔,選取ein為充滿采樣區(qū)域的平面波,目標(biāo)場為8階超高斯分布,寬度為半采樣寬度。2.2 收斂特性因為濾波過程的加入,新算法的收斂性難以證明。實際上如果參數(shù)選擇不當(dāng),相位差濾波算法將不收斂。故為了使用相位差濾波算法設(shè)計cpp,需要仔細(xì)考察其收斂特性以確定需要的迭代次數(shù)。取遠(yuǎn)場與目標(biāo)遠(yuǎn)場幅值差

7、的均方差考察g-s算法的收斂特性:可以看到均方差有不斷減小的趨勢。根據(jù)圖1,前10次迭代中均方差的減小最快,1000次迭代以后減小速度放緩,所以可以確定設(shè)計中所需要的迭代次數(shù)為1000次左右。最終均方差的數(shù)值下降到了0.3左右。2.3 設(shè)計結(jié)果除了效率更高,相位差濾波算法的另一優(yōu)勢是能通過改變d1與dd控制設(shè)計結(jié)果形態(tài)。選取分辨率為512*512,分別在d1,dd為80與d1,dd為40的情況下進(jìn)行cpp設(shè)計,結(jié)果如下。圖2cpp設(shè)計結(jié)果及相應(yīng)遠(yuǎn)場分布,其中(a),(b)分別是取d1,dd為80點時所得到的cpp與相應(yīng)遠(yuǎn)場焦斑,(c)(d)分別是取d1,dd為40點時所得到的cpp與相應(yīng)遠(yuǎn)場焦

8、斑??梢钥吹叫滤惴▽ο辔环植夹螒B(tài)控制的有效性:通過調(diào)整初始相位及濾波寬度,可以控制相位板的變化頻率。然而進(jìn)一步降低d1,dd到10時,遠(yuǎn)場分布與目標(biāo)分布出現(xiàn)了較大的偏差,存在明顯背景噪聲。此時獲得的cpp局部最大相位達(dá)到了40弧度。事實上濾波參數(shù)是不能隨意降低的,為了獲得目標(biāo)分布,光場必須具有一定空間頻率范圍,這可以通過不確定原理來理解:近場光場頻率的寬度與遠(yuǎn)場強(qiáng)度分布的寬度不能同時任意縮小,而cpp設(shè)計中,遠(yuǎn)場強(qiáng)度分布寬度是確定的,所以必然存在一個近場光場頻率寬度的最小值,如果選擇濾波參數(shù)小于此數(shù)值,設(shè)計結(jié)果必然出現(xiàn)背景噪聲以擴(kuò)大遠(yuǎn)場強(qiáng)度分布寬度。3 結(jié)論本文提出了一種相位差濾波算法,用于設(shè)

9、計高強(qiáng)激光系統(tǒng)中光束整形使用的連續(xù)相位板。這種新方法由于避免了傳統(tǒng)算法中復(fù)雜的解相過程而有著較高的效率。同時可以通過選擇不同的濾波參數(shù)直接對設(shè)計的cpp形態(tài)進(jìn)行控制。計算結(jié)果顯示,此算法設(shè)計的相位板遠(yuǎn)場形態(tài)與目標(biāo)函數(shù)接近,沒有背景噪聲,達(dá)到了焦斑整形的要求。【參考文獻(xiàn)】1y.kato,k.mima,n.miyanaga,s.arinaga,y.kitagawa,m.nakatsuka,and c.yamanaka, "random phasing of high-power lasers for uniform target acceleration and plasma-insta

10、bility suppression,"physical review letters 53,1057-1060(1984).2r.w.gerchberg,"a practical algorithm for the determination of phase from image and diffraction plane pictures,"optik 35, 237-250(1972).3h.aagedal,m.schmid,t.beth,s.teiwes,and f.wyrowski,"theory of speckles in diffrac

11、tive optics and its application to beam shaping,"journal of modern optics 43,1409-1421 (1996).4y.lin,t.j.kessler,and g.n.lawrence,"design of continuous surface-relief phase plates by surface-based simulated annealing to achieve control of focal-plane irradiance,"opt.lett.21,1703-1705(1996).5s.wen,j.hou,c.yang,h.yan,q.shi,and l.zhou,"design and fabrication of large-aperture continuous phase plates for back lighting,"laser & optoelectronics progress 48,052201-052201-

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